Role of hole injection in electroforming of LiF-polymer memory diodes

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 116, Issue 23, 2012, Pages 12443-12447

  Bory, Benjamin F ^a   Gomes, Henrique L ^b   Janssen, René A J ^a   De Leeuw, Dago M ^c   Meskers, Stefan C J ^a  

^a EINDHOVEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Netherlands)

^b UNIVERSITY OF ALGARVE   (Portugal)

^c PHILIPS RESEARCH LABORATORIES   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRON TRAPPING; ELECTRONIC EXCITATION; HOLE INJECTION; NON-VOLATILE; NON-VOLATILE MEMORIES; ONSET VOLTAGES; RESISTIVE SWITCHING; SPIROFLUORENE; TUNNELING CURRENT;

ELECTROCHEMISTRY; ELECTROFORMING; ELECTRON INJECTION; POLYMERS;

ELECTROMETALLURGY;

EID: 84862286007     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp302767y     Document Type: Article

References (27)

1. Kuegeler, C.; Rosezin, R.; Linn, E.; Bruchhaus, R.; Waser, R. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2011, 102, 791-809
2. Pershin, Y. V.; Di Ventra, M. Adv. Phys. 2011, 60, 145-227
3. Goux, L.; Czarnecki, P.; Chen, Y. Y.; Pantisano, L.; Wang, X. P.; Degraeve, R.; Govoreanu, B.; Jurczak, M.; Wouters, D. J.; Altimime, L. Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 243509
4. Jeong, D. S.; Schroeder, H.; Breuer, U.; Waser, R. J. Appl. Phys. 2008, 104, 123716
5. Yang, J. J.; Miao, F.; Pickett, M. D.; Ohlberg, D. A. A.; Stewart, D. R.; Lau, C. N.; Williams, R. S. Nanotechnology 2009, 20, 215201
6. Chen, I. C.; Holland, S.; Young, K. K.; Chang, C.; Hu, C. Appl. Phys. Lett. 1986, 49, 669-671
7. Degraeve, R.; Groeseneken, G.; Bellens, R.; Depas, M.; Maes, H. E. IEDM 1995, 863-866
8. DiMaria, D. J.; Stathis, J. H. J. Appl. Phys. 2001, 89, 5015-5024
9. Schuegraf, K. F.; Hu, C. IEEE Trans. Electron Devices 1994, 41, 761-767
10. Waser, R.; Aono, M. Nat. Mater. 2007, 6, 833-840
11. Dearnaley, G.; Stoneham, A. M.; Morgan, D. V. Rep. Prog. Phys. 1970, 33, 1129-1191
12. Biederman, H. Vacuum 1976, 26, 513-523
13. Collins, R. A.; Bowman, G.; Sutherland, R. R. J. Phys. D: Appl. Phys. 1971, 4, L49-L52
14. Verbakel, F.; Meskers, S. C. J.; Janssen, R. A. J.; Gomes, H. L.; Cölle, M.; Büchel, M.; de Leeuw, D. M. Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 192103
15. Hickmott, T. W. J. Appl. Phys. 2006, 100, 083712
16. Chen, Q.; Bory, B. F.; Kiazadeh, A.; Rocha, P. R. F.; Gomes, H. L.; Verbakel, F.; de Leeuw, D. M.; Meskers, S. C. J. Appl. Phys. Lett. 2011, 99, 083305
17. Bory, B. F.; Meskers, S. C. J.; Janssen, R. A. J.; Gomes, H. L.; de Leeuw, D. M. Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 222106
18. Verbakel, F.; Meskers, S. C. J.; D. M. de Leeuw; Janssen, R. A. J.; Gomes, H. L.;, 2008, 112, 5254-5257.
19. Callen, H. B. Phys. Rev. 1949, 76, 1394-1402
20. Samarin, S.; Artamonov, O. M.; Suvorova, A. A.; Sergeant, A. D.; Williams, J. F. Solid State Commun. 2004, 129, 389-393
21. Bernards, D. A.; Flores-Torres, S.; Abruña, H. D.; Malliaras, G. G. Science 2006, 313, 1416-1419
22. Poole, R.T..; Jenkin, J. G.; Liesegang, J.; Leckey, R. C. G. Phys. Rev. B 1975, 11, 5179-5189
23. Adams, J. M.; Evans, S.; Thomas, J. M. J. Phys. C: Solid State Phys. 1973, 6, L382
24. Satpathy, S.; Christensen, N. E.; Jepsen, O. Phys. Rev. B 1985, 32, 6793-6799
25. Iwai, S.; Tokizaki, T.; Nakamura, A.; Tanimura, K.; Itoh, N.; Shluger, A. Phys. Rev. Lett. 1996, 76, 1691-1694
26. Castner, T. G.; Kanzig, W. J. Phys. Chem. Solids 1957, 3, 178-195
27. Cölle, M.; Büchel, M.; de Leeuw, D. M. Org. Electron. 2006, 7, 305-312