Scanning probe microscope based nanolithography on conducting polymer films

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers

Volumn 45, Issue 3 B, 2006, Pages 2095-2098

  Balocco, C ^a   Jones, A G ^a   Kingsley, J M ^a   Chan, J R ^a   Huang, X Q ^a   Song, A M ^a  

^a UNIVERSITY OF MANCHESTER   (United Kingdom)

Author keywords

Atomic force microscope; Conducting polymer; Nano indentation; Nanolithography; Organic semiconductor; Poly(3 hexylthiophene); Thin film

Indexed keywords

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; NANOTECHNOLOGY; PHOTORESISTS; POLYMERS; PROBES; SEMICONDUCTING ORGANIC COMPOUNDS; THIN FILMS;

CONDUCTING POLYMERS; NANO-INDENTATION; POLY(3-HEXYLTHIOPHENE);

SEMICONDUCTING FILMS;

EID: 33645519663     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.45.2095     Document Type: Article

References (29)

1. C. D. Dimitrakopoulos and P. R. L. Malenfant: Adv. Mater. 14 (2002) 99.
2. S. Holdcroft: Adv. Mater. 13 (2001) 1753.
3. I. Kymissis, C. D. Dimitrakopoulos and S. Purushothaman: J. Vac. Sci. Technol. B 20 (2002) 956.
4. Z. Bao, Y. Feng, A. Dodabalapur, V. R. Raju and A. J. Lovinger: Chem. Mater. 9 (1997) 1299.
5. S. C. Chang, J. Bharathan, Y. Yang, R. Helgeson, F. Wudl, M. B. Ramey and J. R. Reynolds: Appl. Phys. Lett. 73 (1998) 2561.
6. T. R. Hebner, C. C. Wu, D. Marcy, M. H. Lu and J. C. Sturm; Appl. Phys. Lett. 72 (1998) 519.
7. J. A. Rogers, Z. Bao, A. Makhijia and P. Braun: Adv. Mater. 11 (1999) 741.
8. F. J. Touwslager, N. P. Willard and D. M. de Leeuw: Appl. Phys. Lett. 81 (2002) 4556.
9. J. R. Sheats: J. Mater. Res. 19 (2004) 1974.
10. Z. L. Li, S. C. Yang, H. F. Meng, Y. S. Chen, Y. Z. Yang, C. H. Liu, S. F. Horng, C. S. Hsu, L. C. Chan, J. P. Hu and R. H. Lee: Appl. Phys. Lett. 84 (2004) 3558.
11. J. R. Chan, X. Q. Huang and A. M. Song: J. Appl. Phys. 99 (2006) 023710.
12. M. D. Austin and S. Y. Chou: Appl. Phys. Lett. 81 (2002) 4431.
13. A. Tsumura, H. Koezuka and T. Ando: Appl. Phys. Lett. 49 (1986) 1210.
14. H. Sirringhaus, N. Tessler and R. H. Friend: Science 280 (1998) 1741.
15. M. A. McCord and R. F. W. Pease: Appl. Phys. Lett. 50 (1987) 569.
16. M. Wendel, S. Kühn, H. Lorenz, J. P. Kotthaus and M. Holland: Appl. Phys. Lett. 65 (1994) 1775.
17. B. Irmer, R. H. Blick, F. Simmel, W. Gödel, H. Lorenz and J. P. Kotthaus: Appl. Phys. Lett. 73 (1998) 2051.
18. H. W. Schuhmacher, U. F. Keyser, U. Zeitler, R. J. Haug and K. Eberl: Appl. Phys. Lett. 75 (1999) 1107.
19. R. S. Becker, G. S. Higashi, Y. J. Chabal and A. J. Becker: Phys. Rev. Lett. 65 (1990) 1917.
20. J. A. Dagata: Science 270 (1990) 1625.
21. M. Ishii and K. Matsumoto: Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) 1329.
22. R. Held, T. Vancura, T. Heinzel, K. Ensslin. M. Holland and W. Wegscheider: Appl. Phys. Lett. 73 (1998) 262.
23. P. Avouris, R. Martel, T. Hertel and R. Sandstrom: Appl. Phys. A 66 (1998) S659.
24. A. A. Tseng, A. Notargiacomo and T. P. Chen: J. Vac. Sci. Technol. B 23 (2005) 877.
25. A. Salleo, M. L. Chabinyc, M. S. Yang and R. A. Street: Appl. Phys. Lett. 81 (2002) 4383.
26. A. G. Jones, C. Balocco and A. M. Song: to be published.
27. A. M. Song, P. Omling, L. Samuelson, W. Seifert, I. Shorubalko and H. Zirath: Jpn. J. Appl. Phys. 40 (2001) L909.
28. A. M. Song, P. Omling, L. Samuelson, W. Seifert, I. Shorubalko and H. Zirath: Appl. Phys. Lett. 79 (2001) 1357.
29. C. Balocco, A. M. Song, M. Åberg, A. Forchel, T. Gonzalez, J. Mateos, I. Maximov, M. Missous, A. A. Rezazadeh, J. Saijets, L. Samuelson, D. Wallin, K. Williams, L. Worschech and H. Q. Xu: Nano Lett. 5 (2005) 1423.