-
4
-
-
0031122969
-
-
Chelnokov, V. E.; Syrkin, A. L. Mater. Sci. Eng., B 1997, 46, 248-253.
-
(1997)
Mater. Sci. Eng., B
, vol.46
, pp. 248-253
-
-
Chelnokov, V.E.1
Syrkin, A.L.2
-
5
-
-
0032139423
-
-
Mehregany, M.; Zorman, C. A.; Rajan, N.; Wu, C. H. Proc. IEEE 1998, 56, 1594-1609.
-
(1998)
Proc. IEEE
, vol.56
, pp. 1594-1609
-
-
Mehregany, M.1
Zorman, C.A.2
Rajan, N.3
Wu, C.H.4
-
7
-
-
0141458036
-
-
Boo, J. H.; Lim, D. C.; Lee, S. B.; Lee, K. W.; Sung, M. M.; Kim, Y.; Yu, K, S. J. Vac. Sci. Technol. B 2003, 21, 1870-1875.
-
(2003)
J. Vac. Sci. Technol. B
, vol.21
, pp. 1870-1875
-
-
Boo, J.H.1
Lim, D.C.2
Lee, S.B.3
Lee, K.W.4
Sung, M.M.5
Kim, Y.6
Yu, K.S.7
-
8
-
-
0000167955
-
-
Wahab, Q.; Sardela, M. R.; Hultman, L.; Henry, A.; Willander, M.; Janzen, E.; Sundgren, J. E. Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 725-727.
-
(1994)
Appl. Phys. Lett.
, vol.65
, pp. 725-727
-
-
Wahab, Q.1
Sardela, M.R.2
Hultman, L.3
Henry, A.4
Willander, M.5
Janzen, E.6
Sundgren, J.E.7
-
9
-
-
0346976318
-
-
Fissel, A.; Schroter, B.; Kaiser, U.; Richter, W. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 2418-2420.
-
(2000)
Appl. Phys. Lett.
, vol.77
, pp. 2418-2420
-
-
Fissel, A.1
Schroter, B.2
Kaiser, U.3
Richter, W.4
-
10
-
-
0019283390
-
-
Nishino, S.; Hazuki, Y.; Matsunami, H.; Tanaka, T. J. Electro-chem. Soc. 1980, 127, 2674-2680.
-
(1980)
J. Electro-chem. Soc.
, vol.127
, pp. 2674-2680
-
-
Nishino, S.1
Hazuki, Y.2
Matsunami, H.3
Tanaka, T.4
-
11
-
-
1842426190
-
-
Wijesundara, M. B. J.; Valente, G.; Ashurst, W. R.; Howe, R. T.; Pisano, A. P.; Carraro, C.; Maboudian, R. J. Electrochem. Soc. 2004, 151, C210-C214.
-
(2004)
J. Electrochem. Soc.
, vol.151
-
-
Wijesundara, M.B.J.1
Valente, G.2
Ashurst, W.R.3
Howe, R.T.4
Pisano, A.P.5
Carraro, C.6
Maboudian, R.7
-
12
-
-
1842583239
-
-
Valente, G.; Wijesundara, M. B. J.; Maboudian, R.; Carraro, C. J. Electrochem. Soc. 2004, 151, C215-C219.
-
(2004)
J. Electrochem. Soc.
, vol.151
-
-
Valente, G.1
Wijesundara, M.B.J.2
Maboudian, R.3
-
13
-
-
0029307813
-
-
Chiu, C. C.; Desu, S. B.; Chen, G.; Tsai, C. Y.; Reynolds, W. T. J. Mater. Res. 1995, 10, 1099-1107.
-
(1995)
J. Mater. Res.
, vol.10
, pp. 1099-1107
-
-
Chiu, C.C.1
Desu, S.B.2
Chen, G.3
Tsai, C.Y.4
Reynolds, W.T.5
-
14
-
-
66849138111
-
-
Chen, W. Y.; Chen, C. C.; Hwang, J.; Huang, C. F. Cryst. Growth Des. 2009, 9, 2616-2619.
-
(2009)
Cryst. Growth Des.
, vol.9
, pp. 2616-2619
-
-
Chen, W.Y.1
Chen, C.C.2
Hwang, J.3
Huang, C.F.4
-
15
-
-
0031699631
-
-
Seo, Y. H.; Kim, K, C.; Shim, H. W.; Nahm, K. S.; Suh, E. K.; Lee, H. J.; Kim, D. K.; Lee, B. T.J. Eleclrochem. Soc, 1998, 145, 292-299.
-
(1998)
J. Eleclrochem. Soc
, vol.145
, pp. 292-299
-
-
Seo, Y.H.1
Kim, K.C.2
Shim, H.W.3
Nahm, K.S.4
Suh, E.K.5
Lee, H.J.6
Kim, D.K.7
Lee, B.T.8
-
17
-
-
33747502586
-
-
Nishino, S.; Powell, J. A.; Will, H. A. Appl. Phys. Lett. 1983, 42, 460-462.
-
(1983)
Appl. Phys. Lett.
, vol.42
, pp. 460-462
-
-
Nishino, S.1
Powell, J.A.2
Will, H.A.3
-
18
-
-
35949021638
-
-
Olego, D.;Cardona, M.;Vogl, P.Phys. Rev. B1982, 25, 3878-3888.
-
(1982)
Phys. Rev. B
, vol.25
, pp. 3878-3888
-
-
Olego, D.1
Cardona, M.2
Vogl, P.3
-
19
-
-
54049100050
-
-
Ferralis, N.; Maboudian, R.; Carraro, C. Phys. Rev. Lett, 2008, 101, 156801.
-
(2008)
Phys. Rev. Lett
, vol.101
, pp. 156801
-
-
Ferralis, N.1
Maboudian, R.2
Carraro, C.3
-
20
-
-
0036469870
-
-
Rohmfeld, S.; Hundhausen, M.; Ley, L.; Zorman, C. A.; Mehregany, M. J. Appl. Phys. 2002, 91, 1113-1117.
-
(2002)
J. Appl. Phys.
, vol.91
, pp. 1113-1117
-
-
Rohmfeld, S.1
Hundhausen, M.2
Ley, L.3
Zorman, C.A.4
Mehregany, M.5
-
22
-
-
0001444035
-
-
Feng, Z. C.; Choyke, W. J.; Powell, J. A. J. Appl. Phys. 1988, 64, 6827-6835.
-
(1988)
J. Appl. Phys.
, vol.64
, pp. 6827-6835
-
-
Feng, Z.C.1
Choyke, W.J.2
Powell, J.A.3
-
23
-
-
0033702811
-
-
Teker, K.; Jacob, C.; Chung, J.; Hong, M. H. Thin Solid Films 2000, 371, 53-60.
-
(2000)
, vol.371
, pp. 53-60
-
-
Teker, K.1
Jacob, C.2
Chung, J.3
Hong, M.H.4
Films, T.S.5
-
24
-
-
0026414655
-
-
Hiramatsu, K.; Itoh, S.; Amano, H.; Akasaki, I.; Kuwano, N.; Shiraishi, T.; Oki, K. J. Cryst. Growth 1991, 115, 628-633.
-
(1991)
J. Cryst. Growth
, vol.115
, pp. 628-633
-
-
Hiramatsu, K.1
Itoh, S.2
Amano, H.3
Akasaki, I.4
Kuwano, N.5
Shiraishi, T.6
Oki, K.7
-
25
-
-
36449003431
-
-
Zorman, C. A.; Fleischman, A. J.; Dewa, A. S.; Mehregany, M.; Jacob, C.; Nishino, S.; Pirouz, P. J. Appl. Phys. 1995, 78, 5136-5138.
-
(1995)
J. Appl. Phys.
, vol.78
, pp. 5136-5138
-
-
Zorman, C.A.1
Fleischman, A.J.2
Dewa, A.S.3
Mehregany, M.4
Jacob, C.5
Nishino, S.6
Pirouz, P.7
-
28
-
-
70249129367
-
-
Lien, W.-C.; Ferralis, N.; Pisano, A. P.; Carraro, C.; Maboudian, R. Appl. Phys. Lett. 2009, 95,101901.
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.95
, pp. 101901
-
-
Lien, W.-C.1
Ferralis, N.2
Pisano, A.P.3
Carraro, C.4
Maboudian, R.5
|