Effect of annealing temperature and ambient gas on phosphorus doped p-type ZnO

Applied Physics Letters

Volumn 90, Issue 2, 2007, Pages

  Hwang, Dae Kue ^b   Oh, Min Suk ^b   Lim, Jae Hong ^b   Kang, Chang Goo ^b   Park, Seong Ju ^a  

^a Gwangju Institute of Science and Technology (GIST)   (South Korea)

^b NONE

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ACTIVATION ENERGY; ANNEALING; DOPING (ADDITIVES); FILM GROWTH; MAGNETRON SPUTTERING; PHOSPHORUS; THIN FILMS;

AMBIENT GAS; ANNEALING TEMPERATURE; RADIO FREQUENCY MAGNETRON SPUTTERING; THERMAL ACTIVATION;

ZINC OXIDE;

EID: 33846205579     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2430937     Document Type: Article

References (22)

1. Y. Chen, D. Bagnall, and T. Yao, Mater. Sci. Eng., B 75, 190 (2000).
2. D. C. Look, B. Claflin, Ya. I. Alivov, and S. J. Park, Phys. Status Solidi A 201, 2203 (2004).
3. A. Ohtomo, M. Kawasaki, T. Koida, K. Masubuchi, H. Koinuma, Y. Sakurai, Y. Yoshida, T. Yasuda, and Y. Segawa, Appl. Phys. Lett. 72, 2466 (1998).
4. T. Makino, Y. Segawa, M. Kawasaki, A. Ohtomo, R. Shiroki, K. Tamura, T. Yasuda, and H. Koinuma, Appl. Phys. Lett. 78, 1237 (2001).
5. C. G. Van de Walle, Phys. Rev. Lett. 85, 1012 (2000).
6. A. Kobayashi, O. F. Sankey, and J. D. Dow, Phys. Rev. B 28, 946 (1983).
7. K. Minegishi, Y. Koiwai, Y. Kikuchi, K. Yano, M. Kasuga and A. Shimizu, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 36, L1453 (1997).
8. Y. R. Ryu, S. Zhu, D. C. Look, J. M. Wrobel, H. M. Jeong, and H. W. White, J. Cryst. Growth 216, 330 (2000).
9. D. C. Look, D. C. Reynolds, C. W. Litton, R. L. Jones, D. B. Eason, and G. Cantwell, Appl. Phys. Lett. 81, 1830 (2002).
10. K. K. Kim, H. S. Kim, D. K. Hwang, J. H. Lim, and S. J. Park, Appl. Phys. Lett. 83, 63 (2003).
11. D. K. Hwang, S. H. Kang, J. H. Lim, E. J. Yang, J. Y. Oh, J. H. Yang, and S. J. Park, Appl. Phys. Lett. 86, 222101 (2005).
12. J. H. Lim, C. K. Kang, K. K. Kim, I. K. Park, D. K. Hwang, and S. J. Park, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 18, 2720 (2006).
13. E. C. Lee, Y. S. Kim, Y. G. Jin, and K. J. Chang, Phys. Rev. B 64, 085120 (2001).
14. J. H. Yang, H. S. Kim, J. H. Lim, D. K. Hwang, J. Y. Oh, and S. J. Park, J. Electrochem. Soc. 153, G242 (2006).
15. D. K. Hwang, H. S. Kim, J. H. Lim, J. Y. Oh, J. H. Yang, K. K. Kim, R. Navamathavan, and S. J. Park, Appl. Phys. Lett. 86, 151917 (2005).
16. K. K. Kim, S. Niki, J. Y. Oh, J. O. Song, T. Y. Seong, S. J. Park, S. Fujita, and S. W. Kim, J. Appl. Phys. 97, 066103 (2005).
17. CRC Handbook of Chemistry and Physics, edited by, D. R. Lide, (CRC, Boca Raton, FL, 2002), Vol. 83, pp. 9-52-9-56.
18. W. J. Lee, J. G. Kang, and K. J. Chang, Phys. Rev. B 73, 024117 (2006).
19. S. Limpijumnong, S. B. Zhang, S. H. Wei, and C. H. Park, Phys. Rev. Lett. 92, 155504 (2003).
20. B. Lin, Z. Fu, and Y. Jia, Appl. Phys. Lett. 79, 943 (2001).
21. A. F. Kohan, G. Ceder, D. Morgan, and C. G. Van de Walle, Phys. Rev. B 61, 15019 (2000).
22. S. B. Zhang, S.-H. Wei, and A. Zunger, Phys. Rev. B 63, 075205 (2001).