Thermal stability of Al 2O 3-HfO 2 laminate, Hf-Al-O alloy and HfO 2 thin films on Si

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 46, Issue SUPPL., 2005, Pages

  Jin, Hua ^a   Oh, Suhk Kun ^a   Kang, Hee Jae ^a   Lee, Seoung Woo ^a   Lee, Youn Seoung ^b   Lim, Kwan Young ^c  

^a Chungbuk National University   (South Korea)

^b Hanbat National University   (South Korea)

^c Hynix Semiconductor Inc   (South Korea)

Author keywords

Atomic layer growth; High K dielectrics; Thermal stability; X ray photoelectron spectroscopy

Indexed keywords

EID: 20444437665     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Conference Paper

References (16)

1. D. A. Muller, T. Sorsch, S. Moccio, F. H. Baumann, K. E. Lutterodt and G. Timp, Nature 399, 758 (1999).
2. G. D. Wilk, M. L. Green, M.-Y. Ho, B. W. Busch, T. W. Sorsch, F. P. Klemens, B. Brijs, R. B. Van Dover, A. Kornblit, T. Gustafsson, E. Garfunkel, S. Hillenius, D. Monroe, P. Kalavade and J. M. Hergenrother, Tech. Dig. VLSI Symp. 88 (2002).
3. G. D. Wilk, R. M. Wallace and J. M. Anthony, J. Appl. Phys. 89, 5243 (2001).
4. M. Copel, E. Cartier, E. P. Gusev, S. Guha, N. Bojarczuk and M. Poppeller, Appl. Phys. Lett. 78, 2670 (2001).
5. B. H. Lee, L. Kang, W. J. Qi, R. Nieh, Y. Jeon, K. Onishi and J. C. Lee, Tech. Dig.-Int. Electron Devices Meet 1999, 133, (1999).
6. M. Houssa, M. Tominen, M. Naili, V. Afanas'ev, A. Stesmans, S. Haukka and M. M. Heyns, J. Appl. Phys. 87, 8615 (2000).
7. T.-H. Lee, J.-H. Ahn, J. M. Oh, Y. D. Kim, Y. B. Kim, D. K. Choi and J. H. Jung, J. Korean Phys. Soc. 42, 272 (2003).
8. Y. B. Kim, M. S. Kang, D. K. Choi, T. Lee and J. Ahn, J. Korean Phys. Soc. 42, 1146 (2003).
9. S. W. Choi, J. Y. Koo, H. T. Jeon and Y. D. Kim, J. Korean Phys. Soc. 44, 35 (2004).
10. M. Balog, N. Schieber, M. Michiman and S. Patai, Thin Solid Films 41, 247 (1977).
11. T. Yamaguchi, H. Satake, N. Fukushima and A. Toriumi, Appl. Phys. Lett. 80, 1987(2002)
12. J. F. Moulder, W. F. Stickle, P. E. Sobol and K. D. Bomben, Handbook of X-ray photoelectron spectroscopy, 1995.
13. G. D. Wilk, R. N. Wallace and J. N. Anthony, J. Appl. Phys. 87, 484 (2000).
14. B. H. Lee, R. N. Choi, L. G. Kang, S. Gopalan, R. Nieh, K. Onishi, Y. J. Jeon, W. J. Qi, Ch. S. Kang and J. C. Lee, IEEE (2000).
15. H. Watanabe and N. Ikarashi, Appl. Phys. Lett. 80, 559 (2002).
16. K. Muraoka, Appl. Phys. Lett. 80, 4516 (2002).