Effects of hydrostatic pressure on Raman scattering in Ge quantum dots

Physical Review B - Condensed Matter and Materials Physics

Volumn 63, Issue 12, 2001, Pages

  Teo, K L ^a   Qin, L ^a   Noordin, I M ^a   Karunasiri, G ^a   Shen, Z X ^a   Eberl, K ^b   Queisser, H J ^a,b  

^a NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE   (Singapore)

^b MAX PLANCK INSTITUT FÜR FESTKÖRPERFORSCHUNG   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

GERMANIUM; SILICON;

ARTICLE; HYDROSTATIC PRESSURE; PRESSURE; TEMPERATURE;

EID: 85038969364     PISSN: 10980121     EISSN: 1550235X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1103/PhysRevB.63.121306     Document Type: Article

References (41)

1. J. A. Floro, M. B. Sinclair, E. Chason, L. B. Freund, R. D. Twesten, R. Q. Hwang, and G. A. Lucadamo: Phys. Rev. Lett. 84, 701 (2000)
2. J. A. Floro, M. B. Sinclair, E. Chason, L. B. Freund, R. D. Twesten, R. Q. Hwang, and G. A. Lucadamo, J. A. Floro, M. B. Sinclair, E. Chason, L. B. Freund, R. D. Twesten, R. Q. Hwang, and G. A. Lucadamo: Phys. Rev. Lett. D. E. Jesson, M. Kastner, B. Voigtlander, 84, 330 (2000)
3. J. A. Floro, M. B. Sinclair, E. Chason, L. B. Freund, R. D. Twesten, R. Q. Hwang, and G. A. Lucadamo: Phys. Rev. Lett. M. Kastner, and B. Voigtlander, 82, 2745 (1999)
4. J. A. Floro, M. B. Sinclair, E. Chason, L. B. Freund, R. D. Twesten, R. Q. Hwang, and G. A. Lucadamo: Phys. Rev. Lett. G. Wedler, J. Walz, T. Hesjedal, E. Chilla, and R. Koch, 80, 2382 (1998)
5. J. A. Floro, M. B. Sinclair, E. Chason, L. B. Freund, R. D. Twesten, R. Q. Hwang, and G. A. Lucadamo: Phys. Rev. Lett. F. M. Ross, J. Tersoff, and R. M. Tromp, 80, 984 (1998)
6. J. A. Floro, M. B. Sinclair, E. Chason, L. B. Freund, R. D. Twesten, R. Q. Hwang, and G. A. Lucadamo: Phys. Rev. Lett. I. Goldfarb, P. T. Hayden, J. H. G. Owen, G. A. D. Briggs, 78, 3959 (1997)
7. J. A. Floro, M. B. Sinclair, E. Chason, L. B. Freund, R. D. Twesten, R. Q. Hwang, and G. A. Lucadamo: Phys. Rev. Lett. A. J. Steinfort, P. M. L. O. Scholte, A. Ettema, F. Tuinstra, M. Nielsen, E. Landemark, D. M. Smilgies, R. Feidenhansl, G. Falkenberg, L. Seehofer, and R. L. Johnson, 77, 2009 (1996).
8. Chuan-Pu Liu, J. Murray Gibson, David G. Cahill, Theodore I. Kamins, David P. Basile, and R. Stanley Williams: Phys. Rev. Lett. 84, 1958 (2000).
9. O. G. Schmidt and K. Eberl: Phys. Rev. B 61, 13 721 (2000).
10. S. A. Chaparro, J. Drucker, Y. Zhang, D. Chandrasekhar, M. R. McCartney, and D. J. Smith: Phys. Rev. Lett. 83, 1199 (1999).
11. S. A. Chaparro, J. Drucker, Y. Zhang, D. Chandrasekhar, M. R. McCartney, and D. J. Smith: Appl. Phys. Lett. O. Kienzle, F. Ernst, M. Rühle, O. G. Schmidt, and K. Eberl, 74, 269 (1999).
12. K. Eberl, O. G. Schmidt, R. Duschl, O. Kienzle, F. Ernst, and Y. Rau: Thin Solid Films 369, 33 (1999).
13. L. Vescan, T. Stoica: J. Lumin. 80, 485 (1998).
14. K. Eberl, O. G. Schmidt, O. Kienzle, and F. Ernst: Solid State Phenom. 69-70, 13 (2000)
15. O. G. Schmidt and K. Eberl, German Patent No. 100 25 264.8 (22 May 2000).
16. O. G. Schmidt, U. Denker, K. Eberl, O. Kienzle, and F. Ernst: Appl. Phys. Lett. 77, 2509 (2000)
17. M. Kummer, B. Vögli, and H. v. Känel: Mater. Sci. Eng., B 69-70, 247 (2000)
18. P. Sutter and M. G. Lagally: Phys. Rev. Lett. 81, 3471 (1998).
19. F. Boscherini, G. Capellini, L. Di Gaspare, F. Rosei, N. Motta, and S. Mobilio: Appl. Phys. Lett. 76, 682 (2000).
20. V. Magidson, D. V. Regelman, R. Beserman, and K. Dettmer: Appl. Phys. Lett. 73, 1044 (1998).
21. J. Groenen, R. Carles, S. Christiansen, M. Albrecht, W. Dorsch, H. P. Strunk, H. Wawra, and G. Wagner: Appl. Phys. Lett. 71, 3856 (1997)
22. J. Groenen, R. Carles, S. Christiansen, M. Albrecht, W. Dorsch, H. P. Strunk, H. Wawra, and G. Wagner: Appl. Phys. Lett. P. D. Persans, P. W. Deelman, K. L. Stokes, L. J. Schowalter, A. Byrne, and T. Thundat, 70, 472 (1997)
23. J. Groenen, R. Carles, S. Christiansen, M. Albrecht, W. Dorsch, H. P. Strunk, H. Wawra, and G. Wagner: Appl. Phys. Lett. C. E. Bottani, C. Mantini, P. Milani, M. Manfredini, A. Stella, P. Tognini, P. Cheyssac, and R. Kofman, 69, 2409 (1996).
24. O. G. Schmidt, C. Lange, and K. Eberl: Appl. Phys. Lett. 75, 1905 (1999).
25. J. L. Liu, G. Jin, Y. S. Tang, Y. H. Luo, K. L. Wang, and D. P. Yu: Appl. Phys. Lett. 76, 586 (2000).
26. J. L. Liu, Y. S. Tang, K. L. Wang, T. Radetic, and R. Gronsky: Appl. Phys. Lett. 74, 1863 (1999).
27. S. H. Kwok, P. Y. Yu, C. H. Tung, Y. H. Zhang, M. F. Li, C. S. Peng, and J. M. Zhou: Phys. Rev. B 59, 4980 (1999).
28. C. Ulrich, A. Debernardi, E. Anastassakis, K. Syassen, and M. Cardona: Phys. Status Solidi B 211, 293 (1999)
29. C. Ulrich, E. Anastassakis, K. Syassen, A. Debernardi, and M. Cardona: Phys. Rev. Lett. 78, 1283 (1997).
30. D. Olego and M. Cardona: Phys. Rev. B 25, 1151 (1982).
31. Zhifeng Sui, Hubert H. Burke, and Irving P. Herman: Phys. Rev. B 48, 2162 (1993).
32. S. Hitomi, K. Takarabe, S. Minomura, J. Sakai, and T. Tatsumi: J. Phys. Chem. Solids 56, 292 (1995).
33. M. Seon, M. Holtz, Ta-Ryeong Park, O. Brafman, and J. C. Bean: Phys. Rev. B 58, 4779 (1998).
34. G. J. Piermarini, S. Block, J. D. Barnett, and R. A. Forman: J. Appl. Phys. 46, 2774 (1975).
35. J. L. Liu, G. Jin, Y. S. Tang, and K. L. Wang: Appl. Phys. Lett. 75, 3574 (1999).
36. R. Schorer, G. Abstreiter, S. de Gironcoli, E. Molinari, H. Kibbel, and H. Presting: Phys. Rev. B 49, 5406 (1994).
37. Bernard A. Weinstein, and G. J. Piermarini: Phys. Rev. B 12, 1172 (1975).
38. A. V. Kolobov and K. Tanaka: Appl. Phys. Lett. 75, 3572 (1999)
39. A. V. Kolobov: J. Appl. Phys. 87, 2926 (2000).
40. P. M. Fauchet and I. H. Campbell: CRC Crit. Rev. Solid State Mater. Sci. 14, S79 (1988).
41. F. Cerdeira, A. Pinczuk, J. C. Bean, B. Batlogg, and B. A. Wilson: Appl. Phys. Lett. 45, 1138 (1984).