Patterning Colloidal Crystals by Lift-up Soft Lithography

Advanced Materials

Volumn 16, Issue 1, 2004, Pages 81-84

  Yao, Jimin ^a   Yan, Xin ^a   Lu, Guang ^a   Zhang, Kai ^a   Chen, Xin ^a   Jiang, Lei ^b   Yang, Bai ^a  

^a JILIN UNIVERSITY   (China)

^b INSTITUTE OF CHEMISTRY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ADHESION; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CRYSTALS; CURRENT DENSITY; MICROSTRUCTURE; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SELF ASSEMBLY; SILICA; SUBSTRATES; VAN DER WAALS FORCES;

COLLOIDAL CRYSTAL FILMS; LIFT-UP SOFT LITHOGRAPHY; MICROCONTACT PRINTING;

LITHOGRAPHY;

EID: 1042289087     PISSN: 09359648     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.200306150     Document Type: Article

References (48)

1. Y. Xia, G. M. Whitesides, Angew. Chem. Int. Ed. 1998, 37, 550.
2. A. Kumar, G. M. Whitesides, Appl. Phys. Lett. 1993, 63, 2002.
3. A. Bernard, E. Delamarche, H. Schmid, B. Michel, H. R. Bosshard, H. Biebuyck, Langmuir 1998, 14, 2225.
4. a) P. C. Hidber, W. Heibig, E. Kim, G. M. Whitesides, Langmuir 1996, 12, 1375.
5. b) Q. Guo, X. Teng, S. Rahman, H. Yang, J. Am. Chem. Soc. 2003, 725, 630.
6. Y.-L. Loo, R. L. Willett, K. W. Baldwin, J. A. Rogers, J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 7654.
7. a) X. Jiang, H. Zheng, S. Gourdin, P. T. Hammond, Langmuir 2002, 18, 2607.
8. b) M. Wang, H.-G. Braun, T. Kratzmüller, E. Meyer, Adv. Mater. 2001, 13, 1312.
9. a) D. J. Sirbuly, G. M. Lowman, B. Scott, G. D. Stucky, S. K. Buratto, Adv. Mater. 2003, 15, 149.
10. b) T. Granlund, T. Nyberg, L. S. Roman, M. Svensson, O. Inganäs, Adv. Mater. 2000, 12, 269.
11. a) J. M. Weissman, H. B. Sunkara, A. S. Tse, S. A. Asher, Science 1996, 274, 959.
12. b) J. H. Holtz, S. A. Asher, Nature 1997, 389, 829.
13. a) S. H. Park, Y. Xia, Langmuir 1999, 15, 266.
14. b) Y. Xia, B. Gates, Y Yin, Y. Lu, Adv. Mater. 2000, 12, 693.
15. a) S. John, Phys. Rev. Lett. 1987, 58, 2486.
16. b) E. Yablonovitch, Phys. Rev. Lett. 1987, 58, 2059.
17. a) O. D. Velev, T. A. Jede, R. F. Lobo, A. M. Lenhoff, Nature 1997, 389, 447.
18. b) B. T. Holland, C. F. Blanford, A. Stein, Science 1998, 281, 538.
19. c) J. E. G. J. Wijnhoven, W. L. Vos, Science 1998, 281, 802.
20. d) S. H. Park, Y. Xia, Adv. Mater. 1998, 10, 1045.
21. a) M. D. Sacks, T.-Y. Tseng, J. Am. Ceram. Soc. 1984, 67, 526.
22. b) P. Calvert, Nature 1985, 317, 201.
23. a) O. D. Velev, E. W. Kaler, Langmuir 1999, 15, 3693.
24. b) G. A. Ozin, S.-M. Yang, Adv. Funct. Mater. 2001, 11, 95.
25. c) S.-M. Yang, H. Mguez, G. A. Ozin, Adv. Funct. Mater. 2002, 12, 425.
26. d) G. Lu, X. Chen, J. Yao, W. Li, G. Zhang, D. Zhao, B. Yang, J. Shen, Adv. Mater. 2002, 14, 1799.
27. a) A. van Blaaderen, R. Ruel, P. Wiltzius, Nature 1997, 385, 321.
28. b) K.-H. Lin, J. C. Cracker, V. Prasad, A. Schofield, D. A. Weitz, T. C. Lubensky, A. G. Yodh, Phys. Rev. Lett. 2000, 85, 1770.
29. c) E. Kirn, Y. Xia, G. M. Whitesides, Adv. Mater. 1996, 8, 245.
30. d) S. M. Yang, G. A. Ozin, Chem. Commun. 2000, 2507.
31. e) Y. Yin, Y. Lu, B. Gates, Y. Xia, J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 8718.
32. a) Z.-Z. Gu, A. Fujishima, O. Sato, Angew. Chem. Int. Ed. 2002, 41, 2067.
33. b) C.-A. Fustin, G. Glasser, H. W. Spiess, U. Jonas, Adv. Mater. 2003, 15, 1025.
34. a) K. M. Chen, X. Jiang, L. C. Kimerling, P. T. Hammond, Langmuir 2000, 16, 7825.
35. b) J. Aizenberg, P. V. Braun, P. Wiltzius, Phys. Rev. Lett. 2000, 84, 2997.
36. a) R. C. Hayward, D. A. Seville, I. A. Aksay, Nature 2000, 404, 56.
37. b) S.-R. Yeh, M. Seul, B. I. Shraiman, Nature 1997, 386, 57.
38. a) A. Krivda, S. M. Hunt, G. A. Cash, G. A. George, in Proc. IEEE. Conf. On Electrical Insulation and Dielectric Phenomena, IEEE, Pis- cataway, NJ 2000, p. 703.
39. b) H. Hillborg, U. W. Gedde, IEEE Trans. Dielectr. Electr. Insul. 1999, 6, 703.
40. c) H. Schmid, H. Wolf, R. Allenspach, H. Riel, S. Karg, B. Michel, E. Delamarche, Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 145.
41. a) P. Ruchhoeft, M. Colburn, B. Choi, H. Nounu, S. Johnson, T. Bailey, S. Damle, M. Stewart, J. Ekerdt, S. V. Sreenivasan, J. C. Wolfe, C. G. Willson, J. Vac. Sci. Technol. B 1999, 17, 2965.
42. b) K. E. Paul, M. Prentiss, G. M. Whitesides, Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 259.
43. a) S. Y. Chou, P. R. Krauss, P. J. Renstrom, Science 1996, 272, 85.
44. b) Y. Chen, D. A. A. Ohlberg, X. Li, D. R. Stewart, R. S. Williams, J. O. Jeppesen, K. A. Nielsen, J. F. Stoddart, D. L. Olynick, E. Anderson, Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 1610.
45. W. Stöber, A. Fink, J. Colloid Interface Sci. 1968, 26, 62.
46. R. Micheletto, H. Fukuda, M. Ohtsu, Langmuir 1995, 11, 3333.
47. a) H. Wu, T. W. Odom, G. M. Whitesides, J. Am. Chem. Soc, 2002, 124, 7288.
48. b) H. Wu, T. W. Odom, G. M. Whitesides, Adv. Mater. 2002, 14, 1213.