Bonding properties and temperature dependence characteristic of amorphous carbon nitride thin films prepared by pulsed laser deposition for solar cell applications

Modern Physics Letters B

Volumn 19, Issue 3, 2005, Pages 99-112

  Rusop, M ^a   Soga, T ^a   Jimbo, T ^a   Umeno, M ^b  

^a NAGOYA INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (Japan)

^b CHUBU UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

a C:N; Amorphous carbon nitride; Nitrogen doping; Photovoltaic; Pulsed laser deposition

Indexed keywords

CARBON; NITROGEN;

ARTICLE; ATOM; CHEMICAL BINDING; CONDUCTANCE; ELECTRIC POTENTIAL; ENERGY; ILLUMINATION; PRESSURE; ROOM TEMPERATURE; TEMPERATURE DEPENDENCE;

EID: 17144406836     PISSN: 02179849     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1142/S0217984905008098     Document Type: Article

References (31)

1. V. S. Veerasamy, G. A. J. Amaratunga, C. A. Davis, A. E. Timbs, W. I. Milne and D. R. Mackenzie, J. Phys.: Condens. Matter 5 (1993) 169.
2. K. Kadas, G. G. Ferenczy and S. Kugler, J. Non-Cryst. Solids 227 (1998) 367.
3. Z. B. Zhou, R. Q. Cui, Q. J. Pang, G. M. Hadi, Z. M. Ding and W. Y. Li, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 70 (2002) 487.
4. L. K. Cheah, X. Shi, E. Liu and J. R. Shi, Appl. Phys. Lett. 73 (1998) 4273.
5. V. S. Veerasamy, J. Yuan, G. A. J. Amaratunga, W. I. Milne, K. W. R. Gilkes, M. Weiler and L. M. Brown, Phys. Rev. B48 (1993) 17954.
6. D. I. Jones and A. D. Stewart, Philos. Mag. B46 (1982) 423.
7. M. Alaluf, L. Klibanov and N. Croitoru, Diamond Relat. Mater. 5 (1996) 1497.
8. M. Rusop, S. M. Mominuzzaman, X. M. Tian, T. Soga, T. Jimbo and M. Umeno, Appl. Surf. Sci. 197 (2002) 542.
9. A. Matsuda, T. Yamaoka, S. Wolff, M. Koyama, Y. Ymanishi, H. Kataoka, H. Matsuura and K. Tanaka, J. Appl. Phys. 60 (1986) 4025.
10. D. B. Chrisey and G. K. Hubler, Pulsed Laser Deposition of Thin Films (J. Wiley, New York, 1994).
11. Y. K. Hong, J. J. Kim, J. S. Kim, C. Jeon, C. Park and J. K. Kim, Appl. Surf. Sci. 146 (1999) 269.
12. Y. Tanabe, G. Burkhard, T. Ishikura, K. Tsunoda, H. Hasuo, M. Tamura, H. Tamura, A. Sawaoka and K. Uematsu, Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994) 6684.
13. H. C. Barshila, S. Sah, B. R. Mehta, V. D. Vankar, D. K. Avasthi and G. K. Mehta, Thin Solid Films 258 (1995) 123.
14. N. Nakayama, Y. Tsuchiya, S. Tamada, K. Kosuge, S. Nagata, K. Takahiro and S. Yamaguchi, Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) 1465.
15. A. Bousetta, M. Lu, A. Bensaola and A. Schults, Appl. Phys. Lett. 65 (1994) 696.
16. Z. J. Zhang, S. Fan and C. M. Lieber, Appl. Phys. Lett. 66 (1995) 3582.
17. W. T. Zeng, E. Broitman, N. Hellgren, K. Z. Xing, I. Ivanov, H. Sjostrom, L. Hultman and J. E. Sundgren, Thin Solid Films 308 (1997) 223.
18. P. Hammer, M. A. Baker, C. Lenardi and W. Gissler, J. Vac. Sci. Technol. A15 (1997) 107.
19. M. Wixom, J. Am. Ceram. Soc. 73 (1990) 1973.
20. Y. Taki, T. Kitagawa and O. Takai, Thin Solid Films 304 (1997) 183.
21. J. F. Kaufman, S. Metin and D. D. Saperstein, Phys. Rev. B39 (1989) 13053.
22. Y. Aoi, K. Ono and E. Kamijo, J. Appl. Phys. 86 (1999) 2318.
23. M. Friedrich, T. Welzel, R. Rochotzki, H. Kupfer and D. R. T. Zohn, Diamond Relat. Mater. 6 (1997) 33.
24. X. A. Zhao, C. W. Ong, Y. C. Tsang, Y. W. Wong, P. W. Chan and C. L. Choy, Appl. Phys. Lett. 66 (1995) 2652.
25. S. L. Sung, C. H. Tseng, F. K. Chiang, X. J. Guo and X. W. Liu, Thin Solid Films 340 (1999) 169.
26. S. Orzeszko, W. Bala, K. Fabisiak and F. Rozploch, Phys. Status Solidi 81 (1984) 579.
27. J. Tauc, R. Grigorovici and A. Vancu, Phys. Status Solidi 15 (1966) 527.
28. S. Bhattacharyya, C. Vallee, C. Cardinaud, O. Chauvet and G. Turban, J. Appl. Phys. 85 (1999) 2162.
29. J. V. Anguita and S. R. P. Silva, Diamond Relat. Mater. 9 (2000) 777.
30. D. Chen, A. Wei, S. P. Wong and S. Peng, Diamond Relat. Mater. 8 (1999) 1130.
31. S. Nitta, N. Takada, K. Sugiyama, T. Itoh and S. Nonomura, J. Non-Cryst. Solids 230 (1998) 655.