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Volumn 156, Issue 7, 2009, Pages

Comparison of thermal and plasma-enhanced ALD/CVD of vanadium pentoxide

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CARBON CONTAMINATION; CRYSTALLINITY; HIGH PURITY; ISO-PROPOXIDE; POST ANNEALING; REACTIVE GAS; TEMPERATURE WINDOW; THERMAL ALD; VANADIUM PENTOXIDE; VANADYL;

EID: 65949104055     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.3133169     Document Type: Article
Times cited : (74)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.