Critical tensile strain and water vapor transmission rate for nanolaminate films grown using Al2O3 atomic layer deposition and alucone molecular layer deposition

Applied Physics Letters

Volumn 101, Issue 23, 2012, Pages

  Jen, Shih Hui ^a   Lee, Byoung H ^a   George, Steven M ^a,b   McLean, Robert S ^c   Carcia, Peter F ^c  

^a UNIVERSITY OF COLORADO   (United States)

^b UCB 450   (United States)

^c DUPONT COMPANY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

MEASUREMENT SENSITIVITY; MOLECULAR LAYER DEPOSITION; NANO-LAMINATES; NANOLAMINATE; NANOLAMINATE FILMS; POLYIMIDE SUBSTRATE; WATER VAPOR TRANSMISSION RATE;

FILM GROWTH; POLYIMIDES; VAPORS;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 84870909935     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.4766731     Document Type: Article

References (19)

1. J. A. Hauch, P. Schilinsky, S. A. Choulis, S. Rajoelson, and C. J. Brabec, Appl. Phys. Lett. 93, 103306 (2008). 10.1063/1.2975185
2. J. S. Lewis and M. S. Weaver, IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron. 10, 45 (2004). 10.1109/JSTQE.2004.824072
3. P. F. Carcia, R. S. McLean, M. D. Groner, A. A. Dameron, and S. M. George, J. Appl. Phys. 106, 023533 (2009). 10.1063/1.3159639
4. S. Ferrari, F. Perissinotti, E. Peron, L. Fumagalli, D. Natali, and M. Sampietro, Org. Electron. 8, 407 (2007). 10.1016/j.orgel.2007.02.004
5. W. J. Potscavage, S. Yoo, B. Domercq, and B. Kippelen, Appl. Phys. Lett. 90, 253511 (2007). 10.1063/1.2751108
6. P. F. Carcia, R. S. McLean, M. H. Reilly, M. D. Groner, and S. M. George, Appl. Phys. Lett. 89, 031915 (2006). 10.1063/1.2221912
7. M. D. Groner, S. M. George, R. S. McLean, and P. F. Carcia, Appl. Phys. Lett. 88, 051907 (2006). 10.1063/1.2168489
8. E. Langereis, M. Creatore, S. B. S. Heil, M. C. M. Van de Sanden, and W. M. M. Kessels, Appl. Phys. Lett. 89, 081915 (2006). 10.1063/1.2338776
9. S. H. Jen, J. A. Bertrand, and S. M. George, J. Appl. Phys. 109, 084305 (2011). 10.1063/1.3567912
10. L. Han, P. Mandlik, J. Gartside, S. Wagner, J. A. Silvernail, R. Q. Ma, M. Hack, and J. J. Brown, J. Electrochem. Soc. 156, H106 (2009). 10.1149/1.3028308
11. T. W. Kim, M. Yan, G. Erlat, P. A. McConnelee, M. Pellow, J. Deluca, T. P. Feist, A. R. Duggal, and M. Schaepkens, J. Vac. Sci. Technol. A 23, 971 (2005). 10.1116/1.1913680
12. P. Mandlik, J. Gartside, L. Han, I. C. Cheng, S. Wagner, J. A. Silvernail, R. Q. Ma, M. Hack, and J. J. Brown, Appl. Phys. Lett. 92, 103309 (2008). 10.1063/1.2890432
13. M. Schaepkens, T. W. Kim, A. G. Erlat, M. Yan, K. W. Flanagan, C. M. Heller, and P. A. McConnelee, J. Vac. Sci. Technol. A 22, 1716 (2004). 10.1116/1.1705646
14. S. M. George, B. Yoon, and A. A. Dameron, Acc. Chem. Res. 42, 498 (2009). 10.1021/ar800105q
15. A. A. Dameron, D. Seghete, B. B. Burton, S. D. Davidson, A. S. Cavanagh, J. A. Bertrand, and S. M. George, Chem. Mater. 20, 3315 (2008). 10.1021/cm7032977
16. B. H. Lee, B. Yoon, V. R. Anderson, and S. M. George, J. Phys. Chem. C 116, 3250 (2012). 10.1021/jp209003h
17. J. W. Elam, M. D. Groner, and S. M. George, Rev. Sci. Instrum. 73, 2981 (2002). 10.1063/1.1490410
18. D. C. Miller, R. R. Foster, Y. D. Zhang, S. H. Jen, J. A. Bertrand, Z. X. Lu, D. Seghete, J. L. OPatchen, R. G. Yang, Y. C. Lee, S. M. George, and M. L. Dunn, J. Appl. Phys. 105, 093527 (2009). 10.1063/1.3124642
19. Y. D. Zhang, Y. Z. Zhang, D. C. Miller, J. A. Bertrand, S. H. Jen, R. G. Yang, M. L. Dunn, S. M. George, and Y. C. Lee, Thin Solid Films 517, 6794 (2009). 10.1016/j.tsf.2009.05.037