Surface grafting of ferrocene-containing triazene derivatives on Si(100)

Chemistry of Materials

Volumn 20, Issue 23, 2008, Pages 7352-7355

  Lu, Meng ^a   He, Tao ^a   Tour, James M ^a  

^a RICE UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DIAZONIUM CHEMISTRIES; ELECTROCHEMICAL STUDIES; ELECTRON TRANSFER RATES; ELECTRON WAVES; FERROCENE; FERROCENIUM; MOLECULAR CONCENTRATIONS; REACTION TIMES; SI(100); SI(100) SURFACE; SUB NANOMETERS; TRIAZENE DERIVATIVES; X-RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPIES;

DERIVATIVES; GRAFTING (CHEMICAL); IRON COMPOUNDS; MOLECULAR SPECTROSCOPY; MULTILAYERS; PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; RATE CONSTANTS;

X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

EID: 57949104149     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm8007182     Document Type: Article

References (23)

1. Li, Q.; Mathur, G.; Gowda, S.; Surthi, S.; Zhao, Q.; Yu. L.; Lindsey, J. S.; Bocian, D. F.; Misra, V. Adv. Mater. 2004, 16, 133-137.
2. Li, Q.; Mathur, G.; Jomsi, M.; Surthi, S.; Misra, V.; Malinovskii, V.; Schweikart, K.-H.; Yu, L.; Lindsey, J. S.; Liu, Z.; Dabke, R. B.; Yasseri, A.; Bocian, D. F.; Kuhr, W. G. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 1494-1496.
3. Decker, F.; Cattaruzza, F.; Coluzza, C.; Flamini, A.; Marrani, A. G.; Zanoni, R.; Dalchiele, E. A. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 7374-7379.
4. Cossi, M.; Iozzi, M. F.; Marrani, A. G.; Lavecchia, T.; Galloni, P.; Zanoni, R.; Decker, F. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 22961-22965.
5. Bateman, J. E.; Eagling, R. D.; Worrall, D. R.; Horrocks, B. R.; Houlton, A. Angew. Chem., Int. Ed. 1998, 37, 2683-2685.
6. Kruse, P.; Johnson, E. R.; Dilabio, G. A.; Wolkow, R. A. Nano Lett. 2002, 2, 807-810.
7. Tajimi, N.; Sano, H.; Murase, K.; Lee, K.-H.; Sugimura, H. Langmuir 2007, 23, 3193-3198.
8. Dalchiele, E. A.; Aurora, A.; Bernardini, G.; Cattaruzza, F.; Flamini, A.; Pallavicini, P.; Zanoni, R.; Decker, F. J. Electroanal. Chem. 2005, 579, 133-142.
9. Balakumar, A.; Lysenko, A. B.; Carcel, C.; Malinovskii, V. L.; Gryko, D. T.; Schweikart, K.-H.; Loewe, R. S.; Yasseri, A. A.; Liu. Z.; Bocian, D. F.; Lindsey, J. S. J. Org. Chem. 2004, 69, 1435-1443.
10. Roth, K. M.; Yasseri, A. A.; Liu, Z.; Dabke, R. B.; Malinovskii, V.; Schweikart, K.-H.; Yu, L.; Tiznado, H.; Zaera, F.; Lindsey, J. S.; Kuhr, W. G.; Bocian, D. F. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 505-517.
11. Fabre, B.; Hauqueir, F. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 6848-6855.
12. Rohde, R. D.; Agnew, H. D.; Yeo, W.-S.; Bailey, R. C.; Heath. J. R. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 9518-9525.
13. Stewart, M. P.; Maya, F.; Kosynkin, D. V.; Dirk, S. M.; Stapleton, J. L.; McGuiness, C. L.; Allara, D. L.; Tour, J. M. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 370-378.
14. Chen, B.; Flatt, A. K.; Jian, H.; Hudson, J. L.; Tour, J. M. Chem. Mater. 2005, 17, 4832-4836.
15. Flatt, A. K.; Chen, B.; Tour, J. M. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 8918-8919.
16. Flatt, A. K.; Chen, B.; Taylor, P. G.; Chen, M.; Tour, J. M. Chem. Mater. 2006, 18, 4513-4518.
17. Lu, M.; Chen, B.; He, T.; Li, Y.; Tour, J. M. Chem. Mater. 2007, 19, 4447-4453.
18. He, T.; He, J.; Lu, M.; Chen, B.; Pang, H.; Reus, W. F.; Nolte, W. M.; Nackashi, D. P.; Franzon, P. D.; Tour, J. M. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 14537-14541.
19. http://www.enme.umd.edu/mml/safety.html (accessed Oct 23, 2007).
20. Shoji, F.; Oura, K. J. Nucl. Mater. 1997, 248, 443-447.
21. Woodbridge, C. M.; Pugmuir, D. L.; Johnson, R. C.; Boag, N. M.; Langell, M. A. J. Phys. Chem. B 2000, 104, 3085-3093.
22. Terada, Y.; Choi, B.-K.; Heike, S.; Fujimori, M.; Hashizume, T. J. Appl. Phys. 2003, 93, 10014-10017.
23. Laviron, E. J. Electroanal. Chem. 1979, 101, 19-28.