Study of alkyl organic monolayers with different molecular chain lengths directly attached to silicon

Langmuir

Volumn 22, Issue 24, 2006, Pages 9962-9966

  Ishizaki, Takahiro ^a   Saito, Nagahiro ^a   SunHyung, Lee ^a   Ishida, Kaoru ^a   Takai, Osamu ^a  

^a NAGOYA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AMORPHOUS MATERIALS; MOLECULAR DYNAMICS; MOLECULAR STRUCTURE; SILICON; X RAY DIFFRACTION; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

ALKYL ORGANIC MONOLAYERS; MOLECULAR CHAIN LENGTHS; PACKING DENSITY; X-RAY REFLECTIVITY (XR);

MONOLAYERS;

EID: 33846171585     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la052342u     Document Type: Article

References (35)

1. Sze, S. M. Physics of Semiconductor Devices, 2nd ed.; Wiley-Interscience New York, 1981.
2. Buczkowski, A.; Radzimski, Z. J.; Rozgonyi, G. A.; Shimura, F. J. Appl. Phys. 1991, 69, 6495.
3. Sieval, A. B.; Linke, R.; Zuilhof, H.; Sudhöter, E. J. R. Adv. Mater. 2000, 12, 1457.
4. Bansal, A.; Lewis, N. S. J. Phys. Chem. B 1998, 102, 4058.
5. Bansal, A.; Li, X.; Zi, S. I.; Weinberg, W. H.; Lewis, N. S. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 10266.
6. Bansal, A.; Lewis, N. S. J. Phys. Chem. B 1998, 102, 1067.
7. Royea, W. J.; Juang, A.; Lewis, N. S. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 1988.
8. Strother, T.; Cai, W.; Zhao, X.; Hamers, R. J.; Smith, L. M. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 1205.
9. Strother, T.; Hamers, R. J.; Smith, L. M. Nucleic Acids Res. 2000, 28, 3535.
10. Ara, M.; Graaf, H.; Tada, H. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 2565.
11. Sondaghuethorst, J.; Vanhelleputte, H.; Fokkink, L. Appl. Phys. Lett. 1994, 64, 285.
12. Kobayashi, S.; Nishikawa, T.; Takenobu, T.; Mori, S.; Shimoda, T.; Mitani, T.; Shimotani, H.; Yoshimoto, N.; Ogawa, S.; Iwasa, Y. Nat. Mater. 2004, 3, 317.
13. Ishii, H.; Sugiyama, K.; Ito, E.; Seki, K. Adv. Mater. 1999, 11, 605.
14. Park, J. S.; Vo, A. N.; Barriet, D.; Shon, Y-.S.; Lee, T. R. Langmuir 2005, 21, 2902.
15. Sieval, A. B.; Hout, B.; Zuilhof, H.; Sudhöter, E. I. R. Langmuir 2000, 16, 2987.
16. Sieval, A. B.; Hout, B.; Zuilhof, H.; Sudhöter, E. J. R. Langmuir 2001, 17, 2172.
17. Linford, M. R.; Chidsey, C. E. D. J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 12631.
18. Linford, M. R.; Fenter, P.; Eisenberger, P. M.; Chidsey, C. E. D. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 3145.
19. Sieval, A. B.; Demirel, A. L.; Nissink, J. W. M.; Lindord, M. R.; van der Maas, J. H.; de Jeu, W. H.; Zuilhof, H.; Sudhöter, E. J. R. Langmuir 1998, 14, 1759.
20. Effenberger, F.; Gotz, G.; Bidlingmaier, B.; Wezstein, M. Angew. Chem., Int. Ed. Engl. 1998, 37, 2462.
21. Saito, N.; Youda, S.; Hayashi, K.; Sugimura, H.; Takai, O. Surf. Sci. 2003, 532, 970.
22. Hurley, P. T.; Ribbe, A. E.; Buriak, J. M. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 11334.
23. Buriak, J. M.; Allen, M. J. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 1339.
24. Boukherroub, R.; Morin, S.; Bensebaa, F.; Wayner, D. D. M. Langmuir 1999, 15, 3831.
25. Boukherroub, R.; Morin, S.; Sharpe, P.; Wayner, D. Langmuir 2000, 16, 7429.
26. Munford, M. L.; Maroun, F.; Cortes, R.; Allongue, P.; Pasa, A. A. Surf. Sci. 2003, 537, 95.
27. In Annual Book of ASTM Standards; 1990; p F 576.
28. Tidswell, I. M.; Ocko, B. M.; Pershan, P. S.; Wasserman, S. R.; Whitesides, G. M. Phys. Rev. B 1990, 41, 1111.
29. Kojio, K.; Takahara, A.; Omote, K.; Kajiyama, T. Langmuir 2000, 16, 3932.
30. Kojio, K.; Takahara, A.; Kajiyama, T. Bull. Chem. Soc. Jpn. 2001, 74, 1397.
31. Takahara, A.; Kojio, K.; Kajiyama, T. Ultramicroscopy 2002, 97, 203.
32. Porter, M. D.; Bright, T. B.; Allara, D. L.; Chidsey, C. E. D. J. Am. Chem. Soc. 1987, 109, 3559.
33. Laibinis, P. E.; Whitesides, G. M.; Allara, D. L.; Tao, Y. T.; Parikh, A. N.; Nuzzo, R. G. J. Am. Chem. Soc. 1991, 113, 7152.
34. Saito, N.; Youda, S.; Hayashi, K.; Sugimura, H.; Takai, O. Chem. Lett. 2002, 31, 1194.
35. Muehlhoff, L.; Choyke, W. J.; Bozack, M. J.; Yates, J. T., Jr. J. Appl. Phys. 1986, 60, 2842.