Highly conducting, transparent rhombic/cubic indium tin oxide nanocomposite thin films

Crystal Growth and Design

Volumn 10, Issue 4, 2010, Pages 1730-1735

  Dunlop, Luke A ^a   Kursumovic, Ahmed ^a   MacManus Driscoll, Judith L ^a  

^a UNIVERSITY OF CAMBRIDGE   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 77950832770     PISSN: 15287483     EISSN: 15287505     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cg901384d     Document Type: Article

References (32)

1. Shannon, R. D. Solid State Commun. 1966, 4, 629
2. Prewitt, C. T.; Shannon, R. D.; Rogers, D. B.; Sleight, A. W. Inorg. Chem. 1969, 8, 1985
3. Gurlo, A.; Kroll, P.; Riedel, R. Chem.-Eur. J. 2008, 14, 3306
4. Seo, K. H.; Lee, J. H.; Kim, J. J.; Bertoni, M. I.; Ingram, B. J.; Mason, T. O. J. Am. Ceram. Soc. 2006, 89, 3431
5. Frank, G.; Olazcuaga, R.; Rabenau, A. Inorg. Chem. 1977, 16, 1251
6. Yaglioglu, B.; Huang, Y. J.; Yeom, H. Y.; Paine, D. C. Thin Solid Films 2005, 496, 89
7. Wang, C. Y.; Dai, Y.; Pezoldt, J.; Lu, B.; Kups, T.; Cimalla, V.; Ambacher, O. Cryst. Growth Des. 2008, 8, 1257
8. King, P. D. C.; Veal, T. D.; Fuchs, F.; Wang, C. Y.; Payne, D. J.; Bourlange, A.; Zhang, H.; Bell, G. R.; Cimalla, V.; Ambacher, O.; Egdell, R. G.; Bechstedt, F.; McConville, C. F. Phys. Rev. B 2009, 79, 10
9. Bong-Chull, K.; Jae-Yeol, K.; Duk-Dong, L.; Jeong-Ok, L.; Jeung-Soo, H. Sens. Actuators, B 2003, B89, 180
10. Oprea, A.; Gurlo, A.; Barsan, N.; Weimar, U. Sens. Actuators, B 2008, 139, 322
11. Malik, A.; Nunes, R.; Martins, R. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1997, 481, 599
12. Lang, R. J. J. Acoust. Soc. Am. 1962, 34, 6
13. Wang, W.-N.; Purwanto, A.; Lenggoro, I. W.; Okuyama, K.; Chang, H.; Jang, H. D. Ind. Eng. Chem. Res. 2008, 47, 1650
14. Origin; OriginLab: Northampton, MA.
15. Gonzalez, G. B.; Okasinski, J. S.; Mason, T. O.; Buslaps, T.; Honkimaki, V. J. Appl. Phys. 2008, 104, 8
16. Minami, T.; Takeda, Y.; Takata, S.; Kakumu, T. Thin Solid Films 1997, 308'309, 13
17. Nadaud, N.; Lequeux, N.; Nanot, M.; Jove, J.; Roisnel, T. J. Solid State Chem. 1998, 135, 140
18. Sandoval-Paz, M. G.; Ramírez-Bon, R. Thin Solid Films 2009, 517, 2596
19. Seward, T. M.; Henderson, C. M. B.; Charnock, J. M. Chem. Geol. 2000, 167, 117
20. de Keijser, T. H.; Langford, J. I.; Mittemeijer, E. J.; Vogels, A. B. P. J. Appl. Crystallogr. 1982, 15, 308
21. Enzo, S.; Fagherazzi, G.; Benedetti, A.; Polizzi, S. J. Appl. Crystallogr. 1988, 21, 536
22. Gogotsi, Y. G.; Domnich, V.; Dub, S. N.; Kailer, A.; Nickel, K. G. J. Mater. Res. 2000, 15, 871
23. Atou, T.; Kusaba, K.; Fukuoka, K.; Kikuchi, M.; Syono, Y. J. Solid State Chem. 1990, 89, 378
24. Zhang, D. H.; Ma, H. L. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 1996, 62, 487
25. Ellmer, K.; Mientus, R. Thin Solid Films 2008, 516, 4620
26. Frank, G.; Kostlin, H. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 1982, 27, 197
27. Aouaj, M. A.; Diaz, R.; Belayachi, A.; Rueda, F.; Abd-Lefdil, M. Mater. Res. Bull. 2009, 44, 1458
28. Maki, K.; Komiya, N.; Suzuki, A. Thin Solid Films 2003, 445, 224
29. D'Elia, S.; Scaramuzza, N.; Ciuchi, F.; Versace, C.; Strangi, G.; Bartolino, R. Appl. Surf. Sci. 2009, 255, 7203
30. Fuchs, F.; Bechstedt, F. Phys. Rev. B 2008, 77, 10
31. John, C. C. F.; John, B. G. J. Appl. Phys. 1977, 48, 3524
32. Haacke, G. J. Appl. Phys. 1976, 47, 4086