Luminescence from erbium-doped silicon nanocrystals in silica: Excitation mechanisms

Journal of Applied Physics

Volumn 91, Issue 1, 2002, Pages 367-374

  Kenyon, A J ^a   Chryssou, C E ^a   Pitt, C W ^a   Shimizu Iwayama, T ^b   Hole, D E ^c   Sharma, N ^d   Humphreys, C J ^d  

^a UNIVERSITY COLLEGE LONDON   (United Kingdom)

^b AICHI UNIVERSITY OF EDUCATION   (Japan)

^c UNIVERSITY OF SUSSEX   (United Kingdom)

^d UNIVERSITY OF CAMBRIDGE   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ABSORPTION CROSS SECTIONS; CONFINED EXCITONS; EFFECTIVE ABSORPTION; EMISSION BANDS; ERBIUM ION; ERBIUM-DOPED SILICON; EXCHANGE MECHANISM; EXCITATION MECHANISMS; FOUR-ORDER; SILICON NANOCLUSTERS;

ERBIUM; NANOCRYSTALLINE SILICON;

SILICA;

EID: 0036138165     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1419210     Document Type: Article

References (34)

1. A. Polman, J. Appl. Phys. 82, 1 (1997).
2. L. T. Canham, Appl. Phys. Lett. 57, 1046 (1990).
3. T. Shimizu-Iwayama, K. Fujita, S. Nakao, K. Saitoh, T. Fujita, and N. Itoh, J. Appl. Phys. 75, 7779 (1994).
4. J. G. Zhu, C. W. White, J. D. Budai, S. P. Withrow, and Y. Chen, J. Appl. Phys. 78, 4386 (1995).
5. A. J. Kenyon, P. F. Trwoga, C. W. Pitt, and G. Rehm, J. Appl. Phys. 79, 9291 (1996).
6. K. S. Min, K. V. Shcheglov, C. M. Yang, H. A. Atwater, M. L. Brongersma, and A. Polman, Appl. Phys. Lett. 69, 2033 (1996).
7. F. Iaconia, G. Franzò, and C. Spinella, J. Appl. Phys. 87, 1295 (2000).
8. S. Guha, J. Appl. Phys. 84, 5210 (1998).
9. M. Y. Valakh, V. A. Yukhimchuk, V. Y. Bratus, A. A. Konchits, P. L. F. Hemment, and T. Komoda, J. Appl. Phys. 85, 168 (1999).
10. G. Franzò, V. Vinciguerra, and F. Priolo, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 69, 3 (1999).
11. T. Shimizu-Iwayama, N. Kurumado, D. E. Hole, and P. D. Townsend, J. Appl. Phys. 83, 6018 (1998).
12. Y. Kanemitsu, Thin Solid Films 276, 44 (1996).
13. V. V. Afanas'ev and A. Stesmans, Phys. Rev. B 59, 2025 (1999).
14. R. T. Collins, P. M. Fauchet, and M. A. Tischler, Phys. Today 50, 24 (1997).
15. P. F. Trwoga, A. J. Kenyon, and C. W. Pitt, Electron. Lett. 32, 1703 (1996).
16. G. S. Tompa, D. C. Morton, B. S. Sywe, Y. Lu, E. W. Forsythe, J. A. Ott, D. Smith, J. Khurgin, and B. A. Khan, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 358, 701 (1995).
17. G. G. Qin, A. P. Li, B. R. Zhang, and B.-Chen Li, J. Appl. Phys. 78, 2006 (1995).
18. A. J. Kenyon, P. F. Trwoga, M. Federighi, and C. W. Pitt, J. Phys.: Condens. Matter 6, L319 (1994).
19. X. Wu, U. Hommerich, F. Namavar, and A. M. Cremins Costa, Appl. Phys. Lett. 69, 1903 (1996).
20. M. Fujii, M. Yoshida, Y. Kanzawa, S. Hayashi, and K. Yamamoto, Appl. Phys. Lett. 71, 1198 (1997).
21. J. H. Shin, M. Kim, S. Seo, and C. Lee, Appl. Phys. Lett. 72, 1092 (1998).
22. L. Tsybeskov, S. P. Duttagupta, K. D. Hirschman, P. M. Fauchet, K. L. Moore, and D. G. Hall, Appl. Phys. Lett. 70, 1790 (1997).
23. M. Fujii, M. Yoshida, S. Hayashi, and K. Yamamoto, J. Appl. Phys. 84, 4525 (1998).
24. J. H. Shin, S. Seo, S. Kim, and S. G. Bishop, Appl. Phys. Lett. 76, 1999 (2000).
25. C. E. Chryssou, A. J. Kenyon, T. S. Iwayama, C. W. Pitt, and D. E. Hole, Appl. Phys. Lett. 75, 2011 (1999).
26. G. Franzò, D. Pacifici, V. Vinciguerra, F. Priolo, and F. Iaconia, Appl. Phys. Lett. 76, 2167 (2000).
27. P. G. Kik and A. Polman, J. Appl. Phys. 88, 1992 (2000).
28. A. J. Kenyon, C. E. Chryssou, and C. W. Pitt, Appl. Phys. Lett. 76, 688 (2000).
29. G. Qin, G. G. Qin, and S. H. Wang, J. Appl. Phys. 85, 6738 (1999).
30. A. J. Kenyon, C. E. Chryssou, and C. W. Pitt, Proc. SPIE 4282, 185 (2001).
31. N. Sharma, V. J. Keast, T. S. Iwayama, I. Boyd, and C. J. Humphreys, Inst. Phys. Conf. Ser. 161, 589 (1999).
32. S. K. Bera, S. Chaudhuri, A. K. Bandyopadhyay, B. R. Chakraborty, and A. K. Pal, J. Phys. D 34, 273 (2001).
33. D. Kovalev, J. Diener, H. Heckler, G. Polisski, N. Künzner, and F. Koch, Phys. Rev. B 61, 4485 (2000).
34. F. Priolo, G. Franzo, D. Pacifici, V. Vinciguerra, F. Iacona, and A. Irrera, J. Appl. Phys. 89, 264 (2000).