High speed e-beam lithography for gold nanoarray fabrication and use in nanotechnology

Beilstein Journal of Nanotechnology

Volumn 5, Issue 1, 2014, Pages 1918-1925

  Trasobares, Jorge ^a   Vaurette, François ^a   François, Marc ^a   Romijn, Hans ^b   Codron, Jean Louis ^a   Vuillaume, Dominique ^a   Théron, Didier ^a   Clément, Nicolas ^a  

^a INSTITUT D ELECTRONIQUE   (France)

^b Vistec Lithography BV   (Netherlands)

Author keywords

Gold nanodot; Gold nanoparticle; High speed e beam lithography; Molecular electronics; Nanoarray; Self assembled monolayers; XPS

Indexed keywords

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY; FABRICATION; GOLD COATINGS; GOLD NANOPARTICLES; MOLECULAR ELECTRONICS; NANOTECHNOLOGY; ORGANIC POLYMERS; SINGLE CRYSTALS; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

CHARACTERIZATION TECHNIQUES; CONVENTIONAL TECHNIQUES; E-BEAM LITHOGRAPHY; NANOARRAYS; THIOL SELF-ASSEMBLED MONOLAYERS; WAFER SCALE FABRICATION; WRITING SPEED; XPS ANALYSIS;

SELF ASSEMBLED MONOLAYERS;

EID: 84987622529     PISSN: None     EISSN: 21904286     Source Type: Journal    
DOI: 10.3762/bjnano.5.202     Document Type: Article

References (25)

1. Clément, N.; Patriarche, G.; Smaali, K.; Vaurette, F.; Nishiguchi, K.; Troadec, D.; Fujiwara, A.; Vuillaume, D. Small 2011, 7, 2541-2548. doi:10.1002/smll.201190065
2. Lee, S. H.; Jo, G.; Park, W.; Lee, S.; Kim, Y.-S.; Cho, B. K.; Lee, T.; Kim, W. B. ACS Nano 2010, 4, 1829-1836. doi:10.1021/nn100197u
3. Shin, D. O.; Lee, D. H.; Moon, S.-J.; Jeong, S.-J.; Kim, J. Y.; Mun, J. H.; Cho, H.; Park, S.; Kim, S. O. Adv. Funct. Mater. 2011, 21, 201-207. doi:10.1002/adfm.201090119
4. Smaali, K.; Desbief, S.; Foti, G.; Frederiksen, T.; Sanchez, D.; Andres, A.; Leclère, P.; Vuillaume, D.; Clément, N. "On the Mechanical and Electronic Properties of Thiolated Gold Nanocrystals". To be submitted for publication
5. Schaal, P. A.; Simon, U. Beilstein J. Nanotechnol. 2013, 4, 336-344. doi:10.3762/bjnano.4.39
6. Balcells, L.; Abad, L.; Rojas, H.; Perez del Pino, A.; Estrade, S.; Arbiol, J.; Peiro, F.; Martínez, B. Small 2008, 4, 365-371. doi:10.1002/smll.200700537
7. Mäder, T.; Höche, T.; Gerlach, J. W.; Perlt, S.; Dorfmüller, J.; Saliba, M.; Vogelgesang, R.; Kern, K.; Rauschenbach, B. Nano Lett. 2010, 10, 47-51. doi:10.1021/nl903633z
8. Smaali, K.; Clément, N.; Patriarche, G.; Vuillaume, D. ACS Nano 2012, 6, 4639-4647. doi:10.1021/nn301850g
9. Jett, J. E.; Lederman, D.; Wollenberg, L. A.; Li, D.; Flora, D. R.; Bostick, C. D.; Tracy, T. S.; Gannet, P. M. J. Am. Chem. Soc. 2013, 135, 3834-3840. doi:10.1021/ja309104g
10. Wang, F.; Clément, N.; Ducatteau, D.; Troadec, D.; Tanbakuchi, H.; Legrand, B.; Dambrine, G.; Théron, D. Nanotechnology 2014, 25, 405703 doi:10.1088/0957-4484/25/40/405703
11. Liu, P.; Sun, J.; Huang, J.; Peng, R.; Tang, J.; Ding, J. Nanoscale 2010, 2, 122-127. doi:10.1039/b9nr00124g
12. Palma, M.; Abramson, J. J.; Gorodetsky, A. A.; Penzo, E.; Gonzalez, R. L.; Sheetz, M. P.; Nuckolls, C.; Hone, J.; Wind, S. J. J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 7656-7659. doi:10.1021/ja201031g
13. Pi, F.; Dillard, P.; Limouzin, L.; Charrier, A.; Sengupta, K. Nano Lett. 2013, 13, 3372-3378. doi:10.1021/nl401696m
14. Guilles, S.; Winter, S.; Michael, K. E.; Meffert, S. H.; Li, P.; Greben, K.; Simon, U.; Offenhäusser, A.; Mayer, D. Small 2012, 8, 3357-3367. doi:10.1002/smll.201200465
15. Huang, J.-S.; Callegari, V.; Geisler, P.; Brüning, C.; Kern, K.; Prangsma, J. C.; Wu, X.; Feichtner, T.; Ziegler, J.; Weinmann, P.; Kamp, M.; Forchel, A.; Biagioni, P.; Sennhauser, U.; Hecht, B. Nat. Commun. 2010, 1, 150. doi:10.1038/ncomms1143
16. Barcelo, S. J.; Lam, S.-T.; Gibson, G. A.; Sheng, X.; Henze, D. Proc. SPIE 2012, 8323, 83232L. doi:10.1117/12.916600
17. Park, M.; Harrison, C.; Chaikin, P. M.; Register, R. A.; Adamson, D. H. Science 1997, 276, 1401-1404. doi:10.1126/science.276.5317.1401
18. Pearson, A. C.; Pound, E.; Wooley, A. T.; Linford, M. R.; Harb, J. N.; Davis, R. C. Nano Lett. 2011, 11, 1981-1987. doi:10.1021/nl200306w
19. Gadegaard, N.; Thoms, S.; Macintyre, D. S.; Mcghee, K.; Gallagher, J.; Casey, B.; Wilkinson, C. D. W. Microelectron. Eng. 2003, 67-68, 162-168. doi:10.1016/S0167-9317(03)00067-4
20. Lacatena, V.; Haras, M.; Robillard, J.-F.; Monfray, S.; Skotnicki, T.; Dubois, E. Microelectron. Eng. 2014, 121, 131-134. doi:10.1016/j.mee.2014.04.034
21. Tobing, L. Y. M.; Tjahjana, L.; Zhang, D. H. Nanotechnology 2013, 24, 075303 doi:10.1088/0957-4484/24/7/075303
22. Woodbridge, C. M.; Pugmire, D. L.; Johnson, R. C.; Boag, N. M.; Langell, M. A. J. Phys. Chem. B 2000, 104, 3085-3093. doi:10.1021/jp993235+
23. Méndez De Leo, L. P.; de la Llave, E.; Scherlis, D.; Williams, F. J. J. Chem. Phys. 2013, 138, 114707. doi:10.1063/1.4795575
24. Umaña, M.; Rolison, D. R.; Nowak, R.; Daum, P.; Murray, R. W. Surf. Sci. 1980, 101, 295-309. doi:10.1016/0039-6028(80)90623-8
25. Clément, N.; Guérin, D.; Pleutin, S.; Godey, S.; Vuillaume, D. J. Phys. Chem. C 2012, 116, 17753-17763. doi:10.1021/jp3018106