Interface control in organic electronics using mixed monolayers of carboranethiol isomers

Nano Letters

Volumn 14, Issue 5, 2014, Pages 2946-2951

  Kim, Jaemyung ^a   Rim, You Seung ^b   Liu, Yongsheng ^a,b   Serino, Andrew C ^a,b   Thomas, John C ^a   Chen, Huajun ^b   Yang, Yang ^a,b   Weiss, Paul S ^a,b  

^a UNIVERSITY OF CALIFORNIA   (United States)

^b Engineering IV   (United States)

Author keywords

Cage molecules; organic electronic devices; self assembled monolayers; solution processing; surface energy; work function

Indexed keywords

INTERFACIAL ENERGY; MOLECULES; ORGANIC FIELD EFFECT TRANSISTORS; SELF ASSEMBLED MONOLAYERS; WORK FUNCTION;

DEVICE PERFORMANCE; INTERFACE ENGINEERING; MIXED SELF ASSEMBLED MONOLAYERS; MOLECULAR DIPOLE MOMENT; ORGANIC ELECTRONIC DEVICES; ORGANIC ELECTRONICS; SOLUTION-PROCESSED; SOLUTION-PROCESSING;

ISOMERS;

EID: 84900490390     PISSN: 15306984     EISSN: 15306992     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/nl501081q     Document Type: Article

References (52)

1. Brütting, W.; Adachi, C.; Holmes, R. J. D. Physics of Organic Semiconductors, 2 nd ed.; Wiley-VCH: Weinheim, 2012.
2. Forrest, S. R. Nature 2004, 428, 911-918
3. Sirringhaus, H. Adv. Mater. 2014, 26, 1319-1335
4. Allard, S.; Forster, M.; Souharce, B.; Thiem, H.; Scherf, U. Angew. Chem., Int. Ed. 2008, 47, 4070-4098
5. Sirringhaus, H. Adv. Mater. 2005, 17, 2411-2425
6. Bao, Z.; Locklin, J. J. Organic Field-Effect Transistors; CRC Press: Boca Raton, FL, 2007.
7. Cahen, D.; Kahn, A.; Umbach, E. Mater. Today 2005, 8, 32-41
8. Ma, H.; Yip, H. L.; Huang, F.; Jen, A. K. Y. Adv. Funct. Mater. 2010, 20, 1371-1388
9. Natali, D.; Caironi, M. Adv. Mater. 2012, 24, 1357-1387
10. Eom, S. H.; Baek, M.-J.; Park, H.; Yan, L.; Liu, S.; You, W.; Lee, S.-H. ACS Appl. Mater. Interfaces 2013, 6, 803-810
11. Bürgi, L.; Richards, T. J.; Friend, R. H.; Sirringhaus, H. J. Appl. Phys. 2003, 94, 6129-6137
12. Chua, L. L.; Zaumseil, J.; Chang, J. F.; Ou, E. C. W.; Ho, P. K. H.; Sirringhaus, H.; Friend, R. H. Nature 2005, 434, 194-199
13. Wang, S. D.; Minari, T.; Miyadera, T.; Tsukagoshi, K.; Aoyagi, Y. Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 203508
14. Chu, C.-W.; Li, S.-H.; Chen, C.-W.; Shrotriya, V.; Yang, Y. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 193508
15. Kumaki, D.; Umeda, T.; Tokito, S. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 013301
16. Li, S.-H.; Xu, Z.; Yang, G.; Ma, L.; Yang, Y. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 213301
17. Zhou, Y.; Fuentes-Hernandez, C.; Shim, J.; Meyer, J.; Giordano, A. J.; Li, H.; Winget, P.; Papadopoulos, T.; Cheun, H.; Kim, J.; Fenoll, M.; Dindar, A.; Haske, W.; Najafabadi, E.; Khan, T. M.; Sojoudi, H.; Barlow, S.; Graham, S.; Brédas, J.-L.; Marder, S. R.; Kahn, A.; Kippelen, B. Science 2012, 336, 327-332
18. Helander, M. G. Science 2012, 336, 302-303
19. Campbell, I. H.; Rubin, S.; Zawodzinski, T. A.; Kress, J. D.; Martin, R. L.; Smith, D. L.; Barashkov, N. N.; Ferraris, J. P. Phys. Rev. B 1996, 54, R14321-R14324
20. Hamadani, B. H.; Corley, D. A.; Ciszek, J. W.; Tour, J. M.; Natelson, D. Nano Lett. 2006, 6, 1303-1306
21. Marmont, P.; Battaglini, N.; Lang, P.; Horowitz, G.; Hwang, J.; Kahn, A.; Amato, C.; Calas, P. Org. Electron. 2008, 9, 419-424
22. Cheng, X. Y.; Noh, Y. Y.; Wang, J. P.; Tello, M.; Frisch, J.; Blum, R. P.; Vollmer, A.; Rabe, J. P.; Koch, N.; Sirringhaus, H. Adv. Funct. Mater. 2009, 19, 2407-2415
23. DiBenedetto, S. A.; Facchetti, A.; Ratner, M. A.; Marks, T. J. Adv. Mater. 2009, 21, 1407-1433
24. Boudinet, D.; Benwadih, M.; Qi, Y. B.; Altazin, S.; Verilhac, J. M.; Kroger, M.; Serbutoviez, C.; Gwoziecki, R.; Coppard, R.; Le Blevennec, G.; Kahn, A.; Horowitz, G. Org. Electron. 2010, 11, 227-237
25. Kim, S. H.; Lee, S. H.; Jang, J. IEEE Electron Device Lett. 2010, 31, 1044-1046
26. Bauert, T.; Zoppi, L.; Koller, G.; Garcia, A.; Baldridge, K. K.; Ernst, K.-H. J. Phys. Chem. Lett. 2011, 2, 2805-2809
27. Lenz, T.; Schmaltz, T.; Novak, M.; Halik, M. Langmuir 2012, 28, 13900-13904
28. Claridge, S. A.; Liao, W. S.; Thomas, J. C.; Zhao, Y. X.; Cao, H. H.; Cheunkar, S.; Serino, A. C.; Andrews, A. M.; Weiss, P. S. Chem. Soc. Rev. 2013, 42, 2725-2745
29. Alloway, D. M.; Hofmann, M.; Smith, D. L.; Gruhn, N. E.; Graham, A. L.; Colorado, R.; Wysocki, V. H.; Lee, T. R.; Lee, P. A.; Armstrong, N. R. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 11690-11699
30. Heimel, G.; Romaner, L.; Zojer, E.; Bredas, J.-L. Acc. Chem. Res. 2008, 41, 721-729
31. Wu, K. Y.; Yu, S. Y.; Tao, Y. T. Langmuir 2009, 25, 6232-6238
32. Chen, C. Y.; Wu, K. Y.; Chao, Y. C.; Zan, H. W.; Meng, H. F.; Tao, Y. T. Org. Electron. 2011, 12, 148-153
33. Kim, D. H.; Jang, Y.; Park, Y. D.; Cho, K. Langmuir 2005, 21, 3203-3206
34. Asadi, K.; Gholamrezaie, F.; Smits, E. C. P.; Blom, P. W. M.; de Boer, B. J. Mater. Chem. 2007, 17, 1947-1953
35. Love, J. C.; Estroff, L. A.; Kriebel, J. K.; Nuzzo, R. G.; Whitesides, G. M. Chem. Rev. 2005, 105, 1103-1170
36. Poirier, G. E. Chem. Rev. 1997, 97, 1117-1128
37. Weiss, P. S. Acc. Chem. Res. 2008, 41, 1772-1781
38. Base, T.; Bastl, Z.; Plzak, Z.; Grygar, T.; Plesek, J.; Carr, M. J.; Malina, V.; Subrt, J.; Bohacek, J.; Vecernikova, E.; Kriz, O. Langmuir 2005, 21, 7776-7785
39. Hohman, J. N.; Zhang, P. P.; Morin, E. I.; Han, P.; Kim, M.; Kurland, A. R.; McClanahan, P. D.; Balema, V. P.; Weiss, P. S. ACS Nano 2009, 3, 527-536
40. Hohman, J. N.; Claridge, S. A.; Kim, M.; Weiss, P. S. Mater. Sci. Eng., R 2010, 70, 188-208
41. Kim, M.; Hohman, J. N.; Morin, E. I.; Daniel, T. A.; Weiss, P. S. J. Phys. Chem. A 2009, 113, 3895-3903
42. Hohman, J. N.; Kim, M.; Schüpbach, B.; Kind, M.; Thomas, J. C.; Terfort, A.; Weiss, P. S. J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 19422-19431
43. Grimes, R. N. Carboranes, 2 nd ed.; Academic Press: Burlington, MA, 2011.
44. Smith, R. K.; Reed, S. M.; Lewis, P. A.; Monnell, J. D.; Clegg, R. S.; Kelly, K. F.; Bumm, L. A.; Hutchison, J. E.; Weiss, P. S. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 1119-1122
45. Stranick, S. J.; Parikh, A. N.; Tao, Y. T.; Allara, D. L.; Weiss, P. S. J. Phys. Chem. 1994, 98, 7636-7646
46. Stranick, S. J.; Atre, S. V.; Parikh, A. N.; Wood, M. C.; Allara, D. L.; Winograd, N.; Weiss, P. S. Nanotechnology 1996, 7, 438-442
47. Owens, D. K.; Wendt, R. C. J. Appl. Polym. Sci. 1969, 13, 1741-1747
48. Saavedra, H. M.; Mullen, T. J.; Zhang, P.; Dewey, D. C.; Claridge, S. A.; Weiss, P. S. Rep. Prog. Phys. 2010, 73, 036501
49. Base, T.; Bastl, Z.; Havranek, V.; Lang, K.; Bould, J.; Londesborough, M. G. S.; Machacek, J.; Plesek, J. Surf. Coat. Technol. 2010, 204, 2639-2646
50. Base, T.; Bastl, Z.; Havranek, V.; Machacek, J.; Langecker, J.; Malina, V. Langmuir 2012, 28, 12518-12526
51. Ohta, T.; Nagano, T.; Ochi, K.; Kubozono, Y.; Shikoh, E.; Fujiwara, A. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 053508
52. Dong, H.; Fu, X.; Liu, J.; Wang, Z.; Hu, W. Adv. Mater. 2013, 25, 6158-6183