Study of structural and electrical properties of phosphorus-doped p-type ZnO thin films

Japanese Journal of Applied Physics

Volumn 49, Issue 4 PART 1, 2010, Pages 0411031-0411034

  Wang, Yipeng ^a   Zhou, Jianqing ^a   Lu, Qian ^a   Liu, Lilong ^a   Zhang, Xin ^a   Wu, Xiaojing ^a  

^a FUDAN UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING TREATMENTS; AS-DEPOSITED FILMS; HALL EFFECT MEASUREMENT; N-TYPE SEMICONDUCTORS; NITROGEN GAS; P TYPE ZNO THIN FILM; P-TYPE; PHOSPHORUS PENTOXIDE; PHOSPHORUS-DOPED; STRUCTURAL AND ELECTRICAL PROPERTIES;

DEPOSITION; ELECTRIC PROPERTIES; HALL EFFECT; MAGNETIC FIELD EFFECTS; METALLIC FILMS; OPTICAL FILMS; PHOSPHORUS; PULSED LASER DEPOSITION; PULSED LASERS; THIN FILMS; X RAY DIFFRACTION; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; ZINC OXIDE;

X RAY DIFFRACTION ANALYSIS;

EID: 77952641782     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.49.041103     Document Type: Article

References (23)

1. S. Shigemori, A. Nakamura, J. Ishihara, T. Aoki, and J. Temmyo: Jpn. J. Appl. Phys. 43 (2004) L1088.
2. A. K. Sharma, J. Narayan, J. F. Muth, C. W. Teng, C. Jin, A. Kvit, R. M. Kolbas, and O. W. Holland: Appl. Phys. Lett. 75 (1999) 3327.
3. D. C. Look, J. W. Hemsky, and J. R. Sizelove: Phys. Rev. Lett. 82 (1999) 2552.
4. C. G. Van de Walle: Phys. Rev. Lett. 85 (2000) 1012.
5. S. B. Zhang, S. H. Wei, and A. Zunger: Phys. Rev. B 63 (2001) 075205.
6. K. Ip, M. E. Overberg, Y. W. Heo, D. P. Norton, S. J. Pearton, C. E. Stutz, B. Luo, F. Ren, D. C. Look, and J. M. Zavada: Appl. Phys. Lett. 82 (2003) 385.
7. K. Ip, M. E. Overberg, Y. W. Heo, D. P. Norton, S. J. Pearton, S. O. Kucheyev, C. Jagadish, J. S. Williams, R. G. Wilson, and J. M. Zavada: Appl. Phys. Lett. 81 (2002) 3996.
8. D. C. Look, R. L. Jones, J. R. Sizelove, N. Y. Garces, N. C. Giles, and L. E. Halliburton: Phys. Status Solidi A 195 (2003) 171.
9. U. Ozgur, Ya. I. Alivov, C. Liu, A. Teke, M. A. Reshchikov, S. Dooan, V. Avrutin, S. J. Cho, and H. Morkoc: J. Appl. Phys. 98 (2005) 041301.
10. Y. Yan, M. M. Al-Jassim, and S. H. Wei: Appl. Phys. Lett. 89 (2006) 181912.
11. K. K. Kim, H. S. Kim, D. K. Hwang, J. H. Lim, and S. J. Park: Appl. Phys. Lett. 83 (2003) 63.
12. D. K. Hwang, H. S. Kim, J. H. Lim, J. Y. Oh, J. H. Yang, S. J. Park, K. K. Kim, D. C. Look, and Y. S. Park: Appl. Phys. Lett. 86 (2005) 151917.
13. F. G. Chen, Z. Z. Ye, W. Z. Xu, B. H. Zhao, L. P. Zhu, and J. G. Lv: J. Cryst. Growth 281 (2005) 458.
14. V. Vaithianathan, B. T. Lee, and S. S. Kim: J. Appl. Phys. 98 (2005) 043519.
15. Y. J. Li, Y. W. Heo, Y. Kwon, K. Ip, S. J. Pearton, and D. P. Norton: Appl. Phys. Lett. 87 (2005) 072101.
16. S. J. So and C. B. Park: J. Cryst. Growth 285 (2005) 606.
17. F. X. Xiu, Z. Yang, L. J. Mandalapu, J. L. Liu, and W. P. Beyermann: Appl. Phys. Lett. 88 (2006) 052106.
18. S. Limpijumnong, S. B. Zhang, S. H. Wei, and C. H. Park: Phys. Rev. Lett. 92 (2004) 155504.
19. W. J. Lee, J. Kang, and K. J. Chang: Phys. Rev. B 73 (2006) 024117.
20. D. K. Hwang, M. S. Oh, J. H. Lim, C. G. Kang, and S. J. Park: Appl. Phys. Lett. 90 (2007) 021106.
21. M. S. Oh, D. K. Hwang, Y. S. Choi, J. W. Kang, S. J. Park, C. S. Hwang, and K. I. Cho: Appl. Phys. Lett. 93 (2008) 111905.
22. H. S. Kim, S. J. Pearton, and D. P. Norton: J. Appl. Phys. 102 (2007) 104904.
23. C. D. Wagner, W. M. Riggs, L. E. Davis, J. F. Moulder, and G. E. Muilenberg: Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy (Perkin- Elmer, Eden Prairie, MN, 1979) p. 54.