Growth of continuous graphene by open roll-to-roll chemical vapor deposition

Applied Physics Letters

Volumn 109, Issue 19, 2016, Pages

  Zhong, Guofang ^a   Wu, Xingyi ^a   D'Arsie, Lorenzo ^a   Teo, Kenneth B K ^b   Rupesinghe, Nalin L ^b   Jouvray, Alex ^b   Robertson, John ^a  

^a UNIVERSITY OF CAMBRIDGE   (United Kingdom)

^b AIXTRON Nanoinstruments Ltd   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COPPER; GRAPHENE; HALL MOBILITY; METAL CLADDING;

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION REACTORS; GROWTH CONDITIONS; HALL DEVICES; HIGH QUALITY; LOWER EXPLOSIVE LIMITS; PROCESS COSTS; PROCESS SAFETY; ROLL TO ROLL;

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION;

EID: 84994850303     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.4967010     Document Type: Article

References (35)

1. X. S. Li, W. W. Cai, J. H. An, S. Kim, J. Nah, D. X. Yang, R. Piner, A. Velamakanni, I. Jung, E. Tutuc, S. K. Banerjee, L. Colombo, and R. S. Ruoff, Science 324, 1312 (2009). 10.1126/science.1171245
2. I. Vlassiouk, M. Regmi, P. F. Fulvio, S. Dai, P. Datskos, G. Eres, and S. Smirnov, ACS Nano 5, 6069 (2011). 10.1021/nn201978y
3. K. S. Novoselov, V. I. Falko, L. Colombo, P. R. Gellert, M. G. Schwab, and K. Kim, Nature 490, 192 (2012). 10.1038/nature11458
4. S. Hofmann, P. Braeuninger-Weimer, and R. S. Weatherup, J. Phys. Chem. Lett. 6, 2714 (2015). 10.1021/acs.jpclett.5b01052
5. T. Hesjedal, Appl. Phys. Lett. 98, 133106 (2011). 10.1063/1.3573866
6. T. Yamada, M. Ishihara, J. Kim, M. Hasegawa, and S. Iijima, Carbon 50, 2615 (2012). 10.1016/j.carbon.2012.02.020
7. T. Kobayashi, M. Bando, N. Kimura, K. Shimizu, K. Kadono, N. Umezu, K. Miyahara, S. Hayazaki, S. Nagai, Y. Mizuguchi, Y. Murakami, and D. Hobara, Appl. Phys. Lett. 102, 023112 (2013). 10.1063/1.4776707
8. J. Ryu, Y. Kim, D. Won, N. Kim, J. S. Park, E. K. Lee, D. Cho, S. P. Cho, S. J. Kim, G. H. Ryu, H. A. S. Shin, Z. Lee, B. H. Hong, and S. Cho, ACS Nano 8, 950 (2014). 10.1021/nn405754d
9. E. S. Polsen, D. Q. McNerny, B. Viswanath, S. W. Pattinson, and A. J. Hart, Sci. Rep. 5, 10257 (2015). 10.1038/srep10257
10. S. Bae, H. Kim, Y. Lee, X. F. Xu, J. S. Park, Y. Zheng, J. Balakrishnan, T. Lei, H. R. Kim, Y. I. Song, Y. J. Kim, K. S. Kim, B. Ozyilmaz, J. H. Ahn, B. H. Hong, and S. Iijima, Nat. Nanotechnol. 5, 574 (2010). 10.1038/nnano.2010.132
11. P. A. Carson and C. J. Mumford, Hazardous Chemicals Handbook, 2nd ed. (Butterworth-Heinemann, Oxford, 2002), pp. xii.
12. A. Reina, X. T. Jia, J. Ho, D. Nezich, H. B. Son, V. Bulovic, M. S. Dresselhaus, and J. Kong, Nano Lett. 9, 30 (2009). 10.1021/nl801827v
13. S. Bhaviripudi, X. T. Jia, M. S. Dresselhaus, and J. Kong, Nano Lett. 10, 4128 (2010). 10.1021/nl102355e
14. A. W. Robertson and J. H. Warner, Nano Lett. 11, 1182 (2011). 10.1021/nl104142k
15. Z. T. Luo, Y. Lu, D. W. Singer, M. E. Berck, L. A. Somers, B. R. Goldsmith, and A. T. C. Johnson, Chem. Mater. 23, 1441 (2011). 10.1021/cm1028854
16. Y. F. Hao, M. S. Bharathi, L. Wang, Y. Y. Liu, H. Chen, S. Nie, X. H. Wang, H. Chou, C. Tan, B. Fallahazad, H. Ramanarayan, C. W. Magnuson, E. Tutuc, B. I. Yakobson, K. F. McCarty, Y. W. Zhang, P. Kim, J. Hone, L. Colombo, and R. Ruoff, Science 342, 720 (2013). 10.1126/science.1243879
17. T. O. Terasawa and K. Saiki, Appl. Phys. Express 8, 035101 (2015). 10.7567/APEX.8.035101
18. C. P. Ewels and M. Glerup, J. Nanosci. Nanotechnol. 5, 1345 (2005); 10.1166/jnn.2005.304
19. J. W. Jang, C. E. Lee, S. C. Lyu, T. J. Lee, and C. J. Lee, Appl. Phys. Lett. 84, 2877 (2004). 10.1063/1.1697624
20. Y. C. Lin, C. Y. Lin, and P. W. Chiu, Appl. Phys. Lett. 96, 133110 (2010); 10.1063/1.3368697
21. Y. C. Lin, P. Y. Teng, C. H. Yeh, M. Koshino, P. W. Chiu, and K. Suenaga, Nano Lett. 15, 7408 (2015). 10.1021/acs.nanolett.5b02831
22. X. Y. Wu, G. F. Zhong, L. D'Arsie, H. Sugime, S. Esconjauregui, A. W. Robertson, and J. Robertson, Sci. Rep. 6, 21152 (2016). 10.1038/srep21152
23. A. Venugopal, J. Chan, X. S. Li, C. W. Magnuson, W. P. Kirk, L. Colombo, R. S. Ruoff, and E. M. Vogel, J. Appl. Phys. 109, 104511 (2011). 10.1063/1.3592338
24. H. Kim, C. Mattevi, M. R. Calvo, J. C. Oberg, L. Artiglia, S. Agnoli, C. F. Hirjibehedin, M. Chhowalla, and E. Saiz, ACS Nano 6, 3614 (2012). 10.1021/nn3008965
25. H. Kim, E. Saiz, M. Chhowalla, and C. Mattevi, New J. Phys. 15, 053012 (2013). 10.1088/1367-2630/15/5/053012
26. S. R. Xing, W. Wu, Y. A. Wang, J. M. Bao, and S. S. Pei, Chem. Phys. Lett. 580, 62 (2013). 10.1016/j.cplett.2013.06.047
27. Z. Q. Tu, Z. C. Liu, Y. F. Li, F. Yang, L. Q. Zhang, Z. Zhao, C. M. Xu, S. F. Wu, H. W. Liu, H. T. Yang, and P. Richard, Carbon 73, 252 (2014). 10.1016/j.carbon.2014.02.061
28. A. C. Ferrari, J. C. Meyer, V. Scardaci, C. Casiraghi, M. Lazzeri, F. Mauri, S. Piscanec, D. Jiang, K. S. Novoselov, S. Roth, and A. K. Geim, Phys. Rev. Lett. 97, 187401 (2006). 10.1103/PhysRevLett.97.187401
29. W. Guo, B. Wu, Y. T. Li, L. F. Wang, J. S. Chen, B. Y. Chen, Z. Y. Zhang, L. M. Peng, S. Wang, and Y. Q. Liu, ACS Nano 9, 5792 (2015). 10.1021/acsnano.5b01827
30. C. C. Jia, J. L. Jiang, L. Gan, and X. F. Guo, Sci. Rep. 2, 707 (2012). 10.1038/srep00707
31. X. Wu, G. Zhong, and J. Robertson, Nanoscale 8, 16427 (2016). 10.1039/C6NR04642H
32. Y. S. Kim, J. H. Lee, Y. D. Kim, S. K. Jerng, K. Joo, E. Kim, J. Jung, E. Yoon, Y. D. Park, S. Seo, and S. H. Chun, Nanoscale 5, 1221 (2013). 10.1039/c2nr33034b
33. P. R. Kidambi, C. Ducati, B. Dlubak, D. Gardiner, R. S. Weatherup, M. B. Martin, P. Seneor, H. Coles, and S. Hofmann, J. Phys. Chem. C 116, 22492 (2012). 10.1021/jp303597m
34. M. Regmi, M. F. Chisholm, and G. Eres, Carbon 50, 134 (2012). 10.1016/j.carbon.2011.07.063
35. P. Zhao, A. Kumamoto, S. Kim, X. Chen, B. Hou, S. Chiashi, E. Einarsson, Y. Ikuhara, and S. Maruyama, J. Phys. Chem. C 117, 10755 (2013). 10.1021/jp400996s