Photoemission study of hole-injection enhancement in organic electroluminescent devices with Au/CFx anode

Applied Physics Letters

Volumn 84, Issue 1, 2004, Pages 73-75

  Tang, J X ^a   Li, Y Q ^a   Hung, L S ^a   Lee, C S ^a  

^a CITY UNIVERSITY OF HONG KONG   (Hong Kong)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AMINES; CHEMICAL BONDS; CHEMICAL MODIFICATION; ELECTRIC FIELD EFFECTS; ELECTRON ENERGY LEVELS; EMISSION SPECTROSCOPY; FLUOROCARBONS; LIGHT EMITTING DIODES; PHOTOEMISSION; PLASMA POLYMERIZATION; SUBSTRATES; SURFACE PHENOMENA; THIN FILMS; ULTRAVIOLET SPECTROSCOPY; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; X RAY SPECTROSCOPY;

HOLE-INJECTION ENHANCEMENT; MOLECULAR DIPOLAR CHARACTERISTICS;

LUMINESCENT DEVICES;

EID: 0942278266     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1637945     Document Type: Article

References (21)

1. C. W. Tang and S. A. VanSlyke, Appl. Phys. Lett. 51, 913 (1987).
2. L. S. Hung and C. H. Chen, Mater. Sci. Eng., R. 39, 143 (2002).
3. H. Ishii, K. Sugiyama, E. Ito, and K. Seki, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 11, 605 (1999).
4. I. G. Hill, A. Rajagopal, A. Kahn, and Y. Hu, Appl. Phys. Lett. 73, 662 (1998).
5. W. Rieß, H. Riel, P. F. Seidler, and H. Vestweber, Synth. Met. 99, 213 (1999).
6. Z. B. Deng, X. M. Ding, S. T. Lee, and W. A. Gambling, Appl. Phys. Lett. 74, 2227 (1999).
7. W. Hu, K. Manabe, T. Furukawa, and M. Matsumura, Appl. Phys. Lett. 80, 2640 (2002).
8. Y. Yang, E. Westerweele, C. Zhang, P. Smith, and A. J. Heeger, J. Appl. Phys. 77, 694 (1995).
9. F. Nüesch, F. Rotzinger, L. Si-Ahmed, and L. Zuppiroli, Chem. Phys. Lett. 288, 861 (1998).
10. I. H. Campbell, J. D. Kress, R. L. Martin, D. L. Smith, N. N. Barashkov, and J. P. Ferraris, Appl. Phys. Lett. 71, 3528 (1997).
11. I. H. Campell, S. Rubin, T. A. Zawodzinski, J. D. Kress, R. L. Martin, D. L. Smith, N. N. Barashkov, and J. P. Ferraris, Phys. Rev. B 54, 14321 (1996).
12. R. W. Zehner, B. F. Parsons, R. P. Hsung, and L. R. Sita, Langmuir 15, 1121 (1999).
13. L. S. Hung, L. R. Zheng, and M. G. Mason, Appl. Phys. Lett. 78, 673 (2001).
14. A. Convertino, A. Valentini, A. Bassi, N. Cioffi, L. Torsi, and E. N. M. Cirillo, Appl. Phys. Lett. 80, 1565 (2002).
15. N. Cioffi, I. Losito, L. Torsi, I. Farella, A. Valentini, L. Sabbatini, P. G. Zambonin, and T. Bleve-Zacheo, Chem. Mater. 14, 804 (2002).
16. I. Sugimoto, Macromolecules 24, 1480 (1991).
17. M. K. Shi, B. Lamontagne, A. Selmani, L. Martinu, E. Sacher, M. R. Wertheimer; and A. Yelon, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 807 (1994).
18. M. G. Mason, L. S. Hung, C. W. Tang, S. T. Lee, K. W. Wong, and M. Wang, J. Appl. Phys. 86, 1688 (1999).
19. W. Pong and D. Paudyal, Phys. Rev. B 23, 3085 (1981).
20. N. Koch, A. Kahn, J. Ghijsen, J.-J. Pireaux, J. Schwartz, R. L. Johnson, and A. Elschner, Appl. Phys. Lett. 82, 70 (2003).
21. Q. T. Le, E. W. Forsythe, F. Nüesch, L. J. Rothberg, L. Yan, and Y. Gao, Thin Solid Films 363, 42 (2000).