Fabrication of polymeric nanorods using bilayer nanoimprint lithography

Small

Volumn 5, Issue 14, 2009, Pages 1632-1636

  Buyukserin, Fatih ^a   Aryal, Mukti ^a,c   Gao, Jinming ^b   Hu, Wenchuang ^a  

^a The University of Texas at Dallas   (United States)

^b UNIVERSITY OF TEXAS SOUTHWESTERN MEDICAL CENTER   (United States)

^c GAZI UNIVERSITY   (Turkey)

Author keywords

Anodic alumina membranes; Fluorescent nanorods; Nanoimprint lithography; Nanoporous silicon; Nonspherical nanoparticles

Indexed keywords

ANODIC ALUMINA; ANODIC ALUMINA MEMBRANES; BI-LAYER; DYE MOLECULE; FLUORESCENT NANOPARTICLES; FLUORESCENT NANORODS; HIGH-DENSITY; NANOPOROUS SILICON; NONSPHERICAL NANOPARTICLES; ORDERED ARRAY; POLYMER LAYERS; POLYMER THICKNESS;

ALUMINUM SHEET; FABRICATION; FLUORESCENCE; FUNCTIONAL POLYMERS; MOLDS; NANOPARTICLES; NANOPORES; NANORODS; PLASMA ETCHING; POLYMERS;

NANOIMPRINT LITHOGRAPHY;

NANOTUBE; POLYMER;

ARTICLE;

NANOTUBES; POLYMERS;

EID: 68249147654     PISSN: 16136810     EISSN: 16136829     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/smll.200801822     Document Type: Article

References (42)

1. M. Ferrari, Nat. Rev. Cancer 2005, 5, 161.
2. D. Peer, J. M. Karp, S. Hong, O. C. Farokhzad, R. Margalit, R. Langer, Nat. Nanotechnol. 2007, 2, 751.
3. L. E. Euliss, J. A. DuPont, S. Gratton, J. DeSimone, Chem. Soc. Rev. 2006, 35, 1095.
4. J. A. Champion, Y. K. Katare, S. Mitragotri, Proc. Natl. Acad. Sci. USA 2007, 104, 11901.
5. U. S. Tandon, Vacuum 1992, 43, 241.
6. S. Y. Chou, P. R. Krauss, P. J. Renstrom, Science 1996, 272, 85.
7. P. Ruchhoeft, M. Colburn, B. Choi, H. Nounu, S. Johnson, T. Bailey, S. Damle, M. Stewart, J. Ekerdt, S. V. Sreenivasan, J. C. Wolfe, C. G. Willson, J. Vac. Sci. Technol. B 1999, 17, 2965.
8. Y. N. Xia, G. M. Whitesides, Annu. Rev. Mater. Sci. 1998, 28, 153.
9. R. D. Piner, J. Zhu, F. Xu, S. H. Hong, C. A. Mirkin, Science 1999, 283, 661.
10. R. J. Jackman, J. L. Wilbur, G. M. Whitesides, Science 1995, 269, 664.
11. J. C. Love, K. E. Paul, G. M. Whitesides, Adv. Mater. 2001, 13, 604.
12. M. Geissler, J. M. McLellan, Y. N. Xia, Nano Lett. 2005, 5, 31.
13. C. M. Bruinink, M. Peter, P. A. Maury, M. De Boer, L. Kuipers, J. Huskens, D. N. Reinhoudt, Adv. Func. Mater. 2006, 16, 1555.
14. J. Zaumseil, M. A. Meitl, J. W. P. Hsu, B. R. Acharya, K. W. Baldwin, Y. L. Loo, J. A. Rogers, Nano Lett. 2003, 3, 1223.
15. S. Y. Chou, L. Zhuang, J. Vac. Sci. Technol. B 1999, 17, 3197.
16. J. E. Meiring, M. J. Schmid, S. M. Grayson, B. M. Rathsack, D. M. Johnson, R. Kirby, R. Kannappan, K. Manthiram, B. Hsia, Z. L. Hogan, A. D. Ellington, M. V. Pishko, C. G. Willson, Chem. Mater. 2004, 16, 5574.
17. D. Dendukuri, D. C. Pregibon, J. Collins, T. A. Hatton, P. S. Doyle, Nat. Mater. 2006, 5, 365.
18. D. Dendukuri, K. Tsoi, T. A. Hatton, P. S. Doyle, Langmuir 2005, 21, 2113.
19. S. Xu, Z. Nie, M. Seo, P. Lewis, E. Kumacheva, H. A. Stone, P. Garstecki, D. B. Weibel, I. Gitlin, G. M. Whitesides, Angew. Chem. Int. Ed. 2005, 44, 724.
20. J. P. Rolland, B. W. Maynor, L. E. Euliss, A. E. Exner, G. M. Denison, J. M. DeSimone, J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 10096.
21. L. C. Glangchai, M. Caldorera-Moore, L. Shi, K. Roy, J. Controlled Release 2008, 125, 263.
22. C. C. Ho, A. Keller, J. A. Odell, R. H. Ottewill, Coll. Polym. Sci. 1993, 271, 469.
23. Y. Lu, Y. Yin, Y. Xia, Adv. Mater. 2001, 13, 271.
24. S. E. A. Gratton, P. D. Pohlhaus, J. Lee, J. Guo, M. J. Cho, J. M. DeSimone, J. Controlled Release 2007, 121, 10.
25. H. Masuda, K. Fukuda, Science 1995, 268, 1466.
26. R. S. Shawgo, A. C. R. Grayson, Y. W. Li, M. J. Cima, Curr. Opin. Solid State Mater. Sci. 2002, 6, 329.
27. F. Walther, P. Davydovskaya, S. Zucher, M. Kaiser, H. Herberg, A. M. Gigler, R. W. Stark, J. Micromech. Microeng. 2007, 17, 524.
28. L. Tao, S. Ramachandran, C. T. Nelson, M. Lin, L. J. Overzet, M. Goeckner, G. Lee, C. G. Willson, W. Wu, W. Hu, Nanotechnology 2008, 19.
29. S. Y. Chou, P. R. Krauss, P. J. Renstrom, Appl. Phys. Lett 1995, 67, 3114.
30. M. C. Kang, S. F. Yu, N. C. Li, C. R. Martin, Langmuir 2005, 21, 8429.
31. Y. Li, Y. Kanamori, K. Hane, Microsyst. Technol. 2004, 10, 272.
32. J. Y. Liang, H. L. Luo, R. Beresford, J. Xu, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 5974.
33. H. Masuda, A. Abe, M. Nakao, A. Yokoo, T. Tamamura, K. Nishio, Adv. Mater. 2003, 35, 161.
34. Y. D. Wang, S. J. Chua, M. S. Sander, P. Chen, S. Tripathy, C. G. Fonstad, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 816.
35. N. Li, D. T. Mitchell, K.-P. Lee, C. R. Martin, J. Electrochem. Soc. 2003, 150, A979.
36. R. C. Furneaux, W. R. Rigby, A. P. Davidson, Nature 1989, 337, 147.
37. S. Landis, N. Chaix, D. Hermelin, T. Leveder, C. Gourgon, Microelectron. Eng. 2007, 84, 940.
38. C. L. Soles, E. K. Lin, J. L. Lenhart, R. L. Jones, W.-I. Wu, D. L. Goldfarb, M. Angelopoulos, J. Vac. Sci. Technol. B 2001, 19, 2690.
39. S. Ahn, J. Cha, H. Myung, S-m. Kim, S. Kanga, Appl. Phys. Lett. 2006, 89.
40. S. H. Ahn, L. J. Guo, Adv. Mater. 2008, 20.
41. Y. Geng, P. Dalhaimer, S. S. Cai, R. Tsai, M. Tewari, T. Minko, D. E. Discher, Nat. Nanotechnol. 2007, 2, 249.
42. J. H. Park, G. von Maltzahn, L. L. Zhang, M. P. Schwartz, E. Ruoslahti, S. N. Bhatia, M. J. Sailor, Adv. Mater. 2008, 20, 1630.