Hole injection enhancements of a CoPc and CoPc:NPB mixed layer in organic light-emitting devices

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 116, Issue 24, 2012, Pages 13210-13216

  Lee, Hyunbok ^a   Lee, Jeihyun ^a   Jeong, Kwangho ^a   Yi, Yeonjin ^a   Lee, Jung Han ^b   Kim, Jeong Won ^c   Cho, Sang Wan ^d  

^a Yonsei University   (South Korea)

^b University of Science and Technology (UST)   (South Korea)

^c Korea Research Institute of Standards and Science   (South Korea)

^d SLAC NATIONAL ACCELERATOR LABORATORY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CENTRAL METALS; COBALT PHTHALOCYANINE; COPPER PHTHALOCYANINE; DEVICE PERFORMANCE; ELECTRON TRANSFER; HIGHEST OCCUPIED MOLECULAR ORBITAL; HOLE INJECTION; HOLE INJECTION BARRIERS; HOLE INJECTION LAYERS; HOLE TRANSPORT LAYERS; IN-SITU; INDIUM TIN OXIDE; MACROCYCLES; MIXED LAYER; ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICES; THEORETICAL CALCULATIONS; THROUGH CURRENT;

CURRENT DENSITY; INDIUM COMPOUNDS; NAPHTHALENE; PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; QUANTUM CHEMISTRY; TIN; TIN OXIDES;

ELECTRON INJECTION;

EID: 84863306305     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp3029598     Document Type: Article

References (50)

1. So, F. Organic Electronics: Materials, Processing, Devices and Applications; CRC Press: Boca Raton, FL, 2010.
2. VanSlyke, S. A.; Chen, C. H.; Tang, C. W. Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 2160.
3. Koo, Y.-M.; Song, O.-K. Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 153302.
4. Bulović, V.; Tian, P.; Burrows, P. E.; Gokhale, M. R.; Forrest, S. R.; Thompson, M. E. Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 2954.
5. You, H.; Dai, Y.; Zhang, Z.; Ma, D. J. Appl. Phys. 2007, 101, 026105.
6. Zhu, X. L.; Sun, J. X.; Peng, H. J.; Meng, Z. G.; Wong, M.; Kwok, H. S. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 153508.
7. Meyer, J.; Hamwi, S.; Bulow, T.; Johannes, H.-H.; Riedl, T.; Kowalsky, W. Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 113506.
8. Park, S. M.; Kim, Y. H.; Yi, Y.; Oh, H.-Y.; Kim, J. W. Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 063308.
9. Tadayyon, S. M.; Grandin, H. M.; Griffiths, K.; Norton, P. R.; Aziz, H.; Popovic, Z. D. Org. Electron. 2004, 5, 157.
10. Jeon, P.; Lee, H.; Lee, J.; Jeong, K.; Lee, J. W.; Yi, Y. Appl. Phys. Lett. 2011, 99, 073305.
11. Chkoda, L.; Heske, C.; Sokolowski, M.; Umbach, E. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 1093.
12. Lee, H.; Cho, S. W.; Han, K.; Jeon, P.; Whang, C.-N.; Jeong, K.; Cho, K.; Yi, Y. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 043308.
13. Kroger, M.; Hamwi, S.; Meyer, J.; Riedl, T.; Kowalsky, W.; Kahn, A. Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 123301.
14. Kanai, K.; Koizumi, K.; Ouchi, S.; Tsukamoto, Y.; Sakanoue, K.; Ouchi, Y.; Seki, K. Org. Electron. 2010, 11, 188.
15. Meyer, J.; Zilberberg, K.; Riedl, T.; Kahn, A. J. Appl. Phys. 2011, 110, 033710.
16. Kim, Y. H.; Kwon, S.; Lee, J. H.; Park, S. M.; Lee, Y. M.; Kim, J. W. J. Phys. Chem. C 2011, 115, 6599.
17. Kim, Y.-K.; Kim, J. W.; Park, Y. Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 063305.
18. Grobosch, M.; Aristrov, V. Y.; Molodtsova, O. V.; Schmidt, C.; Doyle, B. P.; Nannarone, S.; Knupfer, M. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 13219.
19. Grobosch, M.; Schmidt, C.; Kraus, R.; Knupfer, M. Org. Electron. 2010, 11, 1483.
20. Xie, G.; Meng, Y.; Wu, F.; Tao, C.; Zhang, D.; Liu, M.; Xue, Q.; Chen, W.; Zhao, Y. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 093305.
21. Qiu, J.; Wang, Z. B.; Helander, M. G.; Lu, Z. H. Appl. Phys. Lett. 2011, 99, 153305.
22. Wang, F.; Qiao, X.; Xiong, T.; Ma, D. J. Appl. Phys. 2009, 105, 084518.
23. Becke, A. D. J. Chem. Phys. 1993, 98, 5648.
24. Lee, C.; Yang, W.; Parr, R. G. Phys. Rev. B 1988, 37, 785.
25. Frisch, M. J.; Trucks, G. W.; Schlegel, H. B.; Scuseria, G. E.; Robb, M. A.; Cheeseman, J. R.; Scalmani, G.; Barone, V.; Mennucci, B.; Petersson, G. A.; Nakatsuji, H.; Caricato, M.; Li, X.; Hratchian, H. P.; Izmaylov, A. F.; Bloino, J.; Zheng, G.; Sonnenberg, J. L.; Hada, M.; Ehara, M.; Toyota, K.; Fukuda, R.; Hasegawa, J.; Ishida, M.; Nakajima, T.; Honda, Y.; Kitao, O.; Nakai, H.; Vreven, T.; Montgomery, J. A., Jr.; Peralta, J. E.; Ogliaro, F.; Bearpark, M.; Heyd, J. J.; Brothers, E.; Kudin, K. N.; Staroverov, V. N.; Kobayashi, R.; Normand, J.; Raghavachari, K.; Rendell, A.; Burant, J. C.; Iyengar, S. S.; Tomasi, J.; Cossi, M.; Rega, N.; Millam, J. M.; Klene, M.; Knox, J. E.; Cross, J. B.; Bakken, V.; Adamo, C.; Jaramillo, J.; Gomperts, R.; Stratmann, R. E.; Yazyev, O.; Austin, A. J.; Cammi, R.; Pomelli, C.; Ochterski, J. W.; Martin, R. L.; Morokuma, K.; Zakrzewski, V. G.; Voth, G. A.; Salvador, P.; Dannenberg, J. J.; Dapprich, S.; Daniels, A. D.; Farkas, O.; Foresman, J. B.; Ortiz, J. V.; Cioslowski, J.; Fox, D. J. Gaussian 09, revision A.01; Gaussian, Inc.: Wallingford, CT, 2009.
26. Zahn, D. R. T.; Gavrila, G. N.; Salvan, G. Chem. Rev. 2007, 107, 1161.
27. Chen, S.; Ma, J. J. Comput. Chem. 2009, 30, 1959.
28. Shen, X.; Sun, L.; Yi, Z.; Benassi, E.; Zhang, R.; Shen, Z.; Sanvito, S.; Hou, S. Phys. Chem. Chem. Phys. 2010, 12, 10805.
29. Mugarza, A.; Robles, R.; Krull, C.; Korytár, R.; Lorente, N.; Gambardella, P. Phys. Rev. B 2012, 85, 155437.
30. Hung, L. S.; Tang, C. W.; Mason, M. G. Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 152.
31. Yi, Y.; Kang, S. J.; Cho, K.; Koo, J. M.; Han, K.; Park, K.; Noh, M.; Whang, C. N.; Jeong, K. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 213502.
32. Schmitz, C.; Schmitz, H.-W.; Thelakkat, M. Chem. Mater. 2000, 12, 3012.
33. Sun, X.; Zhou, D.-Y.; Qiu, L.; Liao, L.-S.; Yan, F. J. Phys. Chem. C 2011, 115, 2433.
34. Xie, K.; Qiao, J.; Duan, L.; Li, Y.; Zhang, D.; Dong, G.; Wang, L.; Qiu, Y. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 183302.
35. Yook, K. S.; Jeon, S. O.; Min, S.-Y.; Lee, J. Y.; Yang, H.-J.; Noh, T.; Kang, S.-K.; Lee, T.-W. Adv. Funct. Mater. 2010, 20, 1797.
36. Duan, L.; Liu, Q.; Li, Y.; Gao, Y.; Zhang, G.; Zhang, D.; Wang, L.; Qiu, Y. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 13386.
37. Huang, J.; Xu, Z.; Yang, Y. Adv. Funct. Mater. 2007, 17, 1966.
38. Shangguan, R.; Mu, G.; Qiao, X.; Wang, L.; Cheah, K.-W.; Zhu, X.; Chen, C. H. Org. Electron. 2011, 12, 1957.
39. Bolink, H. J.; Coronado, E.; Repetto, D.; Sessolo, M. Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 223501.
40. Morii, K.; Ishida, M.; Takashima, T.; Shimoda, T.; Wang, Q.; Nazeeruddin, M. K.; Grätzel, M. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 183510.
41. Tokmoldin, N.; Griffiths, N.; Bradley, D. D. C.; Haque, S. A. Adv. Mater. 2009, 21, 3475.
42. Lee, H.; Lee, J.; Jeon, P.; Jeong, K.; Yi, Y.; Kim, T. G.; Kim, J. W.; Lee, J. W. Org. Electron. 2012, 13, 820.
43. Gao, W.; Kahn, A. J. Appl. Phys. 2003, 94, 359.
44. Cho, S. W.; Piper, L. F. J.; DeMasi, A.; Preston, A. R. H.; Smith, K. E.; Chauhan, K. V.; Sullivan, P.; Hatton, R. A.; Jones, T. S. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 1928.
45. Hill, I. G.; Kahn, A.; Soos, Z. G.; Pascal, R. A., Jr. Chem. Phys. Lett. 2000, 327, 181.
46. Petraki, F.; Peisert, H.; Biswas, I. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 17638.
47. Petraki, F.; Kennou, S. Org. Electron. 2009, 10, 1382.
48. Hill, I. G.; Milliron, D.; Schwartz, J.; Kahn, A. Appl. Surf. Sci. 2000, 166, 354.
49. Lüth, H. Solid Surfaces, Interfaces and Thin Films, 4th ed.; Springer: New York, 2001.
50. Sauther, J.; Wüsten, J.; Lach, S.; Ziegler, C. J. Chem. Phys. 2009, 131, 034711.