메뉴 건너뛰기




Volumn 155, Issue 9, 2008, Pages

Improvement of characteristics of Ga-Doped ZnO grown by pulsed laser deposition using plasma-enhanced oxygen radicals

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRON MOBILITY; GALLIUM; LASERS; METALLIC FILMS; NONMETALS; OXYGEN; PLASMA DEPOSITION; PLASMAS; PROGRAMMABLE LOGIC CONTROLLERS; PULSED LASER APPLICATIONS; PULSED LASER DEPOSITION; SEMICONDUCTING ZINC COMPOUNDS; ZINC OXIDE;

EID: 49149088872     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.2952077     Document Type: Article
Times cited : (34)

References (40)
  • 1
    • 34247326380 scopus 로고    scopus 로고
    • THSFAP 0040-6090 10.1016/j.tsf.2006.12.125.
    • H. Hosono, Thin Solid Films THSFAP 0040-6090 10.1016/j.tsf.2006.12.125, 515, 6000 (2007).
    • (2007) Thin Solid Films , vol.515 , pp. 6000
    • Hosono, H.1
  • 4
    • 36448956484 scopus 로고    scopus 로고
    • JPAPBE 0022-3727 10.1088/0022-3727/40/22/R01.
    • D. K. Hwang, M. S. Oh, J. H. Lim, and S. J. Park, J. Phys. D JPAPBE 0022-3727 10.1088/0022-3727/40/22/R01, 40, R387 (2007).
    • (2007) J. Phys. D , vol.40 , pp. 387
    • Hwang, D.K.1    Oh, M.S.2    Lim, J.H.3    Park, S.J.4
  • 5
    • 17044403452 scopus 로고    scopus 로고
    • SSTEET 0268-1242 10.1088/0268-1242/20/4/004.
    • T. Minami, Semicond. Sci. Technol. SSTEET 0268-1242 10.1088/0268-1242/20/ 4/004, 20, S35 (2005).
    • (2005) Semicond. Sci. Technol. , vol.20 , pp. 35
    • Minami, T.1
  • 14
    • 21644477594 scopus 로고
    • JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.351309.
    • J. Hu and R. Gordon, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.351309, 71, 880 (1992).
    • (1992) J. Appl. Phys. , vol.71 , pp. 880
    • Hu, J.1    Gordon, R.2
  • 16
    • 21644477594 scopus 로고
    • JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.351309.
    • T. Hu and R. Gordon, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.351309, 71, 880 (1992).
    • (1992) J. Appl. Phys. , vol.71 , pp. 880
    • Hu, T.1    Gordon, R.2
  • 19
    • 0000153566 scopus 로고    scopus 로고
    • APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1332827.
    • Y. J. Lin and C. T. Lee, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1332827, 77, 3986 (2000).
    • (2000) Appl. Phys. Lett. , vol.77 , pp. 3986
    • Lin, Y.J.1    Lee, C.T.2
  • 23
    • 28344448489 scopus 로고    scopus 로고
    • APPLAB 0003-6951 10.1063/1.2056576.
    • M. S. Oh, S. H. Kim, and T. Y. Seong, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.2056576, 87, 122103 (2005).
    • (2005) Appl. Phys. Lett. , vol.87 , pp. 122103
    • Oh, M.S.1    Kim, S.H.2    Seong, T.Y.3
  • 26
    • 0000087386 scopus 로고
    • PHMAA4 0031-8086.
    • A. H. Compton, Philos. Mag. PHMAA4 0031-8086, 45, 1121 (1923).
    • (1923) Philos. Mag. , vol.45 , pp. 1121
    • Compton, A.H.1
  • 27
    • 36149024213 scopus 로고
    • PHRVAO 0031-899X 10.1103/PhysRev.94.1593.
    • L. G. Parratt and C. F. Hempstead, Phys. Rev. PHRVAO 0031-899X 10.1103/PhysRev.94.1593, 94, 1593 (1954).
    • (1954) Phys. Rev. , vol.94 , pp. 1593
    • Parratt, L.G.1    Hempstead, C.F.2
  • 28
    • 4444377516 scopus 로고
    • PHRVAO 0031-899X 10.1103/PhysRev.131.2010.
    • Y. Yoneda, Phys. Rev. PHRVAO 0031-899X 10.1103/PhysRev.131.2010, 131, 2010 (1963).
    • (1963) Phys. Rev. , vol.131 , pp. 2010
    • Yoneda, Y.1
  • 29
    • 21544480100 scopus 로고
    • JLUMA8 0022-2313 10.1016/0022-2313(92)90047-D.
    • M. Liu, A. H. Kitai, and P. Mascher, J. Lumin. JLUMA8 0022-2313 10.1016/0022-2313(92)90047-D, 54, 35 (1992).
    • (1992) J. Lumin. , vol.54 , pp. 35
    • Liu, M.1    Kitai, A.H.2    Mascher, P.3
  • 34
    • 0842311705 scopus 로고    scopus 로고
    • APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1639515.
    • H. Kim and A. Pique, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1639515, 84, 218 (2004).
    • (2004) Appl. Phys. Lett. , vol.84 , pp. 218
    • Kim, H.1    Pique, A.2
  • 36
    • 33646202250 scopus 로고
    • PHRVAO 0031-899X 10.1103/PhysRev.93.632.
    • E. Burstein, Phys. Rev. PHRVAO 0031-899X 10.1103/PhysRev.93.632, 93, 632 (1954).
    • (1954) Phys. Rev. , vol.93 , pp. 632
    • Burstein, E.1
  • 39
    • 0016992850 scopus 로고
    • JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.323240.
    • G. Haacke, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.323240, 47, 4086 (1976).
    • (1976) J. Appl. Phys. , vol.47 , pp. 4086
    • Haacke, G.1


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.