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Volumn 9, Issue 2, 2006, Pages

Silicon nanowires by aluminum-induced crystallization of amorphous silicon

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ALUMINUM; AMORPHOUS SILICON; CRYSTALLIZATION; PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; RAPID THERMAL ANNEALING; SILICON; STRESS ANALYSIS; THERMAL EFFECTS;

EID: 33645505793     PISSN: 10990062     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.2139979     Document Type: Article
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.