Production and characterization of Ag nanoclusters produced by plasma gas condensation

Plasma Processes and Polymers

Volumn 11, Issue 7, 2014, Pages 629-638

  Manninen, Noora Kristiina ^a   Figueiredo, Nuno Miguel ^a   Carvalho, Sandra ^a,b   Cavaleiro, Albano ^a  

^a UNIVERSITY OF COIMBRA   (Portugal)

^b UNIVERSITY OF MINHO   (Portugal)

Author keywords

growth mechanism; inert gas condensation; nanoclusters; silver; transmission electron microscopy

Indexed keywords

AGGLOMERATION; CONDENSATION; INERT GASES; NANOCLUSTERS; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY; X RAY DIFFRACTION;

AG NANOCLUSTERS; CRYSTALLINE STRUCTURE; GROWTH MECHANISMS; INERT GAS CONDENSATION; PLASMA-GAS-CONDENSATION; ROTATION MODE; SELECTED AREA DIFFRACTION PATTERNS; SILVER NANOCLUSTERS;

SILVER;

EID: 84904419524     PISSN: 16128850     EISSN: 16128869     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/ppap.201300175     Document Type: Article

References (39)

1. J. R. Morones, J. L. Elechiguerra, A. Camacho, K. Holt, J. B. Kouri, J. P. Ramírez, M. J. Yacaman, Nanotechnology 2005, 16, 2346.
2. G. Guillemot, B. Despax, P. Raynaud, S. Zanna, P. Marcus, P. Schmitz, M. Mercier-Bonin, Plasma Process. Polym. 2008, 5, 228.
3. I. Carvalho, M. Henriques, J. C. Oliveira, C. F. A. Alves, A. P. Piedade, S. Carvalho, Sci. Technol. Adv. Mater. 2013, 14, 035009.
4. G. A. Sotiriou, S. E. Pratsinis, Environ. Sci. Technol. 2010, 44, 5649.
5. L. Sintibin, B. D. Gusseme, P. V. Meeren, B. F. G. Pycke, W. Verstraete, N. Boon, Appl. Microbiol. Biotechnol. 2011, 91, 153.
6. R. C. Adochite, D. Munteanu, M. Torrell, L. Cunha, E. Alves, N. P. Barradas, A. Cavaleiro, J. P. Riviere, E. Bourhise, D. Eyidie, F. Vaz, Appl. Surf. Sci. 2012, 258, 4028.
7. A. Demming, Nanotechnology 2013, 24, 090201.
8. J. C. Sánchez-Lõpez, M. D. Abad, I. Carvalho, R. Escobar Galindo, N. Benito, S. Ribeiro, M. Henriques, A. Cavaleiro, S. Carvalho, Surf. Coat. Technol. 2012, 206, 2192.
9. N. K. Manninen, R. Escobar Galindo, N. Benito, N. M. Figueiredo, A. Cavaleiro, C. Palacio, S. Carvalho, J. Phys. D Appl. Phys. 2011, 44, 375501.
10. S. Calderon, R. Escobar Galindo, N. Benito, C. Palacio, A. Cavaleiro, S. Carvalho, J. Phys. D Appl. Phys. 2013, 46, 325303.
11. P. J. Kelly, H. Li, P. S. Benson, K. A. Whitehead, J. Verran, R. D. Arnell, I. Iordanova, Surf. Coat. Technol. 2010, 105, 1606.
12. H. L. Huang, Y. Y. Chang, M. C. Lai, C. R. Lin, C. H. Lai, T. Z. Shieh, Surf. Coat. Technol. 2010, 205, 1636.
13. N. K. Manninen, F. Ribeiro, A. Escudeiro, T. Polcar, S. Carvalho, A. Cavaleiro, Surf. Coat. Technol. 2013, 232, 440.
14. H. W. Choi, R. H. Dauskardt, S. C. Lee, K. R. Lee, K. H. Oh, Diamond Rel. Mater. 2008, 17, 252.
15. H. S. Zhang, J. L. Endrino, A. Anders, Appl. Surf. Sci. 2008, 255, 2551.
16. V. S. K. Chakravadhanula, C. Kubel, T. Hrkac, V. Zaporojtchenko, T. Strunskus, F. Faupel, L. Kienle, Nanotechnology 2012, 23, 495701.
17. L. Bedel, C. Cayron, M. Jouve, F. Maury, Nanotechnology 2012, 23, 015603.
18. J. Mungkalasiri, L. Bedel, F. Emeux, J. Dore, F. N. R. Renaud, C. Sarantopoulos, F. Maury, Chem. Vapor Depos. 2010, 16, 35.
19. T. Arcos, P. Oelhafen, U. Aebi, A. Hefti, M. Duggelinc, D. Mathys, R. Guggenheim, Vacuum 2002, 67, 463.
20. R. Escobar Galindo, N. K. Manninen, C. Palacio, S. Carvalho, Anal. Bioanal. Chem. 2013, 405, 6259.
21. M. Torrell, R. Kabir, L. Cunha, M. I. Vasilevskiy, F. Vaz, A. Cavaleiro, E. Alves, N. P. Barradas, J. Appl. Phys. 2011, 109, 074310.
22. A. S. Reddy, N. M. Figueiredo, H. C. Cho, K. S. Lee, A. Cavaleiro, Mater. Chem. Phys. 2012, 133, 1024.
23. C. Xirouchaki, R. E. Palmer, Phil. Trans. R Soc. Lond A 2004, 362, 117.
24. K. Wegner, P. Piseri, H. Vahedi Tafreshi, P. Milani, J. Phys. D Appl. Phys. 2006, 39, 439.
25. H. Haberland, M. Mall, M. Mosseler, Y. Qiang, T. Rainers, Y. Turner, J. Vac. Sci. Technol. A 1994, 12, 2925.
26. P. Jensen, Rev. Mod. Phys. 1991, 71, 1695.
27. M. Drábik, A. Choukourov, A. Artemenko, J. Kousal, O. Polonskyi, P. Solar, O. Kylián, J. Matousek, J. Pesicka, I. Matolínová , D. Slavínská, H. Biederman, Plasma Process. Polym. 2011, 8, 640.
28. M. Ohring, Materials Science of Thin Films, 2nd ed., Academic Press, San Diego, USA, 2002, pp. 57-62.
29. T. Hihara, Suniyama, J. Appl. Phys. 1998, 84, 5270.
30. V. N. Popok, I. Barke, E. B. E. Campbell, K. H. Meiwes-Broer, Surf. Sci. Rep. 2011, 66, 347.
31. A. I. Ayesh, N. Qamhieh, H. Ghamlouche, S. Thaker, M. El-Shaer, J. Appl. Phys. 2010, 107, 034317.
32. A. I. Ayesh, S. T. Mahmoud, N. Qamhieh, Z. A. Karam, J. Nanomed. Nanotechol. 2012, 3:5, 1000143.
33. A. N. Banerjee, R. Krishna, B. Das, Appl. Phys. A 2008, 90, 299.
34. S. Yamamuro, K. Sumiyama, M. Sakurai, K. Suzuki, Supramol. Sci. 1998, 5, 239.
35. O. Polonskyi, P. Solar, O. Kylián, M. Drábik, A. Artemenko, J. Kousal, J. Hanus, J. Pesicka, I. Matolínová, E. Kolíbalová, D. Slavínská, H. Biederman, Thin Solid Films 2012, 520, 4155.
36. B. M. Smirnov, I. Shyjumon, R. Hippler, Phys. Rev. E 75, 2007, 066402.
37. L. Bardotti, P. Jensen, A. Hoareau, M. Treilleux, B. Cabaud, A. Perez, F. Santos Aires, Surf. Sci. 1996, 367, 276.
38. P. Jensen, A. Clement, L. J. Lewis, Comput. Mater. Sci. 2004, 30, 137.
39. B. Yoon, V. M. Akulin, Ph. Cahuzac, F. Carlier, M. Frutos, A. Masson, C. Mory, C. Colliex, C. Bréchignac, Surf. Sci. 1999, 443, 76.