-
2
-
-
0033640268
-
-
LEE, J. L. - KIM, J. K. - LEE, J. W. - PARK, Y. J. - KIM, T.: Electrochem. Solid State Lett. No. 3 (2000) 53.
-
(2000)
Electrochem. Solid State Lett. No.
, vol.3
, pp. 53
-
-
Lee, J.L.1
Kim, J.K.2
Lee, J.W.3
Park, Y.J.4
Kim, T.5
-
3
-
-
0001337473
-
-
JANG, J. S. - PARK, K. H. - JANG, H. K. - KIM, H. - PARK, S. J.: J. Vac. Sci. Technol. 29 B16 (1998) 3105;
-
(1998)
J. Vac. Sci. Technol.
, vol.29
, Issue.B16
, pp. 3105
-
-
Jang, J.S.1
Park, K.H.2
Jang, H.K.3
Kim, H.4
Park, S.J.5
-
4
-
-
33845793626
-
-
JANG, J. S. - PARK, K. H. - JANG, H. K. - KIM, H. - PARK, S. J.: J. Vac. Sci. Technol. 230 (2001) 564.
-
(2001)
J. Vac. Sci. Technol.
, vol.230
, pp. 564
-
-
Jang, J.S.1
Park, K.H.2
Jang, H.K.3
Kim, H.4
Park, S.J.5
-
5
-
-
0000297552
-
-
HORNG, R. H. - WUU, D. S. - LIEN, Y. CH. - LAN, W. H.: Appl. Phys. Let. 29 (2001) 2925.
-
(2001)
Appl. Phys. Let.
, vol.29
, pp. 2925
-
-
Horng, R.H.1
Wuu, D.S.2
Lien, Y.Ch.3
Lan, W.H.4
-
6
-
-
0032649247
-
-
KOIDE, Y. - MAEDA, T. - KAWAKAMI, T. - FUJITA, S. - UEMURA, T. - SHIBATA, N. - MURAKAMI, M.: J. Electron Mater. 28 (1999) 341.
-
(1999)
J. Electron Mater.
, vol.28
, pp. 341
-
-
Koide, Y.1
Maeda, T.2
Kawakami, T.3
Fujita, S.4
Uemura, T.5
Shibata, N.6
Murakami, M.7
-
7
-
-
0030677098
-
-
TREXLER, J. T. - PEARTON, S. J. - HOLLOWAY, P. H. - MIER, M. G. - EVANS, K. R.: Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 449, (1997) 1091.
-
(1997)
Mat. Res. Soc. Symp. Proc.
, vol.449
, pp. 1091
-
-
Trexler, J.T.1
Pearton, S.J.2
Holloway, P.H.3
Mier, M.G.4
Evans, K.R.5
-
8
-
-
0000537364
-
-
HO, J. K. - JONG, CH. S. - CHIU, CH. C. - HUANG, CH. N. - CHEN, C. Y. - SHIH, K. K: Appl. Phys. Lett. 74 (1999) 1275.
-
(1999)
Appl. Phys. Lett.
, vol.74
, pp. 1275
-
-
Ho, J.K.1
Jong, Ch.S.2
Chiu, Ch.C.3
Huang, Ch.N.4
Chen, C.Y.5
Shih, K.K.6
-
9
-
-
0000886283
-
-
HO, J. K. - JONG, CH. S. - CHIU, CH. C. - HUANG, CH. N. - SHIH, K. K. - CHEN, L. C. - CHEN, F. R. - KAI, J. J.: J. Appl. Phys. 86 (1999) 4491.
-
(1999)
J. Appl. Phys.
, vol.86
, pp. 4491
-
-
Ho, J.K.1
Jong, Ch.S.2
Chiu, Ch.C.3
Huang, Ch.N.4
Shih, K.K.5
Chen, L.C.6
Chen, F.R.7
Kai, J.J.8
-
11
-
-
0035451212
-
-
MISTELE, D. - FEDLER, F. - KLAUSING, H. - ROTTER, T. - STEMMER, J. - SEMCHINOVA, O. K. - ADERHOLD, J.: J. Cryst. Growth 230 (2001) 564.
-
(2001)
J. Cryst. Growth
, vol.230
, pp. 564
-
-
Mistele, D.1
Fedler, F.2
Klausing, H.3
Rotter, T.4
Stemmer, J.5
Semchinova, O.K.6
Aderhold, J.7
-
12
-
-
0001597512
-
-
CHEN, L. C. - HO, J. K. - JONG, CH. S. - CHIU, CH. C. - SHIH, K. K. - CHEN, F. R. - KAI, J. J. - CHANG, L.: J. Appl. Phys. 76 (2000) 3703.
-
(2000)
J. Appl. Phys.
, vol.76
, pp. 3703
-
-
Chen, L.C.1
Ho, J.K.2
Jong, Ch.S.3
Chiu, Ch.C.4
Shih, K.K.5
Chen, F.R.6
Kai, J.J.7
Chang, L.8
-
16
-
-
0037132193
-
-
NARAYAN, J. - WANG, H. - OH, T. H. - CHOI, H. K. - FAN, J. C. C.: Appl. Phys. Lett. 81 (2002) 3978.
-
(2002)
Appl. Phys. Lett.
, vol.81
, pp. 3978
-
-
Narayan, J.1
Wang, H.2
Oh, T.H.3
Choi, H.K.4
Fan, J.C.C.5
-
18
-
-
0037168489
-
-
HOTOVÝ, I. - HURAN, J. - SPIESS, L. - LIDAY, J. - SITTER, H. - HAŠČÍK, Š.: Vacuum 69 (2003) 237.
-
(2003)
Vacuum
, vol.69
, pp. 237
-
-
Hotový, I.1
Huran, J.2
Spiess, L.3
Liday, J.4
Sitter, H.5
Haščík, Š.6
|