Self-assembled zinc oxide quantum dots using spray pyrolysis methodology

Crystal Growth and Design

Volumn 11, Issue 9, 2011, Pages 3790-3801

  Rajappan Achary, Sreekumar ^a   Agouram, Said ^a   Reig, Candid ^a   Sánchez Royo, Juan F ^a   Martínez Tomás, M Carmen ^a   Muñoz Sanjosé, Vicente ^a  

^a UNIVERSITY OF VALENCIA   (Spain)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DIFFERENT SUBSTRATES; GROWTH CONDITIONS; GROWTH PROCESS; PRECURSOR CONCENTRATION; SCANNING ELECTRONS; SELECTED AREA ELECTRON DIFFRACTION; SELF-ASSEMBLED; SPRAYING RATE; SPRAYING TIME; WETTING LAYER; X RAY PHOTOELECTRON SPECTRA; ZNO; ZNO QUANTUM DOTS; ZNO THIN FILM;

BINDING ENERGY; PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; PHOTONS; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SEMICONDUCTOR QUANTUM DOTS; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; ZINC OXIDE;

SPRAY PYROLYSIS;

EID: 80052521691     PISSN: 15287483     EISSN: 15287505     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cg2003113     Document Type: Article

References (37)

1. Kako, S.; Santori, C.; Hoshino, K.; Götzinger, S.; Yamamoto, Y.; Arakawa, Y. Nat. Mater. 2006, 5, 887-892
2. Thomay, T.; Hanke, T.; Tomas, M.; Sotier, F.; Beha, K.; Knittel, V.; Kahl, M.; Whitaker, M. K.; Gamelin, D. R.; Leitenstorfer, A.; Bratschitsch, R. Opt. Express 2008, 16, 9791-9794
3. Lee, J.-S.; Cho, J.; Lee, C.; Kim, I.; Park, J.; Kim, Y.-M.; Shin, H.; Lee, J.; Caruso, F. Nat. Nanotechnol. 2007, 2, 790-795
4. Lin, K.-F.; Cheng, H.-M.; Hsu, H.-C.; Lin, L.-J.; Hsieh, W.-F. Chem. Phys. Lett. 2005, 409, 208-211
5. Piskorski, L.; Wasiak, M.; Sarzala, R. P.; Nakwaski, W. Opto-Electron. Rev. 2009, 17 (3) 217-224
6. Moussodia, R.-O.; Balan, L.; Merlin, C.; Mustin, C.; Schneider, R. J. Mater. Chem. 2010, 20, 1147-1155
7. Reithmaier, J. P.; Somers, A.; Kaiser, W.; Deubert, S.; Gerschütz, F.; Forchel, A.; Parillaud, O.; Krakowski, M.; Alizon, R.; Hadass, D.; Bilenca, A.; Dery, H.; Mikhelashvili, V.; Eisenstein, G.; Gioannini, M.; Montrosset, I.; Berg, T. W.; Van der Poel, M.; Mørk, J.; Tromborg, B. Phys. Status Solidi B 2006, 243, 3981-3987
8. Zhang, Q.; Chou, T. P.; Russo, B.; Jenekhe, S. A.; Cao, G. Angew. Chem., Int. Ed. 2008, 47, 2402-2406
9. Tan, S. T.; Sun, X. W.; Zhang, X. H.; Chen, B. J.; Chua, S. J.; Yong, A.; Dong, Z. L.; Hu, X. J. Cryst. Growth 2006, 290, 518-522
10. Mädler, L.; Stark, W. J.; Pratsinis, S. E. J. Appl. Phys. 2002, 92, 6537-6540
11. Zeng, Y. J.; Ye, Z. Z.; Liu, F.; Li, D. Y.; Lu, Y. F.; Jaeger, W.; He, H. P.; Zhu, L. P.; Huang, J. Y.; Zhao, B. H. Cryst. Growth Des. 2009, 9, 263-266
12. Kim, S.-W.; Fujita, S.; Fujita, S. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 5036-5038
13. John, T. T.; Mathew, M.; Sudha Kartha, C.; Vijayakumar, K. P.; Abe, T.; Kashiwaba, Y. Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2005, 89, 27-36
14. Dedova, T.; Volobujeva, O.; Klauson, J.; Mere, A.; Krunks, M. Nanoscale Res. Lett. 2007, 2, 391-396
15. Pingali, K. C.; Deng, S.; Rockstraw, D. A. J. Sensors 2009, 683280, 1-6
16. Darabont, Al.; Nemes-Incze, P.; Kertész, K.; Tapasztó, L.; Koós, A. A.; Osváth, Z.; Sárközi, Zs.; Vértesy, Z.; Horváth, Z. E.; Biró, L. P. J. Optoelectron. Adv. Mater. 2005, 7, 631-636
17. Haridas, M. M.; Ballare, J. R. Colloids Surf., A 1998, 133, 165-171
18. Wang, L. S.; Chua, S. J.; Zang, K. Y.; Tripathy, S. Phys. Status Solidi C 2003, 0 (7) 2082-2086
19. Yeoh, T. S.; Liu, C. P.; Swint, R. B.; Huber, A. E.; Roh, S. D.; Woo, C. Y.; Lee, K. E.; Coleman, J. J. Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 221-223
20. Sreekumar, R.; Mandal, A.; Chakrabarti, S.; Gupta, S. K. J. Phys. D: Appl. Phys. 2010, 43, 505302
21. Ratheesh, Kumar, P. M.; Sudha, Kartha, C.; Vijayakumar, K. P.; Abe, T.; Kashiwaba, Y.; Singh, F.; Avasthi, D. K. Semicond. Sci. Technol. 2005, 20, 120-126
22. Lin, C.-C.; Li, Y.-Y. Mater. Chem. Phys. 2009, 113, 334-337
23. Erdélyi, Z.; Balogh, Z.; Beke, D. L. Acta Mater. 2010, 58, 5639-5645
24. Kajikawa, Y.; Noda, S. Appl. Surf. Sci. 2005, 245, 281-289
25. Perednis, D.; J. Gauckler, L. J. Electroceram. 2005, 14, 103-111
26. Sears, W. M.; Gee, M. A. Thin Solid Films 1998, 165, 265-277
27. Zhou, X.; Gu, S.; Qin, F.; Zhu, S.; Ye, J.; Liu, S.; Liu, W.; Zhang, R.; Shi, Y.; Zheng, Y. J. Cryst. Growth 2004, 269, 362-366
28. Xue, Z.; Thridandam, H.; D. Kaesz, H.; Hicks, R. F. Chem. Mater. 1992, 4, 162-166
29. Lee, P. R.; Banfield, J. F. Science 1998, 281, 969-971
30. Puurunen, R. L. Chem. Vap. Deposition 2004, 10, 159-170
31. Raz, T.; Shuall, N.; Bahir, G.; Ritter, D.; Gershoni, D.; Chu, S. N. G. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 3578-3580
32. Wang, Zh. M.; Mazur, Yu. I.; Sablon, K. A; Mishima, T. D.; Johnson, M. B.; Salamo, G. J. Phys. Status Solidi RRL 2008, 2, 281-283
33. Huang, S.-S.; Niu, Z.-C.; Ni, H.-Q.; Zhang, F.; Zhao, H.; Sun, Z.; Xia, J.-B. Chin. Phys. Lett. 2007, 24, 1025-1028
34. Senger, R. T.; Bajaj, K. K. Phys. Rev. B 2003, 68, 045313
35. Du, Y.; Zhang, M.-S.; Hong, J.; Shen, Y.; Chen, Q.; Yin, Z. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2003, 76, 171-176
36. Sans, J. A.; Sánchez-Royo, J. F.; Segura, A.; Tobias, G.; Canadell, E. Phys. Rev. B 2009, 79, 195105
37. Tay, Y. Y.; Li, S.; Sun, C. Q.; Chen, P. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 173118