Low-work-function surface formed by solution-processed and thermally deposited nanoscale layers of cesium carbonate

Advanced Functional Materials

Volumn 17, Issue 12, 2007, Pages 1966-1973

  Huang, Jinsong ^a   Xu, Zheng ^a   Yang, Yang ^a  

^a University of California   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DEPOSITION; ELECTRON INJECTION; ELECTRONIC EQUIPMENT; NANOPARTICLES; THERMAL EVAPORATION; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

CURRENT-VOLTAGE; ORGANIC ELECTRONIC DEVICES; SOLUTION DEPOSITION;

CESIUM COMPOUNDS;

EID: 34548061468     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.200700051     Document Type: Article

References (31)

1. L. S. Hung, C. W. Tang, M. G. Mason, Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 152.
2. F. Li, H. Tang, J. Anderegg, J. Shinar, Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 1233.
3. Z. B. Deng, X. M. Ding, S. T. Lee. W. A. Gambling. Appl. Phys. Lett. 1999. 74, 2227.
4. H. W. Choi, S. Y. Kim, W. K. Kim, J. L. Lee, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 082 102.
5. S. A. Choulis, V-E. Choong, M. K. Mathai, F. So, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 113 503.
6. A. Chakrabarti, K. Hermann, R. Druzinic, M. Witko, F. Wagner. M. Petersen, Phys. Rev. B: Condens. Matter 1998, 59, 10 583.
7. H. Kanno, Y. Sun, S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 263 502.
8. Q. Xu, H. M. Duong, F. Wudl, Y. Yang, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 3357.
9. T Hasegawa, S. Miura, T. Moriyama, T. Kimura, I. Takaya, Y. Osato, H. Mizutani, SID Int. Symp. Digest Technol. Papers 2004, 35, 154.
10. J. Huang, G. Li, E. Wu, Q. Xu, Y. Yang, Adv. Mater. 2006, 78, 114.
11. C. I. Wu, C. T. Lin, Y. H. Chen, M. H. Chen, Y. J. Lu, C. C. Wu, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 152104.
12. C. W. Chen, Y.-J. Lu, C. C. Wu, E. H. Wu, C. W. Chu, Y. Yang, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 241121.
13. G. Li, C.-W. Chu, V. Shrotriya, J. Huang, Y. Yang, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 253 503.
14. a) J. Huang, T. Watanabe, K. Ueno, Y. Yang, Adv. Mater. 2007, 19, 739.
15. b) J. Huang, W. J. Hou, J. H. Li, G. Li, Y. Yang, Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 133509.
16. T. M. Brown, R. H. Friend, I. S. Millard, D. J. Lacey, J. H. Burroughes, F. Cacialli, Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 3096.
17. G. G. Malliaras, J. R. Salem. P. J. Brock, J. C. Scott, J. Appl. Phys. 1998, 84, 1583.
18. S. A. Choulis, V.-E. Choong, A. Patwardhan, M. K. Mathai, F. So, Adv. Funct. Mater. 2006, 16, 1075.
19. T. R. Briere, A. H. Sommer, J. Appl. Phys. 1977, 48, 3547.
20. A. H. Sommer, J. Appl. Phys. 1979, 51, 1254.
21. A. Band, A. Albu-Yaron, T. Livneh, H. Cohen, Y. Feldman, L. Shimon, R. Popovitz-Biro. V. Lyahovitskaya. R. Tenne, Z Phys. Chem. B 2004, 108, 12360.
22. J. X. Wu, F. Q. Li, J. S. Zhu, M. R. Ji, M. S. Ma, J. Vac. Sci. Technol. A 2002, 20, 1532.
23. W. E. Pickett, Phys. Rev. Lett. 1994, 73, 1664.
24. J. L. Desplat, Surf. Sci. 1973, 34, 588.
25. R. U Martinelli, J. Appl. Phys. 1974, 45, 1183.
26. J. D. Levine, F. E. Gelhaus, J. Appl. Phys. 1967, 36, 892.
27. A. Nakamura, T. Tada, M. Mizukami, S. Yagyu, Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 130.
28. T. Oyamada, C. Maeda, H. Sasabe, C. Adachi, Jpn. J. Appl. Phys. 2003, 42, 1535.
29. T. F. Guo, G. He, S. Pyo, Y. Yang, Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 4042.
30. T. van Woudenbergh, J. Wildeman, P. W. M. Blom, J. J. A. M. Bastiaansen, B. M. W. Langeveld-Vos, Adv. Funct. Mater. 2004, 14, 677.
31. Q. Xu, J. Ouyang, Y. Yang, T. Ito, J. Kido, Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 8.