Highly low resistance and transparent Ni/ZnO ohmic contacts to p-type GaN

Applied Physics Letters

Volumn 83, Issue 3, 2003, Pages 479-481

  Song, June O ^a   Kim, Kyoung Kook ^a   Park, Seong Ju ^a   Seong, Tae Yeon ^a  

^a Gwangju Institute of Science and Technology (GIST)   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING; ELECTRIC RESISTANCE; GALLIUM NITRIDE; NICKEL; ZINC OXIDE;

TRANSPARENT OHMIC CONTACTS;

OHMIC CONTACTS;

EID: 0042627805     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1591236     Document Type: Article

References (20)

1. S. Nakamura, T. Mukai, and M. Senoh, Appl. Phys. Lett. 64, 1687 (1994).
2. S. Nakamura, M. Senoh, N. Iwasa, and S. I. Nagahama, Appl. Phys. Lett. 67, 1868 (1995).
3. S. Nakamura, M. Senoh, S. I. Nagahama, N. Iwasa, T. Yamada, T. Matsushita, H. Kiyoku, Y. Sugimoto, T. Kozaki, H. Umemoto, M. Sano, and K. Chocho, Appl. Phys. Lett. 72, 2014 (1998).
4. J. K. Ho, C. S. Jong, C. C. Chiu, C. N. Huang, C. Y. Chen, and K. K. Shih, Appl. Phys. Lett. 74, 1275 (1999).
5. J. K. Sheu, Y. K. Su, G. C. Chi, P. L. Koh, M. J. Jou, C. M. Chang, C. C. Liu, and W. C. Hung, Appl. Phys. Lett. 74, 2340 (1999).
6. J. S. Jang, I. S. Jang, H. K. Kim, S. H. Lee, T.-Y. Seong, and S.-J. Park, Appl. Phys. Lett. 74, 70 (1999).
7. J.-S. Jang, S.-J. Park, and T.-Y. Seong, J. Electrochem. Soc. 146, 3425 (1999).
8. L. Zhou, W. Lanford, A. T. Ping, I. Adesida, J. W. Yang, and A. Khan, Appl. Phys. Lett. 76, 3451 (2000).
9. J. K. Kim, J. L. Lee, J. W. Lee, H. E. Shin, Y. J. Park, and T. Kim, Appl. Phys. Lett. 73, 2953 (1998).
10. D. J. King, L. Zhang, J. C. Ramer, S. D. Hersee, and L. F. Lester, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 468, 421 (1997).
11. T. Margalith, O. Buchinsky, D. A. Cohen, A. C. Abare, M. Hansen, S. P. DenBaars, and L. A. Coldren, Appl. Phys. Lett. 74, 3930 (1999).
12. M. Hagerott, H. Jeon, A. V. Nurmikko, W. Xie, D. C. Grillo, M. Kobayashi, and R. L. Gunshor, Appl. Phys. Lett. 60, 2825 (1992).
13. Y. C. Lin, S. J. Chang, Y. K. Su, T. Y. Tsai, C. S. Chang, S. C. Shei, C. W. Kuo, and S. C. Chen, Solid-State Electron. 47, 849 (2003).
14. R. H. Horng, D.-S. Wuu, Y.-C. Lien, and W.-H. Lan, Appl. Phys. Lett. 79, 2925 (2001).
15. G. S. Marlow and M. B. Das, Solid-State Electron. 25, 91 (1982).
16. Handbook of X-Ray Photoelectron Spectroscopy, edited by J. F. Moulder, W. F. Stickle, P. E. Sobol, and K. D. Bomben (Physical Electronics, Inc., 1995).
17. L.-S. Hsu, G.-H. Gweon, and J. W. Allen, J. Phys. Chem. Solids 60, 1627 (1999).
18. J. S. Jang and T.-Y. Seong, J. Appl. Phys. 88, 3064 (2000).
19. J.-S. Jang, S.-J. Park, T.-Y. Seong, and I. T. Ferguson, J. Electron. Mater. 31, 903 (2002).
20. J. Sun, K. A. Rickert, J. M. Redwing, A. B. Ellis, F. J. Himpsel, and T. F. Kuech, Appl. Phys. Lett. 76, 415 (2000).