Trap states of a-ZnO thin film transistors

Electronic Materials Letters

Volumn 6, Issue 4, 2010, Pages 221-225

  Yuh, Jin Tae ^a   Bae, Byung Seong ^a  

^a Hoseo University   (South Korea)

Author keywords

Isochronal annealing; Oxide TFT; Stability; ZnO

Indexed keywords

ANNEALING TEMPERATURES; HIGH TEMPERATURE RECOVERIES; HYDROGEN DIFFUSION; ISOCHRONAL ANNEALING; LIGHT ILLUMINATION; LOW TEMPERATURES; NEGATIVE SHIFT; POSITIVE GATE BIAS; POSITIVE SHIFT; SUBTHRESHOLD; TRANSFER CURVES; TRAP CHARGE; TRAP STATE; ZNO;

METALLIC FILMS; OPTICAL FILMS; RECOVERY; THIN FILM TRANSISTORS; THIN FILMS; ZINC OXIDE;

ANNEALING;

EID: 78650965762     PISSN: 17388090     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3365/eml.2010.12.221     Document Type: Article

References (20)

1. R. B. M. Cross, M. M. Souza, S. C. Deane, and N. D. Young, IEEE Trans. Electron. Dev. 55, 1109 (2008).
2. J. M. Lee, I. T. Cho, J. H. Lee, and H. I. Kwon, Appl. Phys. Lett. 93, 093504 (2008).
3. J. H. Shin, J. S. Lee, C. S. Hwang, S. H. K. Park, W. S. Cheong, M. Ryu, C. W. Byun, J. I. Lee, and H. Y. Chu, ETRI J. 31, 62 (2009).
4. S. A. Studenikin, N. Golego, and M. Cocivera, J. Appl. Phys. 87, 2413 (2000).
5. J. K. Jeong, H. W. Yang, J. H. Jeong, Y. G. Mo, and H. D. Kim, Appl. Phys. Lett. 93, 123508 (2008).
6. E. Mollow, Z. Phys. 138, 478 (1954).
7. D. G. Thomas and J. J. Lander, J. Chem. Phys. 25, 1136 (1956).
8. C. G. Van de Walle, Phys. Rev. Lett. 85, 1012 (2000).
9. E. V. Lavrov, F. Herklotz, and J. Weber, Phys. Rev. B 79, 165210 (2009).
10. E. V. Lavrov, F. Herklotz, and J. Weber, Phys. Rev. Lett. 102, 185502 (2009).
11. M. J. Lee, T. I. Lee, J. Lim, J. Bang, W. Lee, T. Lee, and J. M. Myoung, Electron. Mater. Lett. 5, 127 (2009).
12. J. H. Noh, S. H. Lee, S. Lee, and H. S. Jung, Electron. Mater. Lett. 4, 71 (2008).
13. B. S. Bae and C. Lee, Phil. Mag. B 65, 933 (1992).
14. J.Y. Lee, C. Lee, J. Jang, and B. S. Bae, Solid State Commun. 83, 833 (1992).
15. S. J. Park, S. P. Hong, H. S. Jeon, C. B. Moon, and B. S. Bae, J. Kor. Phys. Soc. 54, 484 (2009).
16. C. S. Hwang, B. S. Bae, and C. Lee, J. Non-Cryst. Solids 198-200, 499 (1996).
17. A. Suresh and J. F. Muth, Appl. Phys. Lett. 92, 033502 (2008).
18. T. C. Funga, C. S. Chuang, K. Nomura, H. P. D. Shieh, H. Hosono, and J. Kanicki, J. of Information Display 9, 21 (2008).
19. K. W. Lee, H. S. Shin, K. Y. Heo, K. M. Kim, and H. J. Kim, J. Soc. Inf. Display 10, 171 (2009).
20. Q. H. Li, T. Gao, Y. G. Wang, and T. H. Wang, Appl. Phys. Lett. 86, 123117 (2005).