Vapor-solid growth and characterization of aluminum nitride nanocones

Journal of the American Chemical Society

Volumn 127, Issue 4, 2005, Pages 1318-1322

  Liu, Chun ^a   Hu, Zheng ^a   Wu, Qiang ^a   Wang, Xizhang ^a   Chen, Yi ^a   Sang, Hai ^a   Zhu, Jianmin ^a   Deng, Shaozhi ^b   Xu, Ningsheng ^b  

^a NANJING UNIVERSITY   (China)

^b SUN YAT SEN UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CATALYSTS; CRYSTAL GROWTH; ELECTRON EMISSION; NANOSTRUCTURED MATERIALS; NANOTECHNOLOGY; PHOTOLUMINESCENCE; REACTION KINETICS; SILICON WAFERS;

EMISSION CURRENTS; GROWTH MECHANISMS; NANOCONES; PHOTON STRUCTURE;

ALUMINUM COMPOUNDS;

ALUMINUM NITRATE;

ARTICLE; CATALYST; CHEMICAL REACTION; CHEMICAL STRUCTURE; COATED PARTICLE; ELECTRIC FIELD; FIELD EMISSION; GROWTH; NANOTECHNOLOGY; PHOTOLUMINESCENCE; PHOTON; SEMICONDUCTOR; SOLID; TEMPERATURE; VAPOR;

EID: 13644265609     PISSN: 00027863     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ja045682v     Document Type: Article

References (53)

1. Iijima, S. Nature 1991, 354, 56-58.
2. (a) Chopra, N. G.; Luyken, R. J.; Cherrey, K.; Crespi, V. H.; Cohen, M. L.; Louie, S. G.; Zettl, A. Science 1995, 269, 966-967.
3. (b) Suenaga, K.; Colliex, C.; Demoncy, N.; Loiseau, A.; Pascard, H.; Willaime, F. Science 1997, 278, 653-655.
4. (a) Remskar, M.; Mrzel, A.; Skraba, Z.; Jesih, A.; Ceh, M.; Demšar, J.; Stadelmann, P.; Lévy, F.; Mihailovic, D. Science 2001, 292, 479-481.
5. (b) Krumeich, F.; Muhr, H. J.; Niederberger, M.; Bieri, F.; Schnyder, B.; Nesper, R. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 8324-8331.
6. Rosenfeld Hacohen, Y.; Grunbaum, E.; Tenne, R.; Sloan, J.; Hutchison, J. L. Nature 1998, 395, 336-337.
7. Wu, Q.; Hu, Z.; Wang, X. Z.; Lu, Y. N.; Chen, X.; Xu, H.; Chen, Y. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 10176-10178.
8. Goldberger, J.; He, R. R.; Zhang, Y. F.; Lee, S.; Yan, H. Q.; Choi, H. J.; Yang, P. D. Nature 2003, 422, 599-602.
9. (a) Carbon Nanotubes; Dresselhaus, M. S., Dresselhaus, G., Avouris, P., Eds.; Springer: Berlin, 2001; pp 117-400.
10. (b) Baughman, R. H.; Zakhidov, A. A.; de Heer, W. A. Science 2002, 297, 787-792.
11. (c) Tian, Y. J.; Hu, Z.; Yang, Y.; Wang, X. Z.; Chen, X.; Xu, H.; Wu, Q.; Ji, W. J.; Chen, Y. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 1180-1183.
12. Xia, Y. N.; Yang, P. D.; Sun, Y. G.; Wu, Y. Y.; Mayers, B.; Gates, B.; Yin, Y. D.; Kim, F.; Yan, H. Q. Adv. Mater. 2003, 15, 353-389.
13. Morales, A. M.; Lieber, C. M. Science 1998, 279, 208-211.
14. (a) Chen, C. C.; Yeh, C. C.; Chen, C. H.; Yu, M. Y.; Liu, H. L.; Wu, J. J.; Chen, K. H.; Chen, L. C.; Peng, J. Y.; Chen, Y. F. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123. 2791-2798.
15. (b) Duan, X. F.; Huang, Y.; Cui, Y.; Wang, J. F.; Lieber, C. M. Nature 2001, 409, 66-69.
16. (c) Guo, L.; Ji, Y. L.; Xu, H. B.; Simon, P.; Wu, Z. Y. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 14864-14865.
17. (d) Wu, Q.; Hu, Z.; Wang, X. Z.; Lu, Y. N.; Huo, K. F.; Deng, S. Z.; Xu, N. S.; Shen, B.; Zhang, R.; Chen, Y. J. Mater. Chem. 2003, 13, 2024-2027.
18. (e) Haber, J. A.; Gibbons, P. C.; Buhro, W. E. J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 5455-5456.
19. (f) Haber, J. A.; Gibbons, P. C.; Buhro, W. E. Chem. Mater. 1998, 10, 4062-4071.
20. (g) Zhang, Y. J.; Liu, J.; He, R. R.; Zhang, Q.; Zhang, X. Z.; Zhu, J. Chem. Mater. 2001, 13, 3899-3905.
21. (h) Liu, J.; Zhang, X.; Zhang, Y. J.; He, R. R.; Zhu, J. J. Mater. Res. 2001, 16, 3133-3138.
22. (i) Tang, C. C.; Fan, S. S.; de la Chapelle, M. L.; Li, P. Chem. Phys. Lett. 2001, 333, 12-15.
23. (j) Jensen, L. E.; Björk, M. T.; Jeppesen, S.; Persson, A. I.; Ohlsson, B. J.; Samuelson, L. Nona Lett. 2004, 4, 1961-1964.
24. (a) Hu, J. T.; Ouyang, M.; Yang, P. D.; Lieber, C. M. Nature 1999, 399, 48-51.
25. (b) Gudiksen, M. S.; Lauhon, L. J.; Wang, J. F.; Smith, D. C.; Lieber, C. M. Nature 2002, 415, 617-620.
26. Pan, Z. W.; Dai, Z. R.; Wang, Z. L. Science 2001, 297, 1947-1949.
27. Zhang, H. F.; Dohnalkova, A. C.; Wang, C. M.; Young, J. S.; Buck, E. C.; Wang, L. S. Nano Lett. 2002, 2, 105-108.
28. (a) Wu, Q.; Hu, Z.; Wang, X. Z.; Chen, Y.; Lu, Y. N. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 9726-9729.
29. (b) Bae, S. Y.; Seo, H. W.; Park, J.; Yang, H.; Park, J. C.; Lee, S. Y. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 126-128.
30. (a) Huang, Y.; Duan, X. F.; Cui, Y.; Lieber, C. M. Nano Lett. 2002, 2, 101-104.
31. (b) Wang, J. F.; Gudiksen, M. S.; Duan, X. F.; Cui, Y.; Lieber, C. M. Science 2001, 293, 1455-1457.
32. (c) Huang, M. H.; Mao, S.; Feick, H.; Yan, H. Q.; Wu, Y. Y.; Kind, H.; Weber, E.; Russo, R.; Yang, P. D. Science 2001, 292, 1897-1899.
33. (a) Zhang, G. Y.; Jiang, X.; Wang, E. G. Science 2003, 300, 472-474.
34. (b) Muradov, N.; Schwitter, A. Nano Lett. 2002, 2, 673-676.
35. Terauchi, M.; Tanaka, M.; Suzuki, K.; Ogino, A.; Kimura, K. Chem. Phys. Lett. 2000, 324, 359-364.
36. Wu, Z. S.; Deng, S. Z.; Xu, N. S.; Chen, J.; Zhou, J.; Chen, J. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 3829-3831.
37. Li, Y. B.; Bando, Y.; Golberg, D. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 3603-3605.
38. (a) Akiyama, M.; Ueno, N.; Nonaka, K.; Tateyama, H. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 1977-1979.
39. (b) Cleland, A. N.; Pophristic, M.; Ferguson, I. Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 2070-2072.
40. (c) Kipshidze, G.; Kuryatkov, V.; Zhu, K.; Borisov, B.; Holtz, M.; Nikishin, S.; Temkin, H. J. Appl. Phys. 2003, 93, 1363-1366.
41. Vacuum Microelectronics; Zhu, W., Ed.; John Wiley & Sons: New York, 2001; pp 4-5.
42. (a) Wu, N. C.; Tsai, M. S.; Wang, M. C.; Liu, H. S. J. Cryst. Growth 2000, 208, 189-196.
43. (b) Dollet, A.; Casaux, Y.; Chaix, G.; Dupuy, C. Thin Solid Films 2002, 406, 1-16.
44. (a) Nesting, D. C.; Kouvetakis, J.; Smith, D. J. Appl. Phys. Lett. 1999, 74, 958-960.
45. (b) Tarntair, F. G.; Wen, C. Y.; Chen, L. C.; Wu, J. J.; Chen, K. H.; Kuo, P. F.; Chang, S. W.; Chen, Y. F.; Hong, W. K.; Cheng, H. C. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 2630-2632.
46. Vayssieres, L.; Keis, K.; Hagfeldt, A.; Lindquist, S. E. Chem. Mater. 2001, 13, 4395-4398.
47. Wu, J. J.; Wong, T. C.; Yu. C. C. Adv. Mater. 2002, 14, 1643-1646.
48. (a) Lyu, S. C.; Cha, O. H.; Suh, E. K.; Ruh, H.; Lee, H. J.; Lee, C. J. Chem. Phys. Lett. 2003, 367, 136-140.
49. (b) Bergman, L.; Dutta, M.; Balkas, C.; Davis, R. F.; Christman, J. A.; Alexson, D.; Nemanich, R. J. J. Appl. Phys. 1999, 85, 3535-3539.
50. (a) Vanheusden, K.; Warren, W. L.; Seager, C. H.; Tallant, D. R.; Voigt, J. A.; Gnade, B. E. J. Appl. Phys. 1996, 79, 7983-7990.
51. (b) Cao, Y. G.; Chen, X. L.; Lan, Y. C.; Li, J. Y.; Xu, Y. P.; Xu, T.; Liu, Q. L.; Liang, J. K. J. Cryst. Growth 2000, 213, 198-202.
52. Kim, H. M.; Kang, T. W.; Chung, K. S.; Hong, J. P.; Choi, W. B. Chem. Phys. Lett. 2003, 377, 491-494.
53. Xu, N. S.; Chen, Y.; Deng, S. Z.; Chen, J.; Ma, X. C.; Wang, E. G. J. Phys. D: Appl. Phys. 2001, 34, 1597-1601.