An electrode design rule for organic photovoltaics elucidated using molecular nanolayers

Advanced Energy Materials

Volumn 1, Issue 3, 2011, Pages 440-447

  Cook, Robert M ^a   Pegg, Lara Jane ^a   Kinnear, Sophie L ^a   Hutter, Oliver S ^a   Morris, Richard J H ^a,b   Hatton, Ross A ^a  

^a UNIVERSITY OF WARWICK   (United Kingdom)

^b UNIVERSITY OF WARWICK   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BI-LAYER; COATED GLASS; CONTACT FORMATION; CRITICAL REGION; DESIGNED EXPERIMENTS; DEVICE DEGRADATION; DEVICE DESIGN; DIRECT MEASUREMENT; DONOR LAYERS; ELECTRODE DESIGN; GROUND-STATE ELECTRONS; INDIUM TIN OXIDE; INTERFACIAL ENERGETICS; ITO ELECTRODES; KELVIN PROBE; NANO LAYERS; ORGANIC PHOTOVOLTAICS; TERNARY OXIDES; VAPOR PHASE;

DEGRADATION; IONIZATION POTENTIAL; TIN; TIN OXIDES; WORK FUNCTION;

ITO GLASS;

EID: 80055097476     PISSN: 16146832     EISSN: 16146840     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/aenm.201100027     Document Type: Article

References (55)

1. F. C. Krebs, T. D. Nielsen, J. Fyenbo, M. Wadstrøm, M. S. Pedersen, Energy Environ. Sci. 2010, 3, 512.
2. F. C. Krebs, T. Tromholt, M. Jørgensen, Nanoscale 2010, 2, 873.
3. F. C. Krebs, J. Fyenbo, M. Jørgensen, J. Mater. Chem. 2010, 20, 8994.
4. B. Kippelen, J.-L. Brédas, Energy Environ. Sci. 2010, 2, 251.
5. M. Riede, T. Mueller, W. Tress, R. Schueppel, K. Leo, Nanotechnology 2008, 19, 424001.
6. J. Alstrup, M. Jørgensen, A. J. Medford, F. C. Krebs, ACS Appl. Mater. Interfaces 2010, 2, 2819.
7. R. Steim, F. R. Kogler, C. J. Brabec, J. Mater. Chem. 2010, 20, 2499.
8. L-M. Chen, Z. Xu, Z. Hong, Y. Yang, J. Mater. Chem. 2010, 20, 2575.
9. L.-J. Pegg, S. Schumann, R. A. Hatton, ACS Nano 2010, 4, 5671.
10. W. J. Potscavage, A. Sharma, B. Kippelen, Acc. Chem. Res. 2009, 42, 1758.
11. S. Khodabakhsh, B. M. Sanderson, J. Nelson, T. S. Jones, Adv. Funct. Mater. 2006, 16, 95.
12. N. R. Armstrong, P. A. Veneman, E. Ratcliff, D. Placencia, M. Brumbach, Acc. Chem. Res. 2009, 42, 1748.
13. H. Aziz, Z. D. Popovic, Chem. Mater. 2004, 16, 4522.
14. S. T. Lee, Z. Q. Gao, L. S. Hung, Appl. Phys. Lett. 1999 75, 1404.
15. H. Ishii, K. Sugiyama, E. Ito, K. Seki, Adv. Mater. 1999, 11, 605.
16. N. Koch, J. Phys. Condens. Matter. 2008, 20, 1.
17. S. Braun, W. R. Salaneck, M. Fahlman, Adv. Mater. 2009, 21, 1450.
18. J. Hwang, A. Wan, A. Kahn, Mater. Sci. Eng. R 2009, 64, 1.
19. V. Chauhan, R. A. Hatton, P. Sullivan, T. S. Jones, S. W. Cho, L. Piper, A. deMasi, K. Smith, J. Mater. Chem., 2010, 20, 1173.
20. R. J. Davis, M. T. Lloyd, S. R. Ferreira, M. J. Bruzek, S. E. Watkins, L. Lindell, P. Sehati, M. Fahlman, J. E. Anthony, J. W. P. Hsu, J. Mater. Chem. 2011, DOI:10.1039/C0JM02349C.
21. S. A. Paniagua, P. J. Hotchkiss, S. C. Jones, S. R. Marder, A. Mudalige, F. S. Marrikar, J. E. Pemberton, N. R. Armstrong, J. Phys. Chem. C 2008, 112, 7809.
22. S. F. J. Appleyard, M. R. Willis, Opt. Mater. 1998, 9, 120.
23. S. J. F. Appleyard, S. R. Day, R. D. Pickford, M. R. Willis, J. Mater. Chem. 2001, 10, 169.
24. F. Nüesch, L. Si-Ahmed, B. François, L. Zuppiroli, Chem. Phys. Lett. 1998, 288, 861.
25. N. Peor, R. Sfez, S. Yitzchaik, J. Am. Chem. Soc. 2007, 130, 4158.
26. J. S. Kim, J. H. Park, J. H. Lee, J. Jo, J. D-Y. Kim, K. Cho, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 112111.
27. A. Sharma, A. Haldi, Jr. W. J. Potscavage, P. J. Hotchkiss, S. R. Marder, B. Kippelen, J. Mater. Chem. 2009, 19, 5298.
28. M. Kitamura, Y. Arakawa, J. Phys.: Condens. Matter. 2008, 20, 184011 (and references therein).
29. J. Park, J-H. Bae, W-H. Kim, S-D. Lee, J. S. Gwag, D. W. Kim, J. C. Noh, J. S. Choi, Solid-State Electronics 2010, 54, 1650.
30. A. Sharma, B. Kippelen, P. J. Hotchkiss, S. R. Marder, Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 163308.
31. F. Nuesch, E. W. Forsythe, Q. T. Le, L. J. Rothberg, J. Appl. Phys. 2000, 87, 7973.
32. N. R. Armstrong, C. Carter, C. Donley, A. Simmonds, P. Lee, M. Brumbach, B. Kippelen, B. Domercq, S. Y. Yoo, Thin Solid Films 2003, 445, 342.
33. C. Carter, M. Brumbach, C. Donley, R. D. Hreha, S. R. Marder, B. Domercq, S. Yoo, B. Kippelen, N. R. Armstrong, J. Phys. Chem. B 2006, 110, 25191.
34. D. K. Aswal, S. Lenfant, D. Guerin, J. V. Yakhmi, D. Vuillaume, Small, 2005, 1, 725.
35. H. M. Stec, R. Williams, T. S. Jones, R. A. Hatton, Adv. Func. Mater. 2011, DOI:10.1002/adfm.201002021.
36. D. J. Dunaway, R. L. McCarley, Langmuir, 1994, 10, 3598.
37. R. Ruiz, D. Choudhary, B. Nickel, T. Toccoli, K-C. Chang, A. C. Mayer, P. Clancy, J. M. Blakely, R. L. Headrick, S. Iannotta, G. G. Malliaras, Chem. Mater. 2004, 16, 4497.
38. S. Uchida, J. G. Xue, B. P. Rand, S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 4218.
39. L. Chen, Y. W. Tang, X. Fan, C. Zhang, Z. Z. Chu, D. Wang, D. C. Zou, Org. Electron. 2009, 10, 724.
40. W. S. Hu, Y. T. Tao, Y. J. Hsu, D. H. Wei, Y. S. Wu, Langmuir 2005, 21, 2260.
41. D. Käfer, L. Ruppel, G. Witte, Phys. Rev. B 2007, 75, 085309.
42. H. Ishii, N. Hayashi, E. Ito, Y. Washizu, K. Sugi, Y. Kimura, M. Niwano, Y. Ouchi, K. Seki, Phys. Stat. Sol. (a) 2004, 201, 1075.
43. S. R. Day, R. A. Hatton, M. A. Chesters, M. R. Willis, Thin Solid Films, 2002, 410, 159.
44. H. Ishii, H. Oji, E. Ito, N. Hayashi, D. Yoshimura, K. Seki, J. Luminescence 2000, 87-87, 89.
45. T. Nishi, K. Kanai, Y. Ouchi, M. R. Willis, K. Seki, Chem. Phys. Lett. 2005, 414, 479.
46. O. D. Jurchescu, J. Baas, T. T. M. Palstra, Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 3061.
47. D. Ad. S. Filho, E.-G. Kim, J.-L. Brédas, Adv. Mater. 2005, 17, 1072.
48. J. C. Nolasco, A. Sánchez-Díaz, R. Cabré, J. Ferré-Borrull, L. F. Marsal, E. Palomares, J. Pallarés, Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 013305.
49. N. Anscombe, T. Aernouts, Nature Photon. 2010, 4, 608.
50. C. J. Brabec, S. Gowrisanker, J. J. M. Halls, D. Laird, S. Jia, S. P. Williams, Adv. Mater. 2010, 22, 3839.
51. B. P. Rand, J. Genoe, P. Heremans, J. Poortmans, Prog. Photovolt: Res. Appl. 2007, 15, 659.
52. M. Jørgensen, K. Norrman, F. C. Krebs, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2008, 92, 868.
53. A. Moujoud, S. H. Oh, J. J. Hye, H. J. Kim, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2011, 95, 1037.
54. N. R. Armstrong, C. Carter, C. Donley, A. Simmonds, P. Lee, M. Brumbach, B. Kippelen, B. Domercq, S. Y. Yoo, Thin Solid Films 2003, 445, 342.
55. J. S. Kim, F. Cacialli, R. Friend, Thin Solid Films 2003, 445, 358.