Stress development during deposition of CNx thin films

Applied Physics Letters

Volumn 72, Issue 20, 1998, Pages 2532-2534

  Broitman, E ^a   Zheng, W T ^a   Sjostrom H ^a   Ivanov, I ^a   Greene, J E ^a   Sundgren, J E ^a  

^a LINKÖPING UNIVERSITY   (Sweden)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000129237     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.121410     Document Type: Article

References (29)

1. A. Y. Liu and M. L. Cohen, Science 245, 841 (1989).
2. Y. Chen, X. Lin, V. Dravid, Y. Chung, M. Wong, and W. Sproul, Surf. Coat. Technol. 54/55, 360 (1992).
3. C. Niu, Y. Lu, and C. Lieber, Science 261, 334 (1993).
4. H. W. Song, F. Z. Cui, X. He, W. Li, and H. Li, J. Phys.: Condens. Matter 6, 6125 (1994).
5. K. Yu, M. Cohen, E. Haller, W. Hansen, A. Liu, and I. Wu, Phys. Rev. B 49, 5034 (1994).
6. Z. Ren, Y. Du, Y. Qiu, J. Wu, Z. Ying, X. Xiong, and F. Li, Phys. Rev. B 51, 5274 (1995).
7. Y. Chen, E. G. Wang, F. Chen, and L. Guo, Mod. Phys. Lett. B 10, 567 (1996).
8. H. Sjöström, M. Boman, S. Strafström, and J.-E. Sundgren, Phys. Rev. Lett. 75, 1336 (1995).
9. J. P. Rivière, D. Texier, J. Delafond, M. Jaouen, E. L. Mathè, and J. Chaumont, Mater. Lett. 22, 115 (1995).
10. S. Veprek, J. Weideman, and F. Glatz, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 2914 (1995).
11. D. Li, S. Lopez, Y. W. Chung, M. Wong, and W. D. Sproul, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 1063 (1995).
12. F. Rossi, B. Andrè, A. van Veen, P. E. Mijnarends, H. Schut, F. Labohm, H. Dunlop, M. P. Delplancke, and K. Hubbard, J. Mater. Res. 9, 2440 (1994).
13. H. Sjöström, I. Ivanov, M. Johansson, L. Hultman, L. R. Wallenberg, J.-E. Sundgren, S. V. Hainsworth, and T. F. Page, Thin Solid Films 246, 103 (1994).
14. H. Sjöström, L. Hultman, J.-E. Sundgren, S. V. Hainsworth, T. F. Page, and G. S. A. M. Theunissen, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 56 (1996).
15. W. T. Zheng, H. Sjöström, I. Ivanov, K. Z. Xing, E. Broitman, W. R. Salanek, J. E. Greene, and J.-E. Sundgren, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 2696 (1996).
16. A. Khurshudov, K. Kato, and S. Daisuke, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 2935 (1996).
17. V. S. Veerasamy, J. Yuan, G. A. J. Amaratunga, W. I. Milne, K. W. R. Gilkes, M. Weiler, and L. M. Brown, Phys. Rev. B 48, 17954 (1993).
18. C. A. Davis, D. R. McKenzie, Y. Yin, E. Kravtchinskaia, G. A. Amaratunga, and V. S. Veerasamy, Philos. Mag. B 69, 1133 (1994).
19. M. Chhowalla, I. Alexandrou, C. Kiely, G. Amaratunga, R. Aharonov, and R. Fontana, Thin Solid Films 290, 291, 103 (1996).
20. R. Kaltofen, T. Sebald, and G. Weise, Thin Solid Films 290, 291, 112 (1996).
21. J. Bulir, M. Jelinek, V. Vorlicek, J. Zemek, and V. Perina, Thin Solid Films 292, 318 (1997).
22. H. Sjöström, W. Lanford, B. Hjörvarson, K. Xing, and J.-E. Sundgren, J. Mater. Res. 11, 981 (1996).
23. W. T. Zheng, E. Broitman, N. Hellgren, K. Z. Xing, I. Ivanov, H. Sjöström, L. Hultman, and J.-E. Sundgren, Thin Solid Films 308, 309, 223 (1997).
24. H. J. Lee, R. Zubeck, D. Hollars, J. K. Lee, M. Smallen, and A. Chao, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 3007 (1993).
25. J. E. Greene, S. A. Barnett, J.-E. Sundgren, and A. Rockett, in Ion Beam Assisted Film Growth, edited by A. Ittoh (Elsevier, Amsterdam, 1989), Chap. 5.
26. I. Petrov, A. Myers, J. E. Greene, and R. Abelson, J. Vac. Sci. Technol. A 2, 1846 (1994).
27. M. A. Tamor and C. H. Hu, J. Appl. Phys. 67, 1007 (1990).
28. S. V. Hainsworth, T. Barlett, and T. F. Page, Thin Solid Films 236, 214 (1993).
29. G. A. J. Amaratunga, M. Chhowalla, C. J. Kiely, I. Alexandrou, R. Aharonov, and R. M. Devenish, Nature (London) 383, 321 (1996).