Tunneling current and thickness inhomogeneities of ultrathin aluminum oxide films in magnetic tunneling junctions

Journal of Applied Physics

Volumn 90, Issue 10, 2001, Pages 5202-5207

  Luo, E Z ^a   Wong, S K ^b   Pakhomov, A B ^b   Xu, J B ^a   Wilson, I H ^a   Wong, C Y ^b  

^a CHINESE UNIVERSITY OF HONG KONG   (Hong Kong)

^b HONG KONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY   (Hong Kong)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0035890737     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1412586     Document Type: Article

References (19)

1. J. S. Moodera, L. R. Kinder, T. M. Wong, and R. Meservey, Phys. Rev. Lett. 74, 3273 (1995).
2. F. Houze, R. Meyer, O. Schneegans, and L. Boyer, Appl. Phys. Lett. 69, 1975 (1996).
3. S. J. O'Shea, R. M. Atta, M. P. Murrell, and M. E. Weiland, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 1945 (1995).
4. Z. Xie, E. Z. Luo, J. B. Xu, I. H. Wilson, H. B. Peng, L. H. Zhao, and B. R. Zhao, Appl. Phys. Lett. 76, 1923 (2000); E. Z. Luo, I. H. Wilson, J. B. Xu, and X. Yan, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 1953 (1998).
5. Z. Xie, E. Z. Luo, J. B. Xu, I. H. Wilson, H. B. Peng, L. H. Zhao, and B. R. Zhao, Appl. Phys. Lett. 76, 1923 (2000); E. Z. Luo, I. H. Wilson, J. B. Xu, and X. Yan, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 1953 (1998).
6. E. Z. Luo, J. X. Ma, J. B. Xu, I. H. Wilson, A. B. Pakhomov, and X. Yan, J. Phys. D 29, 3169 (1996); E. Z. Luo, J. B. Xu, W. Wu, I. H. Wilson, and X. Yan, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 66, S1171 (1998).
7. E. Z. Luo, J. X. Ma, J. B. Xu, I. H. Wilson, A. B. Pakhomov, and X. Yan, J. Phys. D 29, 3169 (1996); E. Z. Luo, J. B. Xu, W. Wu, I. H. Wilson, and X. Yan, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 66, S1171 (1998).
8. E. Z. Luo, I. H. Wilson, X. Yan, and J. B. Xu, Phys. Rev. B 57, R15120 (1998); E. Z. Luo, A. B. Pakhomov, Z. Q. Zhang, M. C. Chan, I. H. Wilson, J. B. Xu, and X. Yan, Physica B 279, 98 (2000).
9. E. Z. Luo, I. H. Wilson, X. Yan, and J. B. Xu, Phys. Rev. B 57, R15120 (1998); E. Z. Luo, A. B. Pakhomov, Z. Q. Zhang, M. C. Chan, I. H. Wilson, J. B. Xu, and X. Yan, Physica B 279, 98 (2000).
10. V. Da Costa, C. Tiusan, T. Dimpopulos, and K. Ounadjela, Phys. Rev. Lett. 85, 876 (2000).
11. V. Da Costa, F. Bardou, C. Beal, Y. Henry, J. P. Bucher, and K. Ounadjela, J. Appl. Phys. 83, 6703 (1998).
12. Y. Ando, H. Kameda, H. Kubota, and T. Miyazaki, J. Appl. Phys. 87, 5206 (2000).
13. E. Z. Luo, S. K. Wong, A. B. Pakhomov, B. Sunderavel, J. B. Xu, I. H. Wilson, and C. Y. Wong, Nucl. Instrum. Methods B Phys. Res. (submitted).
14. J. G. Simmons, J. Appl. Phys. 34, 1793 (1963).
15. N. P. Magtoto, C. Niu, B. M. Ekstrom, S. Addepalli, and J. A. Kelber, Appl. Phys. Lett. 77, 2228 (2000).
16. J. P. Sullivan, J. C. Barbour. R. G. Dunn, K. A. Son, L. P. Monetes, N. Missert, and R. G. Copeland, in Electrochemical Society Proceedings of Critical Factors in localized Corrosion III, edited by R. G. Kelly, P. M. Natishan, G. S. Frankel, and R. C. Newman (Electrochemical Society, Boston, 1998), Vol. 98-17, p. 111.
17. W. Opets, H. J. Verhagen, R. Coehoorn, and W. J. M. de Jonge, J. Appl. Phys. 86, 3863 (1999).
18. T. G. Ruskell, R. K. Workman, D. Chen, and D. Sarid, Appl. Phys. Lett. 68, 93 (1995).
19. D. Song, J. Nowak, and M. Covington, J. Appl. Phys. 87, 5197 (2000).