-
1
-
-
0002046528
-
-
H. Cao, J. Y. Wu, H. C. Ong, J. Y. Dai, and R. P. H. Chang: Appl. Phys. Lett. 73 (1998) 572.
-
(1998)
Appl. Phys. Lett.
, vol.73
, pp. 572
-
-
Cao, H.1
Wu, J.Y.2
Ong, H.C.3
Dai, J.Y.4
Chang, R.P.H.5
-
2
-
-
0029389357
-
-
S. Nakamura, M. Senoh, N. Iwasa, S. Nagahama, T. Yamada, and T. Mukai: Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) L1332.
-
(1995)
Jpn. J. Appl. Phys.
, vol.34
-
-
Nakamura, S.1
Senoh, M.2
Iwasa, N.3
Nagahama, S.4
Yamada, T.5
Mukai, T.6
-
3
-
-
79958230334
-
-
D. C. Look, D. C. Reynolds, C. W. Litton, R. L. Jones, D. B. Eason, and G. Cantwell: Appl. Phys. Lett. 81 (2002) 1830.
-
(2002)
Appl. Phys. Lett.
, vol.81
, pp. 1830
-
-
Look, D.C.1
Reynolds, D.C.2
Litton, C.W.3
Jones, R.L.4
Eason, D.B.5
Cantwell, G.6
-
4
-
-
0035335462
-
-
S. Muthukumar, C. R. Gorla, N. W. Emanetoglu, S. Liang, and Y. Lu: J. Cryst. Growth 225 (2001) 197.
-
(2001)
J. Cryst. Growth
, vol.225
, pp. 197
-
-
Muthukumar, S.1
Gorla, C.R.2
Emanetoglu, N.W.3
Liang, S.4
Lu, Y.5
-
6
-
-
10444281574
-
-
A. Talbi, F. Sarry, L. L. Brizoual, O. Elmazria, and P. Alnot: IEEE Trans. Ultrason. Ferroelectr. Freq. Control 51 (2004) 1421.
-
(2004)
IEEE Trans. Ultrason. Ferroelectr. Freq. Control
, vol.51
, pp. 1421
-
-
Talbi, A.1
Sarry, F.2
Brizoual, L.L.3
Elmazria, O.4
Alnot, P.5
-
8
-
-
34548642147
-
-
J. Huang, H. Lu, Z. Ye, L. Wang, B. Zhao, and H. He: J. Appl. Phys. 102 (2007) 053521.
-
(2007)
J. Appl. Phys.
, vol.102
, pp. 053521
-
-
Huang, J.1
Lu, H.2
Ye, Z.3
Wang, L.4
Zhao, B.5
He, H.6
-
10
-
-
33646523438
-
-
J. D. Ye, S. L. Gu, S. M. Zhu, W. Liu, S. M. Liu, R. Zhang, Y. Shi, and Y. D. Zheng: Appl. Phys. Lett. 88 (2006) 182112.
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.88
, pp. 182112
-
-
Ye, J.D.1
Gu, S.L.2
Zhu, S.M.3
Liu, W.4
Liu, S.M.5
Zhang, R.6
Shi, Y.7
Zheng, Y.D.8
-
11
-
-
33645548058
-
-
X. D. Chen, C. C. Ling, S. Fung, C. D. Beling, Y. F. Mei, Ricky K. Y. Fu, G. G. Siu, and P. K. Chu: Appl. Phys. Lett. 88 (2006) 132104.
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.88
, pp. 132104
-
-
Chen, X.D.1
Ling, C.C.2
Fung, S.3
Beling, C.D.4
Mei, Y.F.5
Ricky Fu, K.Y.6
Siu, G.G.7
Chu, P.K.8
-
12
-
-
43049111782
-
-
X. Li, B. Zhang, H. Zhu, X. Dong, X. Xia, Y. Cui, Y. Ma, and G. Du: J. Phys. D 41 (2008) 035101.
-
(2008)
J. Phys. D
, vol.41
, pp. 035101
-
-
Li, X.1
Zhang, B.2
Zhu, H.3
Dong, X.4
Xia, X.5
Cui, Y.6
Ma, Y.7
Du, G.8
-
13
-
-
34249039654
-
-
H. Kim, A. Cepler, M. S. Osofsky, R. C. Y. Auyeung, and A. Piqué: Appl. Phys. Lett. 90 (2007) 203508.
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.90
, pp. 203508
-
-
Kim, H.1
Cepler, A.2
Osofsky, M.S.3
Auyeung, R.C.Y.4
Piqué, A.5
-
16
-
-
2942741358
-
-
C. C. Liu, Y. H. Chen, M. P. Houng, Y. H. Wang, Y. K. Su, W. B. Chen, and S. M. Chen: IEEE Photonics Technol. Lett. 16 (2004) 1444.
-
(2004)
IEEE Photonics Technol. Lett.
, vol.16
, pp. 1444
-
-
Liu, C.C.1
Chen, Y.H.2
Houng, M.P.3
Wang, Y.H.4
Su, Y.K.5
Chen, W.B.6
Chen, S.M.7
-
17
-
-
9544253912
-
-
H. C. Wang, Y. K. Su, Y. H. Chung, C. L. Lin, W. B. Chen, and S. M. Chen: Solid-State Electron. 49 (2005) 37.
-
(2005)
Solid-state Electron.
, vol.49
, pp. 37
-
-
Wang, H.C.1
Su, Y.K.2
Chung, Y.H.3
Lin, C.L.4
Chen, W.B.5
Chen, S.M.6
-
18
-
-
34047269243
-
-
S. J. Chang, C. F. Shen, W. S. Chen, T. K. Ko, C. T. Kuo, K. H. Yu, S. C. Shei, and Y. Z. Chiou: Electrochem. Solid-State Lett. 10 (2007) H175.
-
(2007)
Electrochem. Solid-state Lett.
, vol.10
-
-
Chang, S.J.1
Shen, C.F.2
Chen, W.S.3
Ko, T.K.4
Kuo, C.T.5
Yu, K.H.6
Shei, S.C.7
Chiou, Y.Z.8
-
19
-
-
34547174675
-
-
H. S. Kim, K. K. Kim, K. K. Choi, H. K. Kim, J. O. Song, J. H. Cho, K. H. Baik, C. S. Sone, Y. J. Park, and T. Y. Seong: Appl. Phys. Lett. 91 (2007) 023510.
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.91
, pp. 023510
-
-
Kim, H.S.1
Kim, K.K.2
Choi, K.K.3
Kim, H.K.4
Song, J.O.5
Cho, J.H.6
Baik, K.H.7
Sone, C.S.8
Park, Y.J.9
Seong, T.Y.10
-
20
-
-
36849079253
-
-
D. C. Kim, W. S. Han, H. K. Cho, B. H. Kong, and H. S. Kim: Appl. Phys. Lett. 91 (2007) 231901.
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.91
, pp. 231901
-
-
Kim, D.C.1
Han, W.S.2
Cho, H.K.3
Kong, B.H.4
Kim, H.S.5
|