-
1
-
-
54149090476
-
-
DTPSDS 0003-966X.
-
J. K. Jeong, J. H. Jeong, J. H. Choi, J. S. Im, S. H. Kim, H. W. Yang, K. N. Kang, K. S. Kim, T. K. Ahn, H. J. Chung, M. Kim, B. S. Gu, J. S. Park, Y. G. Mo, H. D. Kim, and H. K. Chung, SID Int. Symp. Digest Tech. Papers DTPSDS 0003-966X 2008, 1.
-
SID Int. Symp. Digest Tech. Papers
, vol.2008
, pp. 1
-
-
Jeong, J.K.1
Jeong, J.H.2
Choi, J.H.3
Im, J.S.4
Kim, S.H.5
Yang, H.W.6
Kang, K.N.7
Kim, K.S.8
Ahn, T.K.9
Chung, H.J.10
Kim, M.11
Gu, B.S.12
Park, J.S.13
Mo, Y.G.14
Kim, H.D.15
Chung, H.K.16
-
3
-
-
70450210334
-
-
IJDTAL 1551-319X,. 10.1109/JDT.2009.2020611
-
T. C. Fung, K. Abe, H. Kumomi, and J. Kanicki, J. Disp. Technol. IJDTAL 1551-319X 5, 452 (2009). 10.1109/JDT.2009.2020611
-
(2009)
J. Disp. Technol.
, vol.5
, pp. 452
-
-
Fung, T.C.1
Abe, K.2
Kumomi, H.3
Kanicki, J.4
-
4
-
-
67650474594
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.3159831
-
K. Nomura, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 95, 013502 (2009). 10.1063/1.3159831
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.95
, pp. 013502
-
-
Nomura, K.1
Kamiya, T.2
Hirano, M.3
Hosono, H.4
-
5
-
-
51349141239
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.2977865
-
J. M. Lee, I. T. Cho, J. H. Lee, and H. I. Kwon, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 93, 093504 (2008). 10.1063/1.2977865
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.93
, pp. 093504
-
-
Lee, J.M.1
Cho, I.T.2
Lee, J.H.3
Kwon, H.I.4
-
6
-
-
52949097961
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.2990657
-
J. K. Jeong, H. W. Yang, J. H. Jeong, Y. G. Mo, and H. D. Kim, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 93, 123508 (2008). 10.1063/1.2990657
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.93
, pp. 123508
-
-
Jeong, J.K.1
Yang, H.W.2
Jeong, J.H.3
Mo, Y.G.4
Kim, H.D.5
-
7
-
-
69049119241
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.3187532
-
M. E. Lopes, H. L. Gomes, M. C. R. Medeiros, P. Barquinha, L. Pereira, E. Fortunato, R. Martins, and I. Ferreira, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 95, 063502 (2009). 10.1063/1.3187532
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.95
, pp. 063502
-
-
Lopes, M.E.1
Gomes, H.L.2
Medeiros, M.C.R.3
Barquinha, P.4
Pereira, L.5
Fortunato, E.6
Martins, R.7
Ferreira, I.8
-
8
-
-
78149453566
-
-
DTPSDS 0003-966X.
-
M. K. Ryu, S. H. K. Park, S. H. Yang, C. W. Byun, O. S. Kwon, E. S. Park, K. I. Cho, and C. S. Hwang, SID Int. Symp. Digest Tech. Papers DTPSDS 0003-966X 2010, 1.
-
SID Int. Symp. Digest Tech. Papers
, vol.2010
, pp. 1
-
-
Ryu, M.K.1
Park, S.H.K.2
Yang, S.H.3
Byun, C.W.4
Kwon, O.S.5
Park, E.S.6
Cho, K.I.7
Hwang, C.S.8
-
9
-
-
77649131345
-
-
THSFAP 0040-6090,. 10.1016/j.tsf.2009.10.129
-
D. H. Lee, K. I. Kawamura, K. Nomura, H. Yanagi, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono, Thin Solid Films THSFAP 0040-6090 518, 3000 (2010). 10.1016/j.tsf.2009.10.129
-
(2010)
Thin Solid Films
, vol.518
, pp. 3000
-
-
Lee, D.H.1
Kawamura, K.I.2
Nomura, K.3
Yanagi, H.4
Kamiya, T.5
Hirano, M.6
Hosono, H.7
-
11
-
-
46449136629
-
-
JAPIAU 0021-8979,. 10.1063/1.2942403
-
R. Laiho, L. S. Vlasenko, and M. P. Vlasenko, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 103, 123709 (2008). 10.1063/1.2942403
-
(2008)
J. Appl. Phys.
, vol.103
, pp. 123709
-
-
Laiho, R.1
Vlasenko, L.S.2
Vlasenko, M.P.3
-
13
-
-
35148897661
-
-
PLRBAQ 0556-2805,. 10.1103/PhysRevB.76.165202
-
A. Janotti and C. G. Van de Walle, Phys. Rev. B PLRBAQ 0556-2805 76, 165202 (2007). 10.1103/PhysRevB.76.165202
-
(2007)
Phys. Rev. B
, vol.76
, pp. 165202
-
-
Janotti, A.1
Van De Walle, C.G.2
-
14
-
-
77954965064
-
-
PLRBAQ 0556-2805,. 10.1103/PhysRevB.81.115311
-
S. J. Clark, J. Robertson, S. Lany, and A. Zunger, Phys. Rev. B PLRBAQ 0556-2805 81, 115311 (2010). 10.1103/PhysRevB.81.115311
-
(2010)
Phys. Rev. B
, vol.81
, pp. 115311
-
-
Clark, S.J.1
Robertson, J.2
Lany, S.3
Zunger, A.4
-
15
-
-
74349110496
-
-
PHYBE3 0921-4526,. 10.1016/j.physb.2009.08.178
-
W. J. Lee, B. Ryu, and K. J. Chang, Physica B PHYBE3 0921-4526 404, 4794 (2009). 10.1016/j.physb.2009.08.178
-
(2009)
Physica B
, vol.404
, pp. 4794
-
-
Lee, W.J.1
Ryu, B.2
Chang, K.J.3
-
16
-
-
77955160907
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.3464964
-
B. Ryu, H. K. Noh, E. A. Choi, and K. J. Chang, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 97, 022108 (2010). 10.1063/1.3464964
-
(2010)
Appl. Phys. Lett.
, vol.97
, pp. 022108
-
-
Ryu, B.1
Noh, H.K.2
Choi, E.A.3
Chang, K.J.4
|