Effect of vapor-phase oxygen on chemical vapor deposition growth of graphene

Applied Physics Express

Volumn 8, Issue 3, 2015, Pages

  Terasawa, Tomo O ^a   Saiki, Koichiro ^a  

^a UNIVERSITY OF TOKYO   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COPPER; CRYSTALLIZATION; GRAPHENE; GROWTH RATE; NUCLEATION; OXYGEN; SINGLE CRYSTALS;

CHEMICAL VAPOR DEPOSITIONS (CVD); CVD-GROWTH OF GRAPHENE; EFFECT OF OXYGEN; NUCLEATION DENSITIES; RADIATION MODE; SURFACE OXYGEN; VAPOR PHASE;

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION;

EID: 84923974723     PISSN: 18820778     EISSN: 18820786     Source Type: Journal    
DOI: 10.7567/APEX.8.035101     Document Type: Article

References (19)

1. K. S. Novoselov, A. K. Geim, S. V. Morozov, D. Jiang, Y. Zhang, S. V. Dubonos, I. V. Grigorieva, and A. A. Firsov, Science 306, 666 (2004).
2. J.-H. Chen, C. Jang, S. Xiao, M. Ishigami, and M. S. Fuhrer, Nat. Nanotechnol. 3, 206 (2008).
3. A. K. Geim and K. S. Novoselov, Nat. Mater. 6, 183 (2007).
4. X. Li, W. Cai, J. An, S. Kim, J. Nah, D. Yang, R. Piner, A. Velamakanni, I. Jung, E. Tutuc, S. K. Banerjee, L. Colombo, and R. S. Ruoff, Science 324, 1312 (2009).
5. X. Li, W. Cai, L. Colombo, and R. S. Ruoff, Nano Lett. 9, 4268 (2009).
6. H. Kim, C. Mattevi, M. R. Calvo, J. C. Oberg, L. Artiglia, S. Agnoli, C. F. Hirjibehedin, M. Chhowalla, and E. Saiz, ACS Nano 6, 3614 (2012).
7. K. Celebi, M. T. Cole, J. W. Choi, F. Wyczisk, P. Legagneux, N. Rupesinghe, J. Robertson, K. B. K. Teo, and H. G. Park, Nano Lett. 13, 967 (2013).
8. Y. Hao, M. S. Bharathi, L. Wang, Y. Liu, H. Chen, S. Nie, X. Wang, H. Chou, C. Tan, B. Fallahazad, H. Ramanarayan, C. W. Magnuson, E. Tutuc, B. I. Yakobson, K. F. McCarty, Y.-W. Zhang, P. Kim, J. Hone, L. Colombo, and R. S. Ruoff, Science 342, 720 (2013).
9. P. R. Kidambi, B. C. Bayer, R. Blume, Z.-J. Wang, C. Baehtz, R. S. Weatherup, M.-G. Willinger, R. Schloegl, and S. Hofmann, Nano Lett. 13, 4769 (2013).
10. S. Choubak, P. L. P. Levesque, E. Gaufres, M. Biron, P. Desjardins, and R. Martel, J. Phys. Chem. C 118, 21532 (2014).
11. I. Alstrup, I. Chorkendorff, and S. Ullmann, Surf. Sci. 264, 95 (1992).
12. E. Starodub, N. C. Bartelt, and K. F. McCarty, J. Phys. Chem. C 114, 5134 (2010).
13. Y. Cui, Q. Fu, H. Zhang, D. Tan, and X. Bao, J. Phys. Chem. C 113, 20365 (2009).
14. P. Sutter, J. T. Sadowski, and E. A. Sutter, J. Am. Chem. Soc. 132, 8175 (2010).
15. T. Terasawa and K. Saiki, submitted to Nat. Commun.
16. S. Choubak, M. Biron, P. L. Levesque, R. Martel, and P. Desjardins, J. Phys. Chem. Lett. 4, 1100 (2013).
17. M. Balooch, M. J. Cardillo, D. R. Miller, and R. E. Stickney, Surf. Sci. 46, 358 (1974).
18. E. Loginova, N. C. Bartelt, P. J. Feibelman, and K. F. McCarty, New J. Phys. 10, 093026 (2008).
19. M. C. Wheeler, D. C. Seets, and C. B. Mullins, J. Chem. Phys. 105, 1572 (1996).