Atomic layer deposition of TiO2-xNx thin films for photocatalytic applications

Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry

Volumn 177, Issue 1, 2006, Pages 68-75

  Pore, Viljami ^a   Heikkilä, Mikko ^a   Ritala, Mikko ^a   Leskelä, Markku ^a   Areva, Sami ^b  

^a UNIVERSITY OF HELSINKI   (Finland)

^b ÅBO AKADEMI UNIVERSITY   (Finland)

Author keywords

ALD; Nitrogen doping; Photocatalysis; Thin films; Titanium dioxide

Indexed keywords

EID: 29144437752     PISSN: 10106030     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/j.jphotochem.2005.05.013     Document Type: Article

References (40)

1. A. Fujishima K. Honda Nature 238 1972 37
2. I. Nakamura N. Negishi S. Kutsuna T. Ihara S. Sugihara K. Takeuchi J. Mol. Catal. A: Chem. 161 2000 205
3. X.Z. Li F.B. Li C.L. Yang W.K. Ge J. Photochem. Photobiol. A: Chem. 141 2001 209
4. Y. Bessekhouad D. Robert J.V. Weber J. Photochem. Photobiol. A: Chem. 163 2004 569
5. H. Yamashita Y. Ichihashi M. Takeuchi S. Kishiguchi M. Anpo J. Synchrotron Radiat. 6 1999 451
6. M. Anpo M. Takeuchi K. Ikeue S. Dohshi Curr. Opin. Solid State Mater. Sci. 6 2002 381
7. T. Umebayashi T. Yamaki H. Itoh K. Asai J. Phys. Chem. Solids 63 2002 1909
8. R. Asahi T. Morikawa T. Ohwaki K. Aoki Y. Taga Science 293 2001 269
9. S.U.M. Khan M. Al-Shahry W.B. Ingler Science 297 2002 2243
10. S. Sakthivel H. Kisch Angew. Chem. Int. Ed. 42 2003 4908
11. T. Umebayashi T. Yamaki H. Itoh K. Asai Appl. Phys. Lett. 81 2002 454
12. H. Irie Y. Watanabe K. Hashimoto J. Phys. Chem. B 107 2003 5483
13. C. Burda Y. Lou X. Chen A.C.S. Samia J. Stout J.L. Gole Nano Lett. 3 2003 1049
14. J.L. Gole J.D. Stout C. Burda Y. Lou X. Chen J. Phys. Chem. B 108 2004 1230
15. T. Sano N. Negishi K. Koike K. Takeuchi S. Matsuzawa J. Mater. Chem. 14 2004 380
16. M. Miyauchi A. Ikezawa H. Tobimatsu H. Irie K. Hashimoto Phys. Chem. Chem. Phys. 6 2004 865
17. Y. Suda H. Kawasaki T. Ueda T. Oshima Thin Solid Films 453-454 2004 162
18. T. Morikawa R. Asahi T. Ohwaki K. Aoki Y. Taga Jpn. J. Appl. Phys. 40 2001 L561
19. T. Lindgren J.M. Mwabora E. Avendaño J. Jonsson A. Hoel C.-G. Granqvist S.-E. Lindquist J. Phys. Chem. B 107 2003 5709
20. J.-M. Chappé N. Martin J.F. Pierson G. Terwagne J. Lintymer J. Gavoille J. Takadoum Appl. Surf. Sci. 225 2004 29
21. S.-Z. Chen P.-Y. Zhang D.-M. Zhuang W.-P. Zhu Catal. Commun. 5 2004 677
22. M. Leskelä M. Ritala Thin Solid Films 409 2002 138
23. M. Ritala M. Leskelä in: H.S. Nalwa (Ed.), Handbook of Thin Film Materials vol. 1 2002 Academic Press New York 103-159
24. M. Lindblad S. Haukka A. Kytökivi E.-L. Lakomaa A. Rautiainen T. Suntola Appl. Surf. Sci. 121-122 1997 286
25. M. Ritala M. Leskelä E. Nykänen P. Soininen L. Niinistö Thin Solid Films 225 1993 288
26. M. Ritala M. Leskelä L. Niinistö P. Haussalo Chem. Mater. 5 1993 1174
27. M. Ritala M. Leskelä E. Rauhala Chem. Mater. 6 1994 556
28. K. Kukli M. Ritala M. Schuisky M. Leskelä T. Sajavaara J. Keinonen T. Uustare A. Hårsta Chem. Vap. Deposition 6 2000 303
29. V. Pore A. Rahtu M. Leskelä M. Ritala T. Sajavaara J. Keinonen Chem. Vap. Deposition 10 2004 143
30. M. Ritala M. Leskelä E. Rauhala P. Haussalo J. Electrochem. Soc. 142 1995 2731
31. M. Ritala M. Leskelä E. Rauhala J. Jokinen J. Electrochem. Soc. 145 1998 2914
32. T. Suntola Thin Solid Films 216 1992 84
33. M. Ylilammi T. Ranta-aho Thin Solid Films 232 1993 56
34. R. Swanepoel J. Phys. E: Sci. Instrum. 16 1983 1214
35. P. Sawunyama L. Jiang A. Fujishima K. Hashimoto J. Phys. Chem. B101 1997 11000
36. N.C. Saha H.G. Tompkins J. Appl. Phys. 72 1992 3072
37. G.R. Torres T. Lindgren J. Lu C.-G. Granqvist S.-E. Lindquist J. Phys. Chem. B 108 2004 5995
38. R. Nakamura T. Tanaka Y. Nakato J. Phys. Chem. B 108 2004 10617
39. E.-C. Lee Y.-S. Kim Y.-G. Jin K.J. Chang Phys. Rev. B 64 2001 085120
40. O. Diwald T.L. Thompson E.G. Goralski S.D. Walck J.T. Yates Jr. J. Phys. Chem. B 108 2004 52