Stable field emission from tetrapod-like ZnO nanostructures

Applied Physics Letters

Volumn 85, Issue 4, 2004, Pages 636-638

  Li, Q H ^a   Wan, Q ^a   Chen, Y J ^a   Wang, T H ^a   Jia, H B ^b   Yu, D P ^b  

^a INSTITUTE OF PHYSICS   (China)

^b PEKING UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CONCENTRATION (PROCESS); ELECTRIC POTENTIAL; ELECTRON EMISSION; ELECTRON TUNNELING; FIELD EMISSION CATHODES; GOLD; MICROELECTRONICS; PHOTOLUMINESCENCE; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SILICON; SYNTHESIS (CHEMICAL); TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY; ZINC OXIDE;

ELECTRONIC FIELDS; EMISSION CURRENT DENSITY; EMISSION STABILITY;

NANOSTRUCTURED MATERIALS;

EID: 4043147737     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1773613     Document Type: Article

References (19)

1. Y. W. Zhu, H. Z. Zhang, X. C. Sun, S. Q. Feng, J. Xu, Q. Zhao, B. Xiang, R. M. Wang, and D. P. Yu, Appl. Phys. Lett. 83, 144 (2003).
2. H. Jia, Y. Zhang, X. Chen, J. Shu, X. Luo, Z. Zhang, and D. P. Yu, Appl. Phys. Lett. 82, 4146 (2003).
3. Q. Wan, K. Yu, T. H. Wang, and C. L. Lin, Appl. Phys. Lett. 83, 2253 (2003).
4. J.-M. Bonardi J.-P. Salvetat, T. Stockli, W. A. Heer, L. Forro, and A. Chatelain, Appl. Phys. Lett. 73, 918 (1998).
5. C. W. Oh, C. G. Lee, B. G. Park, J. D. Lee, and J. H. Lee, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 807 (1998).
6. Y. B. Li, Y. Bando, D. Golberg, and K. Kurashima, Appl. Phys. Lett. 81, 5048 (2002).
7. L. R. Baylor, V. I. Merkulov, E. D. Ellis, M. A. Guillorn, D. H. Lowndes, A. V. Melechko, M. L. Simpson, and J. H. Whealton, J. Appl. Phys. 91, 4602 (2002).
8. K. A. Dean and B. R. Chalamala, Appl. Phys. Lett. 76, 375 (2000).
9. J. Chen, S. Z. Deng, N. S. Xu, S. Wang, X. Wen, S. Yang, C. Yang, J. Wang, and W. Ge, Appl. Phys. Lett. 80, 3620 (2002).
10. W. B. Choi, D. S. Chung, J. H. Kang, H. Y. Kim, W. Jin, I. T. Han, Y. H. Lee, J. E. Jung, N. S. Lee, G. S. Park, and J. M. Kim, Appl. Phys. Lett. 75, 3129 (1999).
11. S. H. Jo, J. Y. Luo, Z. F. Ren, R. A. Farrer, T. Baldacchini, and J. T. Fourkas, Appl. Phys. Lett. 83, 4821 (2003).
12. L. Dong, J. Jiao, D. W. Tuggle, J. Petty, S. A. Elliff, and M. Coulter, Appl. Phys. Lett. 82, 1096 (2003).
13. C. J. Lee, T. J. Lee, S. C. Lyu, Y. Zhang, H. Ruh, and H. J. Lee, Appl. Phys. Lett. 81, 3648 (2002).
14. W. K. Wong, F. Y. Meng, Q. Li, F. C. K. Au, I. Bello, and S. T. Lee, Appl. Phys. Lett. 80, 877 (2002).
15. W. Zhu, G. P. Kochanski, and S. Jin, Science 282, 1471 (1998).
16. J. B. Cui, K. B. K. Teo, J. T. H. Tsai, J. Robertson, and W. I. Milne, Appl. Phys. Lett. 77, 1831 (2000).
17. H. Murakami, M. Hirakawa, C. Tanaka, and H. Yamakawa, Appl. Phys. Lett. 76, 3813 (1999).
18. T. Hirano, S. Kanemaru, and J. Itoh, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 3357 (1996).
19. G. Pirio, P. Legagneux, D. Pribat, K. B. K. Teo, M. Chhowalla, G. A. J. Amaratunga, and W. I. Milne, Nanotechnology 14, 1 (2002).