Thin-film transistors based on ZnO fabricated by using radio-frequency magnetron sputtering

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 48, Issue 2, 2006, Pages 271-274

  Navamathavan, R ^a   Lim, Jae Hong ^a   Hwang, Dae Kue ^a   Kim, Baek Hyun ^a   Jin Yong, O H ^a   Yang, Jin Ho ^a   Kim, Hyun Sik ^a   Park, Seong Ju ^a   Jang, Jae Hyung ^a  

^a Gwangju Institute of Science and Technology (GIST)   (South Korea)

Author keywords

RF magnetron sputtering; Thin film transistor; Zinc oxide

Indexed keywords

EID: 33644916675     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article

References (17)

1. K. Nomura, H. Ohta, K. Ueda, T. Kamiya, M. Hirano and H. Hosono, Science 300, 1269 (2003).
2. J. F. Wager, Science 300, 1245 (2003).
3. C. R. Kagan and P. Andry, Thin Film Transistors (Marcel Dekker, New York, 2003), p. 20.
4. S. J. Song, S. Lee, J. B. Park, H. J. Yang, Y. K. Ko, J. G. Lee, B. S. Cho, C. O. Jeong and K. H. Chung, Appl. Phys. Lett. 83, 3419 (2003).
5. S. Wagner, H. Gleskova, I. C. Cheng and M. Wu, Thin Solid Films 430, 15 (2003).
6. S. Masuda, K. Kitamura, Y. Okumura, S. Miyatake, H. Tabata and T. Kawai J. Appl. Phys. 93, 1624 (2003).
7. J. Nishii, F. M. Hossain, S. Takagi, T. Aita, K. Saikusa, Y. Ohmaki, I. Ohkubo, S. Kishimoto, A. Ohmoto, T. Fukumura, F. Matsukura, Y. Ohno, H. Koinuma, H. Ohno and M. Kawasaki, Jpn. J. Appl. Phys. 42, L347 (2003).
8. P. F. Carcia, R. S. McLean, M. H. Reilly and G. Nunes, Appl. Phys. Lett. 82, 1117 (2003).
9. B. J. Norris, J. Anderson, J. F. Wager and D. A. Keszler, J. Phys. D: Appl. Phys. 36, L105 (2003).
10. R. L. Hoffman, B. J. Norris and J. F. Wager, Appl. Phys. Lett. 82, 733 (2003).
11. F. M. Hossain, J. Nishii, S. Takagi, T. Sugihara, A. Ohtomo, T. Fukumura, H. Koinuma, H. Ohno and M. Kawasaki, Physica E 21, 911 (2003).
12. F. M. Hossain, J. Nishii, S. Takagi, A. Ohtomo, T. Fukumura, H. Fujioka, H. Ohno, H. Koinuma and M. Kawasaki, J. Appl. Phys. 94, 7768 (2003).
13. H. S. Bae, M. H. Yoon, J. H. Kim and S. Im, Appl. Phys. Lett. 83, 5313 (2003).
14. H. S. Bae and S. Im, J. Vac. Sci. Technol. B 22, 1191 (2003).
15. E. M. C. Fortunato, P. M. C. Barquinha, A. C. M. B. G. Pimentel, A. M. F. Goncalves, A. J. S. Marques, R. F. P. Martins and L. M. N. Pereira, Appl. Phys. Lett. 85, 2541 (2004).
16. J. D. Plummer, M. Deal and P. B. Griffin, Silicon VLSI Technology (Prentice Hall, New Jersey, 2000), p. 356.
17. A. J. Flewitt, A. P. Dyson, J. Robertson and W. I. Milne, Thin Solid Films 383, 172 (2001).