-
1
-
-
2342630462
-
-
A. Biswas, O. C. Aktas, U. Schurmann, U. Saeed, V. Zaporojtchenko, F. Faupel, Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 2655.
-
(2004)
Appl. Phys. Lett.
, vol.84
, pp. 2655
-
-
Biswas, A.1
Aktas, O.C.2
Schurmann, U.3
Saeed, U.4
Zaporojtchenko, V.5
Faupel, F.6
-
2
-
-
45849120191
-
-
H. Takele, S. Jebril, T. Strunskus, V. Zaporojchenko, R. Adelung, F. Faupel, Appl. Phys. A 2008, 92, 345.
-
(2008)
Appl. Phys. A
, vol.92
, pp. 345
-
-
Takele, H.1
Jebril, S.2
Strunskus, T.3
Zaporojchenko, V.4
Adelung, R.5
Faupel, F.6
-
4
-
-
10044271110
-
-
J. Ouyang, C.-W. Chu, C. R. Szmanda, L. Ma, Y. Yang, Nat. Mater. 2004, 3, 918.
-
(2004)
Nat. Mater.
, vol.3
, pp. 918
-
-
Ouyang, J.1
Chu, C.-W.2
Szmanda, C.R.3
Ma, L.4
Yang, Y.5
-
5
-
-
0037532408
-
-
W. G. Sawyer, K. D. Freudenberg, P. Bhimaraj, L. S. Schadler, Wear 2003, 254, 573.
-
(2003)
Wear
, vol.254
, pp. 573
-
-
Sawyer, W.G.1
Freudenberg, K.D.2
Bhimaraj, P.3
Schadler, L.S.4
-
6
-
-
0001234132
-
-
H. Biederman, L. Martinu, D. Slaviniska, I. Chudacek, Pure Appl. Chem. 1998, 60, 607.
-
(1998)
Pure Appl. Chem.
, vol.60
, pp. 607
-
-
Biederman, H.1
Martinu, L.2
Slaviniska, D.3
Chudacek, I.4
-
7
-
-
33748741871
-
-
U. Schurmann, H. Takele, V. Zaporojtchenko, F. Faupel, Thin Solid Films 2006, 515, 801.
-
(2006)
Thin Solid Films
, vol.515
, pp. 801
-
-
Schurmann, U.1
Takele, H.2
Zaporojtchenko, V.3
Faupel, F.4
-
8
-
-
0037423459
-
-
S. K. Mandal, R. K. Roy, A. K. Pal, J. Phys. D: Appl. Phys. 2003, 36, 261.
-
(2003)
J. Phys. D: Appl. Phys.
, vol.36
, pp. 261
-
-
Mandal, S.K.1
Roy, R.K.2
Pal, A.K.3
-
9
-
-
45849111808
-
-
D.-G. Kim, E. Koyama, H. Tokuhisa, N. Koshizaki, Y. Do Kim, Appl. Phys. A 2008, 92, 263.
-
(2008)
Appl. Phys. A
, vol.92
, pp. 263
-
-
Kim, D.-G.1
Koyama, E.2
Tokuhisa, H.3
Koshizaki, N.4
Do Kim, Y.5
-
10
-
-
33646854022
-
-
H.-S. Jun, K.-S. Lee, S.-H. Yoon, T. S. Lee, I. H. Kim, J.-H. Jeong, B. Cheong, D. S. Kim, K. M. Cho, W. M. Kim, Phys. Stat. Sol A 2006, 203, 1211.
-
(2006)
Phys. Stat. Sol A
, vol.203
, pp. 1211
-
-
Jun, H.-S.1
Lee, K.-S.2
Yoon, S.-H.3
Lee, T.S.4
Kim, I.H.5
Jeong, J.-H.6
Cheong, B.7
Kim, D.S.8
Cho, K.M.9
Kim, W.M.10
-
11
-
-
33745699658
-
-
H. Takele, H. Greve, C. Pochstein, V. Zaporojtchenko, F. Faupel, Nanotechnology 2006, 17, 3499.
-
(2006)
Nanotechnology
, vol.17
, pp. 3499
-
-
Takele, H.1
Greve, H.2
Pochstein, C.3
Zaporojtchenko, V.4
Faupel, F.5
-
13
-
-
0031621515
-
-
A. Heilmann, M. Quinten, J. Werner, Eur. Phys. J. B 1998, 3, 455.
-
(1998)
Eur. Phys. J. B
, vol.3
, pp. 455
-
-
Heilmann, A.1
Quinten, M.2
Werner, J.3
-
14
-
-
0029754042
-
-
F. Fracassi, R. d'Agostino, F. Palumbo, F. Bellucci, T. Monetta, Thin Solid Films 1996, 272, 60.
-
(1996)
Thin Solid Films
, vol.272
, pp. 60
-
-
Fracassi, F.1
D'Agostino, R.2
Palumbo, F.3
Bellucci, F.4
Monetta, T.5
-
15
-
-
0029356538
-
-
F. Fracassi, R. d'Agostino, F. Palumbo, F. Bellucci, T. Monetta, Thin Solid Films 1995, 264, 40.
-
(1995)
Thin Solid Films
, vol.264
, pp. 40
-
-
Fracassi, F.1
D'Agostino, R.2
Palumbo, F.3
Bellucci, F.4
Monetta, T.5
-
16
-
-
0023984224
-
-
H. Suhr, A. Etspuler, E. Feurer, C. Oehr, Plasma Chem. Plasma Proc. 1998, 8, 9.
-
(1998)
Plasma Chem. Plasma Proc.
, vol.8
, pp. 9
-
-
Suhr, H.1
Etspuler, A.2
Feurer, E.3
Oehr, C.4
-
17
-
-
77956250278
-
-
F. Fracassi, R. d'Agostino, Vide; Science, Technique et Applications 2002, 57, 40.
-
(2002)
Vide; Science, Technique et Applications
, vol.57
, pp. 40
-
-
Fracassi, F.1
D'Agostino, R.2
-
20
-
-
19844374244
-
-
M. Creatore, J.-C. Cigal, G. M. W. Kroesen, M. C. M. van de Sanden, Thin Solid Films 2005, 484, 104.
-
(2005)
Thin Solid Films
, vol.484
, pp. 104
-
-
Creatore, M.1
Cigal, J.-C.2
Kroesen, G.M.W.3
Van De Sanden, M.C.M.4
-
21
-
-
16744362582
-
-
Y. Barrell, M. Creatore, M. Schaepkens, C. D. Iacovangelo, T. Miebach, M. C. M. van de Sanden, Surf. Coat. Technol. 2004, 180-181, 367.
-
(2004)
Surf. Coat. Technol.
, vol.180-181
, pp. 367
-
-
Barrell, Y.1
Creatore, M.2
Schaepkens, M.3
Iacovangelo, C.D.4
Miebach, T.5
Van De Sanden, M.C.M.6
-
22
-
-
9544235205
-
-
M. Creatore, W. M. M. Kessels, Y. Barrell, J. Benedikt, M. C. M. van de Sanden, Mater. Sci. Semicond. Process. 2004, 7, 283.
-
(2004)
Mater. Sci. Semicond. Process
, vol.7
, pp. 283
-
-
Creatore, M.1
Kessels, W.M.M.2
Barrell, Y.3
Benedikt, J.4
Van De Sanden, M.C.M.5
-
23
-
-
1242265532
-
-
M. F. A. M. van Hest, B. Mitu, D. C. Schram, M. C. M. van de Sanden, Thin Solid Films 2004, 449, 52.
-
(2004)
Thin Solid Films
, vol.449
, pp. 52
-
-
Van Hest, M.F.A.M.1
Mitu, B.2
Schram, D.C.3
Van De Sanden, M.C.M.4
-
24
-
-
33745619604
-
-
M. Creatore, Y. Barrell, J. Benedikt, M. C. M. van de Sanden, Plasma Sources Sci. Technol 2006, 15, 421.
-
(2006)
Plasma Sources Sci. Technol
, vol.15
, pp. 421
-
-
Creatore, M.1
Barrell, Y.2
Benedikt, J.3
Van De Sanden, M.C.M.4
-
25
-
-
0037416612
-
-
M. Creatore, M. Kilic, K. O'Brien, R. Groenen, M. C. M. van de Sanden, Thin Solid Films 2003, 427, 137.
-
(2003)
Thin Solid Films
, vol.427
, pp. 137
-
-
Creatore, M.1
Kilic, M.2
O'Brien, K.3
Groenen, R.4
Van De Sanden, M.C.M.5
-
26
-
-
50849140170
-
-
M. Creatore, S. M. Rieter, Y. Barrell, M. C. M. van de Sanden, R. Vernhes, L. Martinu, Thin Solid Films 2008, 516, 8547.
-
(2008)
Thin Solid Films
, vol.516
, pp. 8547
-
-
Creatore, M.1
Rieter, S.M.2
Barrell, Y.3
Van De Sanden, M.C.M.4
Vernhes, R.5
Martinu, L.6
-
27
-
-
77956248285
-
-
V. Zaporojtchenko, T. Strunskus, K. Behnke, F. Faupel, Proc. EuroMat 1999, p. 9.
-
(1999)
Proc. EuroMat
, pp. 9
-
-
Zaporojtchenko, V.1
Strunskus, T.2
Behnke, K.3
Faupel, F.4
-
28
-
-
0037846373
-
-
V. Zaporojtchenko, J. Zekonyte, A. Biswas, F. Faupel, Surf. Sci. 2003, 532-535, 300.
-
(2003)
Surf. Sci.
, vol.532-535
, pp. 300
-
-
Zaporojtchenko, V.1
Zekonyte, J.2
Biswas, A.3
Faupel, F.4
-
30
-
-
14844346085
-
-
A. V. Zayatsa, I. I. Smolyaninovb, A. A. Maradudinc, Phys. Rep. 2005, 408, 131.
-
(2005)
Phys. Rep.
, vol.408
, pp. 131
-
-
Zayatsa, A.V.1
Smolyaninovb, I.I.2
Maradudinc, A.A.3
-
33
-
-
0037013390
-
-
T. Ung, L. M. Liz-Marzan, P. Mulvaney, J. Phys. Chem. B 2001, 105, 3441.
-
(2001)
J. Phys. Chem. B
, vol.105
, pp. 3441
-
-
Ung, T.1
Liz-Marzan, L.M.2
Mulvaney, P.3
-
36
-
-
0037461639
-
-
K. L. Kelly, E. Coronado, L. L. Zhao, G. C. Schatz, J. Phys. Chem. B 2003, 107, 668.
-
(2003)
J. Phys. Chem. B
, vol.107
, pp. 668
-
-
Kelly, K.L.1
Coronado, E.2
Zhao, L.L.3
Schatz, G.C.4
-
37
-
-
0030205296
-
-
J. W. A. M. Gielen, M. C. M. van de Sanden, P. R. M. Kleuskens, D. C. Schram, Plasma Sources Sci. Technol 1996, 5, 492.
-
(1996)
Plasma Sources Sci. Technol
, vol.5
, pp. 492
-
-
Gielen, J.W.A.M.1
Van De Sanden, M.C.M.2
Kleuskens, P.R.M.3
Schram, D.C.4
-
38
-
-
0000569936
-
-
M. C. M. van de Sanden, J. M. de Regt, D. C. Schram, Plasma Sources Sci. Techol 1994, 3, 501.
-
(1994)
Plasma Sources Sci. Techol
, vol.3
, pp. 501
-
-
Van De Sanden, M.C.M.1
De Regt, J.M.2
Schram, D.C.3
-
39
-
-
0344084097
-
-
J. Benedikt, M. Wisse, R. V. Woen, R. Engeln, M. C. M. van de Sanden, J. Appl. Phys. 2003, 94, 6932.
-
(2003)
J. Appl. Phys.
, vol.94
, pp. 6932
-
-
Benedikt, J.1
Wisse, M.2
Woen, R.V.3
Engeln, R.4
Van De Sanden, M.C.M.5
-
40
-
-
1242265532
-
-
M. F. A. M. van Hest, B. Mitu, D. C. Schram, M. C. M. van de Sanden, Thin Solid Films 2004, 449, 52.
-
(2004)
Thin Solid Films
, vol.449
, pp. 52
-
-
Van Hest, M.F.A.M.1
Mitu, B.2
Schram, D.C.3
Van De Sanden, M.C.M.4
-
43
-
-
63649098537
-
-
E. Langereis, S. B. S. Heil, H. C. M. Knoops, W. Keunig, M. C. M. van de Sanden, W. M. M. Kessels, J. Phys. D: Appl. Phys. 2009, 42, 073001.
-
(2009)
J. Phys. D: Appl. Phys.
, vol.42
, pp. 073001
-
-
Langereis, E.1
Heil, S.B.S.2
Knoops, H.C.M.3
Keunig, W.4
Van De Sanden, M.C.M.5
Kessels, W.M.M.6
-
44
-
-
33645691733
-
-
R. W. Cohen, G. D. Cody, M. D. Coutts, B. Abeles, Phys. Rev. B 1973, 8, 3689.
-
(1973)
Phys. Rev. B
, vol.8
, pp. 3689
-
-
Cohen, R.W.1
Cody, G.D.2
Coutts, M.D.3
Abeles, B.4
-
46
-
-
33847729034
-
-
V. Kochergin, V. Zaporojtchenko, H. Takele, F. Faupel, H. Föll, J. Appl Phys. 2007, 101, 024302.
-
(2007)
J. Appl Phys.
, vol.101
, pp. 024302
-
-
Kochergin, V.1
Zaporojtchenko, V.2
Takele, H.3
Faupel, F.4
Föll, H.5
-
49
-
-
0344584512
-
-
M. F. A. M. van Hest, J. R. Haartsen, M. H. M. Van Weert, D. C. Schram, M. C. M. van de Sanden, Plasma Sources Sci. Technol 2003, 12, 539.
-
(2003)
Plasma Sources Sci. Technol
, vol.12
, pp. 539
-
-
Van Hest, M.F.A.M.1
Haartsen, J.R.2
Van Weert, M.H.M.3
Schram, D.C.4
Van De Sanden, M.C.M.5
-
51
-
-
54849438968
-
-
H. Wormeester, E. Stefan Kooij, B. Poelsema, Phys. Stat. Sol. A 2008, 205, 756.
-
(2008)
Phys. Stat. Sol. A
, vol.205
, pp. 756
-
-
Wormeester, H.1
Stefan Kooij, E.2
Poelsema, B.3
|