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Volumn 914, Issue , 2006, Pages 191-196

Design an electroplated frame freestanding specimen for microtensile testing of submicron thin TaN and Cu film

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COPPER; ELECTROPLATING; SILICON WAFERS; SPUTTERING; TANTALUM COMPOUNDS; TENSILE TESTING;

EID: 33749634309     PISSN: 02729172     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: 10.1557/proc-0914-f09-16     Document Type: Conference Paper
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.