Flexible organic field-effect transistor fabricated by thermal press process

Physica Status Solidi (A) Applications and Materials Science

Volumn 210, Issue 7, 2013, Pages 1353-1357

  Inoue, Atsuo ^a   Okamoto, Tatsuyoshi ^a   Sakai, Masatoshi ^a   Kuniyoshi, Shigekazu ^a   Yamauchi, Hiroshi ^a   Nakamura, Masakazu ^b   Kudo, Kazuhiro ^a  

^a CHIBA UNIVERSITY   (Japan)

^b NARA INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY   (Japan)

Author keywords

field effect transistors; flexible electronics; organic semiconductors; printing

Indexed keywords

COMPLEMENTARY METHODS; FLEXIBLE DEVICE; FLEXIBLE SHEETS; HIGH THROUGHPUT; PRINTING PROCESS; ROLL-TO-ROLL PROCESS; STRUCTURAL DURABILITY; THERMAL PRESSING;

FABRICATION; FLEXIBLE ELECTRONICS; ORGANIC FIELD EFFECT TRANSISTORS; PRESSES (MACHINE TOOLS); PRINTING; PRINTING PRESSES; SEMICONDUCTING ORGANIC COMPOUNDS;

FLEXIBLE DISPLAYS;

EID: 84881389792     PISSN: 18626300     EISSN: 18626319     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/pssa.201228776     Document Type: Article

References (52)

1. D. I. Kim, B. U. Hwang, J. S. Park, H. S. Jeon, B. S. Bae, H. J. Lee, and, N.-E. Lee, Org. Electron. 13, 2401 (2012).
2. R. Nakahara, M. Uno, T. Uemura, K. Takimiya, and, J. Takeya, Adv. Mater. 24, 5212 (2012).
3. Z. R. Wang, J. Z. Xin, X. C. Ren, X. L. Wang, C. W. Leung, S. Q. Shi, A. Ruotolo, and, P. K. L. Chan, Org. Electron. 13, 1223 (2012).
4. T. Q. Trung, N. T. Tien, Y. G. Seol, and, N.-E. Lee, Org. Electron. 13, 533 (2012).
5. J. Jeon, B. C.-K. Tee, B. Murmann, and, Z. Bao, Appl. Phys. Lett. 100, 043301 (2012).
6. K. Gui, K. Mutkins, P. E. Schwenn, K. B. Krueger, A. Pivrikas, P. Wolfer, N. S. Stutzmann, P. L. Burn, and, P. Meredith, J. Mater. Chem. 22, 1800 (2012).
7. S. H. Kim, H. R. Hwang, H. J. Kwon, and, J. Jang, Appl. Phys. Lett. 100, 053302 (2012).
8. X. Yu, Z. Wang, S. Yu, D. Ma, and, Y. Han, Appl. Surf. Sci. 257, 9264 (2011).
9. M. Uno, K. Nakayama, J. Soeda, Y. Hirose, K. Miwa, T. Uemura, A. Nakao, K. Takimiya, and, J. Takeya, Adv. Mater. 23, 3047 (2011).
10. D. K. Hwang, C. Fuentes-Hernandez, J. B. Kim, W. J. Potscavage, Jr., and, B. Kippelen, Org. Electron. 12, 1108 (2011).
11. W. H. Lee, J. Park, S. H. Sim, S. B. Jo, K. S. Kim, B. H. Hong, and, K. Cho, Adv. Mater. 23, 1752 (2011).
12. C.-H. Wang, C. O.-Y. Hsieh, and, J.-C. Hwang, Adv. Mater. 23, 1630 (2011).
13. Y.-G. Ha, S. Jeong, J. Wu, M.-G. Kim, V. P. Dravid, A. Facchetti, and, T. J. Marks, J. Am. Chem. Soc. 132, 17426 (2010).
14. U. Zschieschang, F. Ante, T. Yamamoto, K. Takimiya, H. Kuwabara, M. Ikeda, T. Sekitani, T. Someya, K. Kern, and, H. Klauk, Adv. Mater. 22, 982 (2010).
15. I. M. Graz, and, S. P. Lacour, Appl. Phys. Lett. 95, 243305 (2009).
16. W. H. Lee, J. A. Lim, D. Kwak, J. H. Cho, H. S. Lee, H. H. Choi, and, K. Cho, Adv. Mater. 21, 4243 (2009).
17. A. Jedaa, and, M. Halik, Appl. Phys. Lett. 95, 103309 (2009).
18. Z. Liu, J. H. Oh, M. E. Roberts, P. Wei, B. C. Paul, M. Okajima, Y. Nishi, and, Z. Bao, Appl. Phys. Lett. 94, 203301 (2009).
19. X.-H. Zhang, W. J. Potscavage, Jr., S. Choi, and, B. Kippelen, Appl. Phys. Lett. 94, 043312 (2009).
20. C. Yang, J. Yoon, S. H. Kim, K. Hong, D. S. Chung, K. Heo, C. E. Park, and, M. Ree, Appl. Phys. Lett. 92, 243305 (2008).
21. Y. G. Seol, N.-E. Lee, S. H. Park, and, J. Y. Bae, Org. Electron. 9, 413 (2008).
22. P. Cosseddu, A. Bonfglio, I. Salzmann, J. P. Rabe, and, N. Koch, Org. Electron. 9, 191 (2008).
23. L. Wang, M.-H. Yoon, A. Facchetti, and, T. J. Marks, Adv. Mater. 19, 3252 (2007).
24. Y. G. Seol, J. G. Lee, and, N.-E. Lee, Org. Electron. 8, 513 (2007).
25. H. Klauk, M. Halik, U. Zschieschang, F. Eder, G. Schmid, and, C. Dehm, Appl. Phys. Lett. 82, 4175 (2003).
26. S. Steudel, K. Myny, S. Schols, P. Vicca, S. Smout, A. Tripathi, B. van der Putten, J.-L. van der Steen, M. van Neer, F. Schutze, O. R. Hild, E. van Veenendaal, P. van Lieshout, M. van Mil, J. Genoe, G. Gelinck, and, P. Heremans, Org. Electron. 13, 1729 (2012).
27. E. Najafabadi, K. A. Knauer, W. Haske, C. Fuentes-Hernandez, and, B. Kippelen, Appl. Phys. Lett. 101, 023304 (2012).
28. S.-Y. Kim, J.-H. Lee, J.-H. Lee, and, J.-J. Kim, Org. Electron. 13, 826 (2012).
29. J.-H. Lee, J. W. Kim, S.-Y. Kim, S.-J. Yoo, J.-H. Lee, and, J.-J. Kim, Org. Electron. 13, 545 (2012).
30. S. Kim, H.-J. Kwon, S. Lee, H. Shim, Y. Chun, W. Choi, J. Kwack, D. Han, M. S. Song, S. Kim, S. Mohammadi, Kee. InSeo, and, S. Y. Lee, Adv. Mater. 23, 3511 (2011).
31. J.-H. Jou, C.-P. Wang, M.-H. Wu, H.-W. Lin, H. C. Pan, and, B.-H. Liu, J. Mater. Chem. 20, 6626 (2010).
32. H. Cho, C. Yun, J.-W. Park, and, S. Yoo, Org. Electron. 10, 1163 (2009).
33. J.-S. Park, T.-W. Kim, D. Stryakhilev, J.-S. Lee, S.-G. An, Y.-S. Pyo, D.-B. Lee, Y. G. Mo, D.-U. Jin, and, H. K. Chung, Appl. Phys. Lett. 95, 013503 (2009).
34. G.-F. Wang, X.-M. Tao, and, R.-X. Wang, Nanotechnology 19, 145201 (2008).
35. L. Zhou, A. Wanga, S.-C. Wu, J. Sun, S. Park, and, T. N. Jackson, Appl. Phys. Lett. 88, 083502 (2006).
36. K.-J. Baeg, D. Khim, J. Kim, B.-D. Yang, M. Kang, S.-W. Jung, I.-K. You, and, Y.-Y. Noh, Adv. Funct. Mater. 22, 2915 (2012).
37. M. Kaltenbrunner, P. Stadler, R. Schwodiauer, A. W. Hassel, N. S. Sariciftci, and, S. Bauer, Adv. Mater. 23, 4892 (2011).
38. K. Fukuda, T. Sekitani, U. Zschieschang, H. Klauk, K. Kuribara, T. Yokota, T. Sugino, K. Asaka, M. Ikeda, H. Kuwabara, T. Yamamoto, K. Takimiya, T. Fukushima, T. Aida, M. Takamiya, T. Sakurai, and, T. Someya, Adv. Funct. Mater. 21, 4019 (2011).
39. S.-J. Kim, J.-M. Song, and, J.-S. Lee, J. Mater. Chem. 21, 14516 (2011).
40. Y. Ji, B. Cho, S. Song, T.-W. Kim, M. Choe, Y. H. Kahng, and, T. Lee, Adv. Mater. 22, 3071 (2010).
41. T. N. Ng, W. S. Wong, M. L. Chabinyc, S. Sambandan, and, R. A. Street, Appl. Phys. Lett. 92, 213303 (2008).
42. Y. Noguchi, T. Sekitani, and, T. Someya, Appl. Phys. Lett. 89, 253507 (2006).
43. I. Manunza, A. Sulis, and, A. Bonfiglio, Appl. Phys. Lett. 89, 143502 (2006).
44. A. Loi, I. Manunza, and, A. Bonfiglio, Appl. Phys. Lett. 86, 103512 (2005).
45. A. Matsui, and, Y. Ishii, Jpn. J. Appl. Phys. 6, 127 (1967).
46. M. Saleh, Jpn. J. Appl. Phys. 17, 1031 (1978).
47. W. Warta, R. Stehle, and, N. Karl, Appl. Phys. A 36, 163 (1985).
48. N. Karl, and, J. Marktanner, Mol. Cryst. Liq. Cryst. 355, 149 (2001).
49. A. K. Tripathi, M. Heinrich, T. Siegrist, and, J. Pflaum, Adv. Mater. 19, 2097 (2007).
50. Z. Shi, T. Enoki, K. Imaeda, K. Seki, P. Wu, H. Inokuchi, and, G. Saito, J. Phys. Chem. 92, 5044 (1988).
51. T. Sekitani, S. Iba, Y. Kato, Y. Noguchi, T. Someya, and, T. Sakurai, Appl. Phys. Lett. 87, 173502 (2005).
52. S. R. Forrest, Nature 428, 911 (2004).