Studies on defect formation in femtosecond laser-irradiated PMMA and PDMS

Radiation Effects and Defects in Solids

Volumn 167, Issue 2, 2012, Pages 88-101

  Deepak, K L N ^a   Kuladeep, R ^a   Rao, S Venugopal ^a   Rao, D Narayana ^a  

^a UNIVERSITY OF HYDERABAD   (India)

Author keywords

EDXAS; emission; femtosecond; FESEM; free radicals; optical centers; polymers; Raman mapping

Indexed keywords

EDXAS; FEMTOSECONDS; FESEM; OPTICAL CENTER; RAMAN MAPPING;

DEFECTS; FREE RADICALS; MICROCHANNELS; NEUTRON EMISSION; PARAMAGNETIC MATERIALS; PARAMAGNETISM; SILICONES; ULTRAFAST LASERS; X RAY SPECTROSCOPY;

POLYMERS;

EID: 84856827098     PISSN: 10420150     EISSN: 10294953     Source Type: Journal    
DOI: 10.1080/10420150.2011.620956     Document Type: Article

References (48)

1. Jeschke, H.; Garcia, M.; Lenzer, M.; Bonse, J.; Kruger, J.; Kautek,W. Appl. Surf. Sci. 2002, 197-198, 839-844.
2. Lorazo, P.; Lewis, L.; Meunier, M. Phys. Rev. Lett. 2003, 91, 225502-1-225502-4.
3. Pronko, P.;VanRompay, P.; Horvth, C.; Loesel, F.; Juhasz,T.; Liu, X.; Mourou, G. Phys. Rev. B. 1998, 58, 2387-2390.
4. Borowiec, A.; MacKenzie, M.;Weatherly, G.; Haugen, H. Appl. Phys. A. 2003, 76, 201-207.
5. Bonse, J.; Brzezinka, K.-W.; Meixner, A.J. Appl. Surf. Sci. 2004, 221, 215-230.
6. Davis, K.M.; Miura, K.; Sugimoto, N.; Hirao, K. Opt. Lett. 1996, 21, 1729-1731.
7. Marcinkevicius, A.; Juodkazis, S.;Watanabe,W.; Miwa, M.; Matsuo, S.; Misawa, H.; Nishii, J. Opt. Lett. 2001, 26, 277-179.
8. Nasu,Y.; Kohtoku, M.; Hibino,Y. Opt. Lett. 2005, 30, 723-725.
9. Schaffer, C.B.; Brodeur, A.; Mazur, E. Meas. Sci. Technol. 2001, 12, 1784-1794.
10. Gattass, R.R.; Mazur, E. Nat. Photonics 2008, 2, 219-225.
11. Mézel, C.; Bourgeade, A.; Hallo, L. Phys. Plasmas 2010, 17, 113504-113520.
12. Wang Z.K.; Zheng H.Y.; Xia H.M. Microfluid Nanofluid, 2011, 10, 225.
13. Zhang,Y.-L.; Chen, Q.-D.; Xia, H.; Sun, H.-B. Nano Today 2010, 5, 435-448.
14. Lee, C.-Y.; Chang, T.-C.;Wang, S.-C.; Chien, C.-W.; Cheng, C.-W. Biomicrofluidics 2010, 4, 046502-046506.
15. Homoelle, D.;Wielandy, S.; Gaeta, A.L.; Borrelli, N.F.; Smith, C. Opt. Lett. 1999, 24, 1311-1313.
16. Li,Y.;Watanabe,W.;Yamada, K.; Shinagawa, T.; Itoh, K.; Nishii, J.; Jiang,Y. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 1508-1510.
17. Chan, J.W.; Huser, T.R.; Risbud, S.H.; Hayden, J.S.; Krol, D.M. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 2371-2373.
18. Minoshima, K.; Kowalevicz, A.M.; Hartl, I.; Ippen, E.P.; Fujimoto, J.G. Opt. Lett. 2001, 26, 1516-1518.
19. Baum, A.; Scully, P.J.; Basanta, M.; Thomas, C.L.P.; Fielden, P.R.; Goddard, N.J.; Perrie, W.; Chalker, P.R. Opt. Lett. 2007, 32, 190-192.
20. Vishnubhatla, K.C.; Venugopal Rao, S.; Sai Santosh Kumar, R.; Shiva Prasad, K.; Prasad, P.S.R.; Narayana Rao, D. Opt. Commun. 2009, 282, 4537-4542.
21. Vishnubhatla, K.C.;Venugopal Rao, S.; Sai SantoshKumar, R.; Osellame, R.; Bhaktha, S.N.B.;Turrell, S.; Chiappini, A.; Chiasera, A.; Ferrari, M.; Mattarelli, M.; Montagna, M.; Ramponi, R.; Righini, G.C.; Narayana Rao, D. J. Phys. D.: Appl. Phys. 2009, 42, 205106-205112.
22. Deepak, L.N.K.; Narayana Rao, D.; Venugopal Rao, S. Appl. Opt. 2010, 49, 2475-2489.
23. Deepak, K.L.N.; Venugopal Rao, S.; Narayana Rao, D. Pramana 2010, 75, 1221-1232.
24. Baum, A.; Scully, P.J.; Perrie,W.; Jones, D.; Issac, R.; Jaroszynski, D.A. Opt. Lett. 2008, 33, 651-653.
25. Lippert, T.; Dickinson, J.T. Chem. Rev. 2003, 103, 453-485.
26. Bityurin, N.; Lukyanchunk, B.S.; Hong, M.H.; Chong, T.C. Chem. Rev. 2003, 103, 519-552.
27. Lippert, T. Plasma Process Polym. 2005, 2, 525-546.
28. Srinivasan, R.; Braren, B.; Casey, K.B. Pure Appl. Chem. 1990, 62, 1582-1584.
29. Patrick, F.C.; Prasad, M.; Barabara, J.G. Acc. Chem. Res. 2008, 41 (8), 915-924.
30. Zoubir, A.; Lopez, C.; Richardson, M.; Richardson, K. Opt. Lett. 2004, 29, 1840-1842.
31. Wochonowiski, C.; Cheng,Y.; Meteva, K.; Sugioka, K.; Midorikawa, K.; Metev, S. J. Opt. A 2005, 7, 493-501.
32. Sowa, S.;Watanabe,W.; Tamaki, T.; Nishii, N.; Itoh, K. Opt. Express 2006, 14, 291-297.
33. Della Valle, G.; Osellame, R.; Laporta, P. J. Opt. A: Pure Appl. Opt. 2009, 11, 013001-013018.
34. Bityurin, N.; Malyshev, A.; Lukyan Chuk, B.; Anisimov, S.; Bauerle, D. Proc. SPIE 1996, 2802, 103-112.
35. Dickens, B.; Martin, J.W.;Waksman, D. Polymer 1984, 25, 706-715.
36. Nie, Z.; Lee, H.;Yoo, H.; Lee,Y.; Kim,Y.; Lim, K.-S.; Lee, M. Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 111912-111914.
37. Nie, Z.; Lim, K.-S.; Lee, H.; Lee, M.; Kobayashi, T. J. Lumin. 2011, 131, 266-270.
38. Nie, Z.G.; Lim, K.-S.; Jang, W.Y.; Lee, H.Y.; Lee, M.K.; Kobayashi, T. J. Phys. D: Appl. Phys. 2010, 43, 485101-485106.
39. Deepak, K.L.N.; Kuladeep, R.; Venugopal Rao, S.; Narayana Rao, D. Chem. Phys. Lett. 2011, 503, 57-60.
40. Deepak, K.L.N.; Kuladeep, R.; Praveen Kumar,V.;Venugopal Rao, S.; Narayana Rao, D. Opt. Commun. 2011, 284, 3074-3078.
41. Watanabe, M.; Juodkazis, S.; Sun, H.-B.; Matsuo, S.; Misawa, H. Phys. Rev. B 1999, 60, 9959-9964.
42. Kudrius, T.; Slekys, G.; Juodkazis, S. J. Phys. D.: Appl. Phys. 2010, 43, 145501-145505.
43. Hongfang, J.; Lixin, Z. J. Rare Earths 2009, 27 (5), 786-789.
44. Bae, S.C.; Lee, H.; Lin, Z.; Granick, S. Langmuir 2005, 21, 5685-5688.
45. Szocs, F. Chem. Papers 1999, 53 (2), 137-139.
46. Michel, R.E.; Chapman, F.W.; Mao, T.J. J. Chem. Phys. 1966, 45 (12), 4604-4611.
47. Nathawat, R.; Kumar, A.; Acharya, N.K.; Vijay,Y.K. Surf. Coat. Technol. 2009, 203, 2600-2604.
48. De Marco, C.; Eaton, S.M.; Suriano, R.; Turri, S.; Levi, M.; Ramponi, R.; Cerullo, G.; Osellame, R. ACS Appl. Mater. Interfaces 2010, 2, 2377-2384.