High-Quality Black Phosphorus Atomic Layers by Liquid-Phase Exfoliation

Advanced Materials

Volumn 27, Issue 11, 2015, Pages 1887-1892

  Yasaei, Poya ^a   Kumar, Bijandra ^a   Foroozan, Tara ^a   Wang, Canhui ^b   Asadi, Mohammad ^a   Tuschel, David ^c   Indacochea, J Ernesto ^a   Klie, Robert F ^b   Salehi Khojin, Amin ^a  

^a University of Illinois at Chicago   (United States)

^b UNIVERSITY OF ILLINOIS AT CHICAGO   (United States)

^c Horiba Scientific   (United States)

Author keywords

2D materials; black phosphorus; flexible electronics; liquid phase exfoliation; phosphorene

Indexed keywords

FLEXIBLE ELECTRONICS; PHOSPHORUS;

ATOMIC LAYER; HIGH QUALITY; LIQUID PHASE; NANO-FLAKES; PHOSPHORENE; STABLE DISPERSIONS;

LIQUIDS;

EID: 84924873493     PISSN: 09359648     EISSN: 15214095     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.201405150     Document Type: Article

References (35)

1. K. S. Kim, Y. Zhao, H. Jang, S. Y. Lee, J. M. Kim, K. S. Kim, J.-H. Ahn, P. Kim, J.-Y. Choi, B. H. Hong, Nature 2009, 457, 706.
2. Y. Shao, J. Wang, H. Wu, J. Liu, I. A. Aksay, Y. Lin, Electroanalysis 2010, 22, 1027.
3. B. Kumar, K. Min, M. Bashirzadeh, A. B. Farimani, M.-H. Bae, D. Estrada, Y. D. Kim, P. Yasaei, Y. D. Park, E. Pop, N. R. Aluru, A. Salehi-Khojin, Nano Lett. 2013, 13, 1962.
4. O. Lopez-Sanchez, D. Lembke, M. Kayci, A. Radenovic, A. Kis, Nat. Nanotechnol. 2013, 8, 497.
5. K. S. Novoselov, V. I. Fal'ko, L. Colombo, P. R. Gellert, M. G. Schwab, K. Kim, Nature 2012, 490, 192.
6. Q. H. Wang, K. Kalantar-Zadeh, A. Kis, J. N. Coleman, M. S. Strano, Nat. Nanotechnol. 2012, 7, 699.
7. A. K. Geim, K. S. Novoselov, Nat. Mater. 2007, 6, 183.
8. J.-H. Chen, C. Jang, S. Xiao, M. Ishigami, M. S. Fuhrer, Nat. Nanotechnol. 2008, 3, 206.
9. T. H. Wang, Y. F. Zhu, Q. Jiang, J. Phys. Chem. C 2013, 117, 12873.
10. B. Radisavljevic, A. Radenovic, J. Brivio, V. Giacometti, A. Kis, Nat. Nanotechnol. 2011, 6, 147.
11. M. S. Fuhrer, J. Hone, Nat. Nanotechnol. 2013, 8, 146.
12. H. Liu, A. T. Neal, Z. Zhu, Z. Luo, X. Xu, D. Tománek, P. D. Ye, ACS Nano 2014, 8, 4033.
13. F. Xia, H. Wang, Y. Jia, Nat. Commun. 2014, 5, 4458.
14. L. Li, Y. Yu, G. J. Ye, Q. Ge, X. Ou, H. Wu, D. Feng, X. H. Chen, Y. Zhang, Nat. Nanotechnol. 2014, 9, 372.
15. S. Das, W. Zhang, M. Demarteau, A. Hoffmann, M. Dubey, A. Roelofs, Nano Lett 2014, 14, 5733.
16. V. Tran, R. Soklaski, Y. Liang, L. Yang, Phys. Rev. B 2014, 89, 235319.
17. J. Qiao, X. Kong, Z.-X. Hu, F. Yang, W. Ji, Nat. Commun. 2014, 5, 4475.
18. V. Tran, R. Soklaski, Y. Liang, L. Yang, Phys. Rev. B 2014, 89, 235319.
19. A. Favron, E. Gaufrès, F. Fossard, P. L. Lévesque, A.-L. Phaneuf-L'Heureux, N. Y. Tang, A. Loiseau, R. Leonelli, S. Francoeur, R. Martel, 2014, arXiv:1408.0345 [cond-mat.mes-hall]; available from: http://arxiv.org/abs/1408.0345.
20. S. P. Koenig, R. A. Doganov, H. Schmidt, A. H. Castro Neto, B. Özyilmaz, Appl. Phys. Lett. 2014, 104, 103106.
21. A. Castellanos-Gomez, L. Vicarelli, E. Prada, J. O. Island, K. L. Narasimha-Acharya, S. I. Blanter, D. J. Groenendijk, M. Buscema, G. a Steele, J. V Alvarez, H. W. Zandbergen, J. J. Palacios, H. S. J. van der Zant, 2D Mater. 2014, 1, 025001.
22. S. Zhang, J. Yang, R. Xu, F. Wang, W. Li, M. Ghufran, Y.-W. Zhang, Z. Yu, G. Zhang, Q. Qin, Y. Lu, ACS Nano 2014, 8, 9590.
23. C.-J. Shih, A. Vijayaraghavan, R. Krishnan, R. Sharma, J.-H. Han, M.-H. Ham, Z. Jin, S. Lin, G. L. C. Paulus, N. F. Reuel, Q. H. Wang, D. Blankschtein, M. S. Strano, Nat. Nanotechnol. 2011, 6, 439.
24. X. Wang, A. M. Jones, K. L. Seyler, V. Tran, Y. Jia, H. Zhao, H. Wang, L. Yang, X. Xu, F. Xia, 2014, arXiv:1411.1695 [cond-mat.mes-hall]; available from: http://arxiv.org/abs/1411.169.
25. R. Hultgren, N. S. Gingrich, B. E. Warren, J. Chem. Phys. 1935, 3, 351.
26. S. Das, M. Demarteau, A. Roelofs, ACS Nano 2014, 8, 11730.
27. J. N. Coleman, M. Lotya, A. O'Neill, S. D. Bergin, P. J. King, U. Khan, K. Young, A. Gaucher, S. De, R. J. Smith, I. V Shvets, S. K. Arora, G. Stanton, H.-Y. Kim, K. Lee, G. T. Kim, G. S. Duesberg, T. Hallam, J. J. Boland, J. J. Wang, J. F. Donegan, J. C. Grunlan, G. Moriarty, A. Shmeliov, R. J. Nicholls, J. M. Perkins, E. M. Grieveson, K. Theuwissen, D. W. McComb, P. D. Nellist, V. Nicolosi, Science 2011, 331, 568.
28. Y. Xu, H. Bai, G. Lu, C. Li, G. Shi, J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 5856.
29. S. Xu, Y. Zhang, L. Jia, K. E. Mathewson, K.-I. Jang, J. Kim, H. Fu, X. Huang, P. Chava, R. Wang, S. Bhole, L. Wang, Y. J. Na, Y. Guan, M. Flavin, Z. Han, Y. Huang, J. A. Rogers, Science 2014, 344, 70.
30. J. Xiao, D. Choi, L. Cosimbescu, P. Koech, J. Liu, J. P. Lemmon, Chem. Mater. 2010, 22, 4522.
31. B. Kumar, M. Asadi, D. Pisasale, S. Sinha-Ray, B. A. Rosen, R. Haasch, J. Abiade, A. L. Yarin, A. Salehi-Khojin, Nat. Commun. 2013, 4, 1.
32. M. Asadi, B. Kumar, A. Behranginia, B. A. Rosen, A. Baskin, N. Repnin, D. Pisasale, P. Phillips, W. Zhu, R. Haasch, R. F. Klie, P. Král, J. Abiade, A. Salehi-Khojin, Nat. Commun. 2014, 5, 4470.
33. A. Salehi-Khojin, D. Estrada, K. Y. Lin, K. Ran, R. T. Haasch, J.-M. Zuo, E. Pop, R. I. Masel, Appl. Phys. Lett. 2012, 100, 033111.
34. J. R. Brent, N. Savjani, E. A. Lewis, S. J. Haigh, D. J. Lewis, P. O'Brien, Chem. Commun. (Cambridge U.K.) 2014, 50, 13338.
35. E. J. Kirkland, Advanced Computing in Electron Microscopy, Springer US, Boston, MA, USA 2010.