Optical properties of silicon nanoclusters fabricated by ion implantation

Journal of Applied Physics

Volumn 83, Issue 11, 1998, Pages 6018-6022

  Shimizu Iwayama, Tsutomu ^a   Kurumado, Norihiro ^a   Hole, David E ^b   Townsend, Peter D ^b  

^a AICHI UNIVERSITY OF EDUCATION   (Japan)

^b UNIVERSITY OF SUSSEX   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING; ENERGY GAP; FABRICATION; ION IMPLANTATION; IONS; LIGHT ABSORPTION; PHOTOACOUSTIC SPECTROSCOPY; PHOTOLUMINESCENCE; PHOTONS; SEMICONDUCTING SILICON; SILICA;

CLUSTER-CLUSTER INTERACTION; QUANTUM CONFINEMENT; SILICON NANOCLUSTER;

NANOSTRUCTURED MATERIALS;

EID: 0032099580     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.367469     Document Type: Article

References (32)

1. L. T. Canham, Appl. Phys. Lett. 57, 1046 (1990); A. G. Cullis, L. T. Canham, and P. D. Calcott, J. Appl. Phys. 82, 909 (1997).
2. L. T. Canham, Appl. Phys. Lett. 57, 1046 (1990); A. G. Cullis, L. T. Canham, and P. D. Calcott, J. Appl. Phys. 82, 909 (1997).
3. V. Lehmann and U. Gösele, Appl. Phys. Lett. 58, 856 (1991).
4. D. J. DiMaria, J. R. Kirtley, E. J. Pakulis, D. W. Dong, T. S. Kuan, F. L. Pesavento, T. N. Theis, and J. A. Cutro, J. Appl. Phys. 56, 401 (1984).
5. S. Furukawa and T. Miyasato, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 27, L2207 (1988).
6. H. Takagi, H. Ogawa, Y. Yamazaki, A. Ishizaki, and T. Nakagiri, Appl. Phys. Lett. 56, 2379 (1990).
7. H. Morisaki, F. W. Ping, H. Ono, and K. Yazawa, J. Appl. Phys. 70, 1869 (1991).
8. S. Hayashi, T. Nagareda, Y. Kanzawa, and K. Yamamoto, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 32, 3840 (1993).
9. J. F. Ziegler, in Ion Implantation Technology, edited by J. F. Ziegler (North-Holland, Amsterdam, 1992), p. 1.
10. P. D. Townsend, P. J. Chandler, and L. Zhang, Optical Effects of Ion Implantation (Cambridge University Press, Cambridge, 1994).
11. T. S. Iwayama, M. Ohshima, T. Niimi, S. Nakao, K. Saitoh, T. Fujita, and N. Itoh, J. Phys.: Condens. Matter 5, L375 (1993).
12. T. S. Iwayama, K. Fujita, S. Nakao, K. Saitoh, T. Fujita, and N. Itoh, J. Appl. Phys. 75, 7779 (1994).
13. N. Itoh, T. S. Iwayama, and T. Fujita, J. Non-Cryst. Solids 179, 194 (1994).
14. T. S. Iwayama, S. Nakao, and K. Saitoh, Appl. Phys. Lett. 65, 1814 (1994).
15. T. S. Iwayama, S. Nakao, K. Saitoh, and N. Itoh, J. Phys.: Condens. Matter 6, L601 (1994).
16. T. S. Iwayama, Y. Terao, A. Kamiya, M. Takeda, S. Nakao, and K. Saitoh, Nanostruct. Mater. 5, 307 (1995).
17. H. A. Atwater, K. V. Shcheglov, S. S. Wong, K. J. Vahala, R. C. Flagan, M. L. Brongersma, and A. Polman, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 316, 409 (1994); K. S. Min, K. V. Shcheglov, C. M. Yang, H. A. Atwater, M. L. Brongersma, and A. Polman, Appl. Phys. Lett. 69, 2033 (1996).
18. H. A. Atwater, K. V. Shcheglov, S. S. Wong, K. J. Vahala, R. C. Flagan, M. L. Brongersma, and A. Polman, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 316, 409 (1994); K. S. Min, K. V. Shcheglov, C. M. Yang, H. A. Atwater, M. L. Brongersma, and A. Polman, Appl. Phys. Lett. 69, 2033 (1996).
19. P. Mutti, G. Ghislotti, S. Bertoni, L. Bonoldi, G. F. Cerofolini, L. Meda, E. Grilli, and M. Gruzzi, Appl. Phys. Lett. 66, 851 (1995).
20. J. G. Zhu, C. W. White, J. D. Budai, S. P. Withrow, and Y. Chen, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 358, 163 (1995); H. M. Cheong, W. Paul, S. P. Withrow, J. G. Zhu, J. D. Budai, C. W. White, and D. M. Hembree, Jr., Appl. Phys. Lett. 68, 87 (1996).
21. J. G. Zhu, C. W. White, J. D. Budai, S. P. Withrow, and Y. Chen, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 358, 163 (1995); H. M. Cheong, W. Paul, S. P. Withrow, J. G. Zhu, J. D. Budai, C. W. White, and D. M. Hembree, Jr., Appl. Phys. Lett. 68, 87 (1996).
22. T. Komoda, J. P. Kelly, A. Nejim, K. P. Homewood, P. L. F. Hemment, and B. J. Sealy, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 358, 175 (1995).
23. S. Guha, M. D. Pace, D. N. Dunn, and I. L. Singer, Appl. Phys. Lett. 70, 1207 (1997).
24. H. Z. Song, X. M. Bao, N. S. Li, and J. Y. Zhang, J. Appl. Phys. 82, 4028 (1997).
25. J. F. Ziegler, J. P. Biersack, and U. Littmark, The Stopping and Range of Ions in Solids (Pergamon, New York, 1985).
26. N. Wada and M. Ichikawa, Jpn. J. Appl. Phys. 15, 755 (1976).
27. A. Rosencwaig, Photoacoustics and Photoacoustic Spectroscopy (Wiley, New York, 1980), p. 137.
28. J. F. McClelland and R. N. Kniseley, Appl. Opt. 15, 2967 (1976).
29. T. Takagahara and K. Takeda, Phys. Rev. B 42, 9664 (1992).
30. Y. Kanemitsu, H. Uto, Y. Masumoto, and Y. Maeda, Appl. Phys. Lett. 61, 2187 (1992).
31. T. Fischer, V. P.-Koch, K. Shcheglov, M. S. Brandt, and F. Koch, Thin Solid Films 275, 100 (1996).
32. W. Skorupa, R. A. Yankov, I. E. Tyschenko, H. Fröb, T. Böhme, and K. Leo, Appl. Phys. Lett. 68, 2410 (1996).