Deposition and characterization of porous low-dielectric-constant SiOC(-H) thin films deposited from TES/O2 precursors by using plasma-enhanced chemical vapor deposition

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 53, Issue 1, 2008, Pages 351-356

  Navamathavan, Rangaswamy ^a   Kim, Chang Young ^a   Jung, An Soo ^a   Choi, Chi Kyu ^a   Lee, Heon Ju ^a  

^a Jeju National University   (South Korea)

Author keywords

FTIR; Low k materials; PECVD; SiOC( H) films; TES; XPS

Indexed keywords

EID: 49649091839     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.53.351     Document Type: Conference Paper

References (26)

1. Y. Xu, Y. Tsai, K. N. Tu, B. Zhao, Q. Z. Liu, M. Brongo, G. T. T. Sheng and C. H. Tung, Appl. Phys. Lett. 75, 853 (1999).
2. M. Morgen, E. T. Ryan, J. H. Zhao, C. Hu, T. Cho and P. S. Ho, Annu. Rev. Mater. Sci. 30, 645 (2000).
3. M. Mikhail, R. Baklanov and K. Maex, Phil. Trans. R. Soc. A 364, 201 (2006).
4. K. Maex, M. R. Baklanov, D. Shamiryan, F. Lacopi, S. H. Brongersma and Z. S. Yanovitskaya, J. Appl. Phys. 93, 8790 (2003).
5. K. Endo, K. Shinoda and T. Tatsumi, J. Appl. Phys. 86, 2739 (1999).
6. K. C. Tsai, W. P. Wu and C. G. Chao, J. Electron. Mater. 35, 1523 (2006).
7. A. S. Zakirov, R. Navamathavan, Y. J. Jang, A. S. Jung, C. K. Choi and K. M. Lee, J. Korean Phys. Soc. 50, 1809 (2007).
8. C. S. Yang, Y. H. Yu, K. M. Lee, H. J. Lee and C. K. Choi, Thin Solid Films 435, 165 (2003).
9. R. Navamathavan, A. S. Jung, H. S. Kim, Y. J. Jang and C. K. Choi, J. Korean Phys. Soc. 50, 1803 (2007).
10. T. K. S. Wong, B. Liu, B. Narayanan, V. Ligatchev and R. Kumar, Thin Solid Films 462-463, 156 (2004).
11. K. Meera, C. S. Yang and C. K. Choi, J. Korean Phys. Soc. 45, S944 (2004).
12. R. Navamathavan, S. H. Kim, Y. J. Jang, A. S. Jung and C. K. Choi, Appl. Surf. Sci. 253, 8788 (2007).
13. A. Grill, V. Patel, K. P. Rodbell, E. Huang, M. R. Baklanov, K. P. Mogilnikov, M. Toney and H. C. Kim, J. Appl. Phys. 94, 3427 (2003).
14. R. M. Almedia and C. G Pantano, J. Appl. Phys. 68, 4225 (1990).
15. Y. Lin, T. Y. Tsui and J. J. Vlassak, J. Electrochem. Soc. 153, F144 (2006).
16. C. Marcolli and G. Calzaferri, J. Phys. Chem. B 101, 4925 (1997).
17. G. Socrates, Infrared and Raman Characteristic Group Frequencies, 3rd ed. (John Wiley and Sons Ltd., Lcichester, 2001), p. 242.
18. C. Marcolli and G. Calzaferri, Appl. Organometallic Chem. 13, 213 (1999).
19. C. Onneby and C. G. Pantano, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 1597 (1997).
20. J. Heo, H. J. Kim, J. H. Han and J. W. Shon, Thin Solid Films 515, 5035 (2007).
21. H. Li, T. Xu, C. Wang, J. Chen, H. Zhou and H. Liu, Diamond Relat. Mater. 15, 1585 (2006).
22. J. F. Zhao, P. Lemonie, Z.H. Liu, J. P. Quinn, P. Maguire and J. A. McLaughlin, Diamond Relat. Mater. 10, 1070 (2001).
23. A. S. Glaude, L. Thomas, E. Tomasella, J. M. Badie and R. Berjoan, Surf. Coat. Technol. 201, 174 (2006).
24. B. P. Swain, Surf. Coat. Technol. 201, 1589 (2006).
25. T. Xu, S. Yang, J. Lu, Q. Xue, J. Li, W. Guo and Y. Sun, Diamond Relat. Mater. 10, 1441 (2001).
26. I. Solomon, M. P. Schmidt, C. Senemand and M. Drisskhodja, Phys. Rev. B 38, 13263 (1988).