Direct UV patterning of electronically active fullerene films

Advanced Functional Materials

Volumn 21, Issue 19, 2011, Pages 3723-3728

  Wang, Jia ^a   Larsen, Christian ^a   Wågberg, Thomas ^a   Edman, Ludvig ^a  

^a UMEÅ UNIVERSITY   (Sweden)

Author keywords

fullerenes; organic field effect transistors; organic semiconductors; Resist free patterning; UV light

Indexed keywords

DIRECT-PATTERNING; ELECTRONIC APPLICATION; FULLERENE FILMS; HIGH RESOLUTION; METHYL ESTERS; ORGANIC SEMICONDUCTOR; RESIST-FREE PATTERNING; SOLUTION-CAST; UV-PATTERNING;

BUTYRIC ACID; DIMERS; ELECTRON MOBILITY; ELECTRONIC PROPERTIES; FATTY ACIDS; FULLERENES; PHOTORESISTS; TRANSISTORS;

FIELD EFFECT TRANSISTORS;

EID: 80053268827     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.201100568     Document Type: Article

References (57)

1. G. Malliaras, R. Friend, Phys. Today 2005, 58, 53.
2. C. J. Brabec, F. Padinger, J. C. Hummelen, R. A. J. Janssen, N. S. Sariciftci, Synth. Met. 1999, 102, 861.
3. J. F. Fang, P. Matyba, L. Edman, Adv. Funct. Mater. 2009, 19, 2671.
4. P. Matyba, H. Yamaguchi, G. Eda, M. Chowalla, L. Edman, N. D. Robinson, ACS Nano 2010, 4, 637.
5. N. A. Azarova, J. W. Owen, C. A. McLellan, M. A. Grimminger, E. K. Chapman, J. E. Anthony, O. D. Jurchescu, Org. Electron. 2010, 11, 1960.
6. F. C. Krebs, S. A. Gevorgyan, J. Alstrup, J. Mater. Chem. 2009, 19, 5442.
7. A. Dzwilewski, P. Matyba, L. Edman, J. Phys. Chem. B 2010, 114, 135.
8. J. F. Chang, M. C. Gwinner, M. Caironi, T. Sakanoue, H. Sirringhaus, Adv. Funct. Mater. 2010, 20, 2825.
9. P. Andersson, R. Forchheimer, P. Tehrani, M. Berggren, Adv. Funct. Mater. 2007, 17, 3074.
10. J. A. DeFranco, B. S. Schmidt, M. Lipson, G. G. Malliaras, Org. Electron. 2006, 7, 22.
11. C. Balocco, L. A. Majewski, A. M. Song, Org. Electron. 2006, 7, 500.
12. A. C. Arias, S. E. Ready, R. Lujan, W. S. Wong, K. E. Paul, A. Salleo, M. L. Chabinyc, R. Apte, R. A. Street, Y. Wu, P. Liu, B. Ong, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 3304.
13. H. Sirringhaus, T. Kawase, R. H. Friend, T. Shimoda, M. Inbasekaran, W. Wu, E. P. Woo, Science 2000, 290, 2123.
14. R. Mannerbro, M. Ranlof, N. Robinson, R. Forchheimer, Synth. Met. 2008, 158, 556.
15. J. A. Lim, J. H. Kim, L. Qiu, W. H. Lee, H. S. Lee, D. Kwak, K. Cho, Adv. Funct. Mater. 2010, 20, 3292.
16. J. A. Lim, W. H. Lee, H. S. Lee, J. H. Lee, Y. D. Park, K. Cho, Adv. Funct. Mater. 2008, 18, 229.
17. L. L. Lebel, B. Aissa, M. A. E. Khakani, D. Therriault, Adv. Mater. 2010, 22, 592.
18. E. B. Brousseau, F. Krohs, E. Caillaud, S. Dimov, O. Gibaru, S. Fatikow, J. Manuf. Sci. Eng.-Trans. ASME 2010, 132, 8.
19. N. T. Kattamis, N. D. McDaniel, S. Bernhard, C. B. Arnold, Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 3.
20. F. W. Huo, Z. J. Zheng, G. F. Zheng, L. R. Giam, H. Zhang, C. A. Mirkin, Science 2008, 321, 1658.
21. X. Yao, T. Ito, D. A. Higgins, Langmuir 2008, 24, 8939.
22. S. Ibrahim, D. A. Higgins, T. Ito, Langmuir 2007, 23, 12406.
23. E. Menard, M. A. Meitl, Y. G. Sun, J. U. Park, D. J. L. Shir, Y. S. Nam, S. Jeon, J. A. Rogers, Chem. Rev. 2007, 107, 1117.
24. D. R. Barbero, M. S. M. Saifullah, P. Hoffmann, H. J. Mathieu, D. Anderson, G. A. C. Jones, M. E. Welland, U. Steiner, Adv. Funct. Mater. 2007, 17, 2419.
25. A. Dzwilewski, T. Wågberg, L. Edman, Phys. Rev. B J1-PRB 2007, 75, 075203.
26. S. Berhanu, F. Tariq, T. Jones, D. W. McComb, J. Mater. Chem. 2010, 20, 8005.
27. P. Strobel, J. Ristein, L. Ley, J. Phys. Chem. C 2010, 114, 4317.
28. R. D. Pensack, K. M. Banyas, L. W. Barbour, M. Hegadorn, J. B. Asbury, Phys. Chem. Chem. Phys. 2009, 11, 2575.
29. S. M. Mominuzzaman, N. Chandrasekaran, T. Soga, T. Jimbo, Diamond Relat. Mater. 2008, 17, 641.
30. L. W. Barbour, M. Hegadorn, J. B. Asbury, J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 15884.
31. A. Dzwilewski, T. Wagberg, L. Edman, J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 4006.
32. S. M. Sze, Semiconductor devices, physics and technology, Wiley, 2002.
33. P. C. Eklund, A. M. Rao, P. Zhou, Y. Wang, J. M. Holden, Thin Solid Films 1995, 257, 185.
34. A. Dzwilewski, P. Matyba, L. Edman, J. Phys. Chem. B 2009, 114, 135.
35. P. C. Eklund, Z. Ping, W. Kai-An, G. Dresselhaus, M. S. Dresselhaus, J. Phys. Chem. Solids 1992, 53, 1391.
36. A. M. Rao, P. Zhou, K. A. Wang, G. T. Hager, J. M. Holden, Y. Wang, W. T. Lee, X. X. Bi, P. C. Eklund, D. S. Cornett, M. A. Duncan, I. J. Amster, Science 1993, 259, 955.
37. T. Wågberg, P. A. Persson, B. Sundqvist, P. Jacobsson, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 1997, 64, 223.
38. L. Edman, A. Ferry, P. Jacobsson, Macromolecules 1999, 32, 4130.
39. Y. Iwasa, T. Arima, R. M. Fleming, T. Siegrist, O. Zhou, R. C. Haddon, L. J. Rothberg, K. B. Lyons, H. L. Carter, A. F. Hebard, R. Tycko, G. Dabbagh, J. J. Krajewski, G. A. Thomas, T. Yagi, Science 1994, 264, 1570.
40. P. A. Persson, U. Edlund, P. Jacobsson, D. Johnels, A. Soldatov, B. Sundqvist, Chem. Phys. Lett. 1996, 258, 540.
41. T. Wågberg, P. Jacobsson, B. Sundqvist, Phys. Rev. B J1-PRB 1999, 60, 4535.
42. S. M. Sze, K. K. Ng, Physics of Semiconductor Devices, Wiley-Interscience, 2006.
43. Y. Shirota, H. Kageyama, Chem. Rev. 2007, 107, 953.
44. C. Yang, J. Y. Kim, S. Cho, J. K. Lee, A. J. Heeger, F. Wudl, J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 6444.
45. J. H. Seo, A. Gutacker, B. Walker, S. Cho, A. Garcia, R. Yang, T.-Q. Nguyen, A. J. Heeger, G. C. Bazan, J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 18220.
46. Z. Bao, A. J. Lovinger, J. Brown, J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 207.
47. T. D. Anthopoulos, G. C. Anyfantis, G. C. Papavassiliou, D. M. d. Leeuw, Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 122105.
48. B. A. Jones, A. Facchetti, M. R. Wasielewski, T. J. Marks, J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 15259.
49. J. Wang, T. Wågberg, B. Eliasson, L. Edman, Org. Electron. 11, 1595.
50. R. Schmidt, J. H. Oh, Y.-S. Sun, M. Deppisch, A.-M. Krause, K. Radacki, H. Braunschweig, M. Könemann, P. Erk, Z. Bao, F. Würthner, J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 6215.
51. H. Usta, C. Risko, Z. Wang, H. Huang, M. K. Deliomeroglu, A. Zhukhovitskiy, A. Facchetti, T. J. Marks, J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 5586.
52. A. P. G. Robinson, R. E. Palmer, T. Tada, T. Kanayama, J. A. Preece, Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 1302.
53. F. Gibbons, H. Zaid, M. M. Manickam, J. A. Preece, R. E. Palmer, A. P. G. Robinson, Small 2007, 3, 2076.
54. M. A. McCord, M. J. Rooks, in Handbook of Microlithography, Micromachining and Microfabrication, Vol. I (Ed.:, P. Rai-Choudhury,), IEE, London 1997, 203.
55. C. W. T. Bulle-Lieuwma, W. J. H. van Gennip, J. K. J. van Duren, P. Jonkheijm, R. A. J. Janssen, J. W. Niemantsverdriet, Appl. Surf. Sci. 2003, 547, 203-204.
56. N. G. Orji, T. V. Vorburger, J. Fu, R. G. Dixson, C. V. Nguyen, J. Raja, Meas. Sci. Technol. 2005, 16, 2147.
57. V. Constantoudis, G. P. Patsis, A. Tserepi, E. Gogolides, J. Vac. Sci. Technol. B 2003, 21, 1019.