Effect of surface passivants on the photoluminescence from Si nanocrystals

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 48, Issue 6, 2006, Pages 1291-1296

  Yang, Moon Seung ^a   Shin, Jung H ^a   Kim, Kyung Joong ^b  

^a Korea Advanced Institute of Science and Technology (KAIST)   (South Korea)

^b Korea Research Institute of Standards and Science   (South Korea)

Author keywords

Photoluminescence; Quantum confinement; Si nanocrystals; Silicon oxynitride; Surface passivation

Indexed keywords

EID: 33746093490     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article

References (22)

1. L. T. Canham, Appl. Phys. Lett. 87, 1046 (1990).
2. L. Pavesi, S. Gaponenko and L. Dal Negro, Toward the First Silicon Laser (Kluwer Academic Publisher, Dordrecht, 2002).
3. G. Franzo A. Irrera, E. C. Moreira, M. Miritello, F. Iacona, D. Sanfilippo, G. Di. Sefano, P. G. Fallica and F. Priolo, Appl. Phys. A 74, 1 (2002).
4. L. Pavesi, L. Dal Negro, C. Mazzoleni, G. Franzo and F. Priolo, Nature 408, 440 (2000).
5. H. Han, S. Seo and J. H. Shin, Appl. Phys. Lett. 79, 4568 (2001).
6. S. H. Hong, S. Kim, S. H. Choi, K. J. Lee, H. S. Lee, K. J. Kim and D. W Moon, J. Korean Phys. Soc, 45, 116 (2004).
7. F. Iacona, G. Franzo and C. Spinella, J. Appl. Phys. 87, 1295 (2002).
8. J. S. Bae, S. H. Choi, K. J. Kim and D. W. Moon, J. Korean Phys. Soc. 43, 557 (2003).
9. Y. Sun, S. Y. Seo, J. H. Shin, T. G. Kim, C. N. Whang and J. H. Song, J. Korean Phys. Soc. 30, S83 (2001).
10. M. V. Wolkin, J. Jorne, P. M. Fauchet, G. Allan and C. Delerue, Phys. Rev. Lett. 8, 197 (1999).
11. A. Puzder, A. J. Williamson, J. C. Grossman and G. Galli, J. Am. Chem. Soc. 125, 2786 (2003).
12. N. M. Park, C. J. Choi, T. Y. Seong and S. J. Park, Phys. Rev. Lett. 86, 1355 (2001).
13. H. Kato, N. Kashio, Y. Ohki, K. S. Seol and T. Noma, J. Appl. Phys. 93, 239 (2003).
14. Y. Q. Wang, Y. G. Wang, L. Cao and Z. X. Cao, Appl. Phys. Lett. 83, 3474 (2003).
15. V. A. Gritsenko, K. S. Zhuravlev, A. D. Milov, Hei Wong, R. W. M. Kwok and J. B. Xu, Thin Solid Films 353, 20 (1999).
16. M. Molinari, H. Rinnert, M. Vergnat and P. Weisbecker, Mat. Sci. Eng B 101, 186 (2003).
17. L. Wang, Z. Ma, X. Huang, Z. Li, J. Li, Y. Bao, J. Xu, W. Li and K. Chen, Solid State Com. 117, 239 (2001).
18. L. Torrison, J. Tolle, D. J. Smith, C. Poweleit, J. Menendez, M. M. Mitan, T. L. Alford and J. Kouvetakis, J. Appl. Phys. 92, 7475 (2002).
19. Y. J. Park, T. K. Lee, C. H. Lee and E. K. Kim, J. Korean Phys. Soc. 44, 700 (2004).
20. K. S. Min, K. V. Shcheglov, C. M. Yang, H. A. Atwater, M. L. Brongersma and A. Polman, Appl. Phys. Lett. 69, 2033 (1996).
21. S. Cheylan and R. G. Elliman, Appl. Phys. Lett. 78, 1225 (2001).
22. A. Puzder, A. J. Williamson, Jeffrey C. Grossman and G. Galli, J. Chem. Phys. 117, 6721 (2002).