Tuning the hole injection barrier at the organic/metal interface with self-assembled functionalized aromatic thiols

Journal of Physical Chemistry B

Volumn 110, Issue 51, 2006, Pages 26075-26080

  Chen, Wei ^a   Huang, Chun ^b   Gao, Xing Yu ^a   Wang, Li ^a   Zhen, Chang Gua ^b   Qi, Dongchen ^a   Chen, Shi ^a   Zhang, Hong Liang ^a   Loh, Kian Ping ^a   Chen, Zhi Kuan ^b   Wee, Andrew Thye Shen ^a  

^a NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE   (Singapore)

^b INSTITUTE OF MATERIALS RESEARCH AND ENGINEERING   (Singapore)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AROMATIC COMPOUNDS; HOLE MOBILITY; PHOTOEMISSION; SELF ASSEMBLY; SUBSTITUTION REACTIONS; SULFUR COMPOUNDS;

ALKANETHIOLS; ORGANIC FIELD-EFFECT TRANSISTORS (OFET); PHOTOEMISSION SPECTROSCOPY;

INTERFACES (MATERIALS);

EID: 33846346936     PISSN: 15206106     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp065821q     Document Type: Article

References (45)

1. Ishii, H.; Sugiyama, K.; Ito, E.; Seki, K. Adv. Mater. 1999, 11, 605.
2. (a) Knupfer, M.; Peisert, H. Phys. Status Solidi A 2004, 201, 1055.
3. (b) Peisert, H.; Knupfer, M.; Zhang, F.; Petr, A.; Dunsh, L.; Fink, J. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 3930.
4. (c) Peisert, H.; Knupfer, M.; Schwieger, T.; Fuentes, G. G.; Olligs, D.; Fink, J.; Schmidt, T. J. Appl. Phys. 2003, 93, 9683.
5. (d) Peisert, H.; Knupfer, M.; Fink, J. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 2400.
6. (e) Peisert, H.; Knupfer, M.; Schwieger, T.; Auerhammer, J. M.; Golden, M. S.; Fink, J. J. Appl. Phys. 2002, 91, 4872.
7. (a) Koch, N.; Duhm, S.; Rabe, J. P.; Vollmer, A.; Johnson, R. L. Phys. Rev. Lett. 2005, 95, 237601.
8. (b) Koch, N.; Duhm, S.; Rabe, J. P.; Rentenberger, S.; Johnson, R. L.; Klankermayer, J.; Schreiber, F. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 101905.
9. (c) Koch, N.; Elschner, A.; Rabe, J. P.; Johnson, R. L.; Adv. Mater. 2005, 17, 330.
10. (d) Koch, N.; Elschner, A.; Schwartz, J.; Kahn, A. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 2281.
11. (e) Koch, N.; Kahn, A.; Ghijsen, J.; Pireaux, J. J.; Schwartz, J.; Johnson, R. L. Elschner, A. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 70.
12. (a) Vazquez, H.; Gao, W.; Flores, F.; Kahn, A. Phys. Rev. B 2005, 71, 041306.
13. (b) Kera, S.; Yabuuchi, Y.; Yamane, H.; Setoyama, H.; Okudaira, K. K.; Kahn, A.; Ueno, N. Phys. Rev. B 2004, 70, 085304.
14. (c) Kahn, A.; Koch, N.; Gao, W. Y. J. Polym. Sci., Part B: Polym. Phys. 2003, 41, 2529.
15. (a) Bruner, E. L.; Koch, N.; Span, A. R.; Bernasek, S. L.; Kahn, A.; Schwartz, J. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 3192.
16. (b) Hanson, E. L.; Guo, J.; Koch, N.; Schwartz, J.; Bernasek, S. L. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 10058.
17. (c) Guo, J.; Koch, N.; Schwartz, J.; Bernasek, S. L. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 3966.
18. (d) McDowell, M.; Hill, I. G.; McDermott, J. E.; Bernasek, S. L. Schwartz, J. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 073505.
19. (e) Yan, H.; Huang, Q.; Cui, J.; Veinot, J. G. C.; Kern, M. M.; Marks, T. J. Adv. Mater. 2003, 15, 835.
20. (a) Khodabakhsh, S.; Sanderson, B. M.; Nelson, J.; Jones, T. S.; Adv. Funct. Mater. 2006, 16, 95.
21. (b) Khodabakhsh, S.; Poplavskyy, D.; Heutz, S.; Nelson, J.; Bradley, D. D.; Murata, H.; Jones, T. S. Adv. Funct. Mater. 2004, 14, 1205.
22. Tang, J. X.; Li, Y. Q.; Hung, L. S.; Lee, C. S. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 73.
23. Osikowicz, W.; Crispin, X.; Tengstedt, C.; Lindell, L.; Kugler, T.; Salaneck, W. R. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 1616.
24. (a) de Boer, B.; Hadipour, A.; Mandoc, M. M.; van Woudenbergh, T.; Bolm, P. W. M. Adv. Mater. 2005, 77, 621.
25. (b) Campbell, I. H.; Kress, J. D.; Martin, R. L.; Smith, D. L.; Barashkov, N. N.; Ferraris, J. P. Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 3528.
26. Alloway, D. M.; Hofmann, M.; Smith, D. L.; Gruhn, N. E.; Graham, A. L.; Colorado, R.; Wysocki, V. H.; Lee, T. R.; Lee, P. A.; Armstrong, N. R. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 11690.
27. Zehner, R. W.; Parsons, B. F.; Hsung, R.; Sita, L. R. Langmuir 1999, 15, 1121.
28. (a) Chen, W.; Xu, H.; Liu, L.; Gao, X. Y.; Qi, D. C.; Peng, G. W.; Tan, S. C.; Feng, Y. P.; Loh, K. P.; Wee, A. T. S. Surf. Sci. 2005, 596, 176.
29. (b) Yu, X. J.; Wilhelmi, O.; Moser, H. O.; Vidyarai, S. V.; Gao, X. Y.; Wee, A. T. S.; Nyunt, T.; Qian, H.; Zheng, H. J. Electron. Spectrosc. Relat. Phenom. 2005, 144-147, 1031.
30. Stöhr, J. NEXAFS Spectroscopy; Springer-Verlag: Berlin, New York, 1992.
31. Huang, C.; Yang, J. S.; Chen, W.; Loh, K. P.; Wee, A. T. S.; Chen, Z. K. Manuscript in preparation.
32. Chen, W.: Wang, L.; Huang, C.; Lin, T. T.; Gao, X. Y.; Loh, K. P.; Chen, Z. K.; Wee, A. T. S. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 935.
33. Chen, W.; Wang, L.; Qi, D.; Chen, S.; Wee, A. T. S. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 184102.
34. (a) Schwieger, T.; Peisert, H.; Golden, M. S.; Knupfer, M.; Fink, J. Phys. Rew. B 2002, 66, 155207.
35. (b) Seah, M. P.; Dench, W. A. Surf. Interface Anal. 1979, 1, 2.
36. (a) de Renzi, V.; Rousseau, R.; Marchetto, D.; Biagi, R.; Scandolo, S.; del Pennino, U. Phys. Rev. Lett. 2005, 95, 046804.
37. (b) Bagus, P. S.; Staemmler, V.; Wöll, C. Phys. Rev. Lett. 2002, 89, 096104.
38. (c) da Silva, J. L. F.; Stampfl, C. Scheffler, M. Phys. Rev. Lett. 2003, 90, 066104.
39. (d) Witte, G.; Lukas, S.; Bagus, P. S.; Wöll, C. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 263502.
40. (e) Ahn, H.; Zharnikov, M.; Whitten, J. E. Chem. Phys. Lett. 2006, 428, 283.
41. Tang, J. X.; Lau, K. M.; Lee, C. S.; Lee, S. T. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 232103.
42. Peisert, H.; Schwieger, T.; Auerhammer, J. M.; Knupfer, M.; Golden, M. S.; Fink, J. J. Appl. Phys,. 2001, 90, 466.
43. de Jong, M. P.; Friedlein, R.; Sorensen, S. L.; Öhrwall, G.; Osikowicz, W.; Tengsted, C.; Jönsson, S. K. M.; Fahlman, M.; Salaneck, W. R. Phys. Rev. B 2005, 72, 035448.
44. Hu, W. S.; Tao, Y. T.; Hsu, Y. J.; Wei, D. H.; Wu, Y. S. Langmuir 2005, 21, 2260.
45. Fritz, S. E.; Martin, S. M.; Frisbie, C. D.; Ward, M. D.; Toney, M. F. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 4084.