SCOPUS 정보 검색 플랫폼

Volumn 8, Issue 3, 2008, Pages 1073-1077

InN growth by plasma-assisted molecular beam epitaxy with indium monolayer insertion

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 55549085611 PISSN: 15287483 EISSN: 15287505 Source Type: Journal
DOI: 10.1021/cg700947g Document Type: Article

Times cited : (7)

References (13)

1
- 0141608080
- Bhuiyan, A. G.; Hashimoto, A.; Yamamoto, A. J. Appl. Phys. 2003, 94, 2779-2808.
- (2003) J. Appl. Phys , vol.94 , pp. 2779-2808
- Bhuiyan, A.G.¹ Hashimoto, A.² Yamamoto, A.³

2
- 0000038685
- Tansley, T. L.; Foley, C. P. J. Appl. Phys. 1986, 59, 3241-3244.
- (1986) J. Appl. Phys , vol.59 , pp. 3241-3244
- Tansley, T.L.¹ Foley, C.P.²

3
- 4244203187
- Davydov, V. Y.; Klochikhin, A. A.; Seisyan, R. P.; Emtsev, V. V.; Ivanov, S. V.; Bechstedt, F.; Furthmüller, J.; Harima, H.; Mudryi, A. V.; Aderhold, J.; Semchinova, O.; Graul, J. Phys. Status Solidi B 2002, 229, R1-R3.
- (2002) Phys. Status Solidi B , vol.229
- Davydov, V.Y.¹ Klochikhin, A.A.² Seisyan, R.P.³ Emtsev, V.V.⁴ Ivanov, S.V.⁵ Bechstedt, F.⁶ Furthmüller, J.⁷ Harima, H.⁸ Mudryi, A.V.⁹ Aderhold, J.¹⁰ Semchinova, O.¹¹ Graul, J.¹²

4
- 79956030105
- Wu, J.; Walukiewicz, W.; Yu, K. M.; Arger, J. W., III; Haller, E. E.; Lu, H.; Schaff, W. J.; Saito, Y.; Nanishi, Y. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 3967-3969.
- (2002) Appl. Phys. Lett , vol.80 , pp. 3967-3969
- Wu, J.¹ Walukiewicz, W.² Yu, K.M.³ Arger III, J.W.⁴ Haller, E.E.⁵ Lu, H.⁶ Schaff, W.J.⁷ Saito, Y.⁸ Nanishi, Y.⁹

5
- 0042767997
- Xu, K.; Yoshikawa, A. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 251-253.
- (2003) Appl. Phys. Lett , vol.83 , pp. 251-253
- Xu, K.¹ Yoshikawa, A.²

6
- 0038711780
- Nanishi, Y.; Saito, Y.; Yamaguchi, T. Jpn. J. Appl. Phys. 2003, 42, 2549-2559.
- (2003) Jpn. J. Appl. Phys , vol.42 , pp. 2549-2559
- Nanishi, Y.¹ Saito, Y.² Yamaguchi, T.³

7
- 0035247846
- Saito, Y.; Teraguchi, N.; Suzuki, A.; Araki, T.; Nanishi, Y. Jpn. J. Appl. Phys. 2001, 40, L91-L93.
- (2001) Jpn. J. Appl. Phys , vol.40
- Saito, Y.¹ Teraguchi, N.² Suzuki, A.³ Araki, T.⁴ Nanishi, Y.⁵

8
- 33244462383
- Walukiewicz, W.; Ager, J. W., III; Yu, K. M.; Liliental-Weber, Z.; Wu, J.; Li, S. X.; Jones, R. E.; Denlinger, J. D. J. Phys. D 2006, 39, R83-R99.
- (2006) J. Phys. D , vol.39
- Walukiewicz, W.¹ Ager III, J.W.² Yu, K.M.³ Liliental-Weber, Z.⁴ Wu, J.⁵ Li, S.X.⁶ Jones, R.E.⁷ Denlinger, J.D.⁸

9
- 61449201348
- 044913 1-6
- Yoshitani, M.; Akasaka, K.; Wang, X. Q.; Che, S. B.; Ishitani, Y.; Yoshikawa, A. J. Appl Phys. 2006, 99, 044913 1-6.
- (2006) J. Appl Phys , vol.99
- Yoshitani, M.¹ Akasaka, K.² Wang, X.Q.³ Che, S.B.⁴ Ishitani, Y.⁵ Yoshikawa, A.⁶

10
- 33947324837
- Yao, Y. Z.; Sekiguchi, T.; Sakuma, Y.; Ohashi, N. J. Cryst. Growth 2007, 301-302, 521-524.
- (2007) J. Cryst. Growth , vol.301-302 , pp. 521-524
- Yao, Y.Z.¹ Sekiguchi, T.² Sakuma, Y.³ Ohashi, N.⁴

11
- 22644451242
- Myers, T. H.; Millecchia, M. R.; Ptak, A. J.; Ziemer, K. S.; Stinespring, C. D. J. Vac. Sci. Technol. B 1999, 17, 1654-1658.
- (1999) J. Vac. Sci. Technol. B , vol.17 , pp. 1654-1658
- Myers, T.H.¹ Millecchia, M.R.² Ptak, A.J.³ Ziemer, K.S.⁴ Stinespring, C.D.⁵

12
- 19944432150
- 023509 1-8
- Liu, B.; Leone, S. R.; Kitajima, T.; Zhang, T. H.; Borca, C. J. Appl. Phys. 2005, 97, 023509 1-8.
- (2005) J. Appl. Phys , vol.97
- Liu, B.¹ Leone, S.R.² Kitajima, T.³ Zhang, T.H.⁴ Borca, C.⁵

13
- 0042767997
- Xu, K.; Yoshikawa, A. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 251-253.
- (2003) Appl. Phys. Lett , vol.83 , pp. 251-253
- Xu, K.¹ Yoshikawa, A.²

* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.